[實(shí)用新型]一種不良地質(zhì)下臨時(shí)橫通道拱部注漿支護(hù)結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201922181839.0 | 申請日: | 2019-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN211081890U | 公開(公告)日: | 2020-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓超;張利軍;張林;肖先;劉金明 | 申請(專利權(quán))人: | 中鐵二十局集團(tuán)第四工程有限公司 |
| 主分類號: | E21D11/10 | 分類號: | E21D11/10;E21D11/12;E21D11/18 |
| 代理公司: | 西安創(chuàng)知專利事務(wù)所 61213 | 代理人: | 譚文琰 |
| 地址: | 266061 山東省青島市嶗山區(qū)*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 不良 地質(zhì) 臨時(shí) 通道 拱部注漿 支護(hù) 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種不良地質(zhì)下臨時(shí)橫通道拱部注漿支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:包括均設(shè)置在臨時(shí)橫通道(1)上對臨時(shí)橫通道(1)拱部進(jìn)行支護(hù)的拱部支護(hù)結(jié)構(gòu)和對臨時(shí)橫通道(1)側(cè)墻進(jìn)行支護(hù)的側(cè)墻支護(hù)結(jié)構(gòu);
所述拱部支護(hù)結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在臨時(shí)橫通道(1)拱部外側(cè)面頂端的第一拱部注漿孔(2)和對稱設(shè)置在臨時(shí)橫通道(1)拱部外側(cè)面且靠近起拱線的第二拱部注漿孔(3),所述第一拱部注漿孔(2)和第二拱部注漿孔(3)之間設(shè)置有第三拱部注漿孔(4),所述第一拱部注漿孔(2)布設(shè)在臨時(shí)橫通道(1)的中軸線上,所述第一拱部注漿孔(2)、第二拱部注漿孔(3)和第三拱部注漿孔(4)的結(jié)構(gòu)尺寸均相同,所述第一拱部注漿孔(2)、兩個(gè)第二拱部注漿孔(3)和兩個(gè)第三拱部注漿孔(4)沿所述臨時(shí)橫通道(1)拱部外側(cè)面的彎曲方向布設(shè)且其圍成的弧形與臨時(shí)橫通道(1)拱部的弧形呈同心圓布設(shè);所述拱部注漿孔內(nèi)設(shè)置有對臨時(shí)橫通道(1)拱部進(jìn)行注漿的第一注漿管,所述第一注漿管的數(shù)量與所述拱部注漿孔的數(shù)量相等且一一對應(yīng);
所述側(cè)墻支護(hù)結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在臨時(shí)橫通道(1)一側(cè)側(cè)墻上的第一側(cè)墻支護(hù)裝置和設(shè)置在臨時(shí)橫通道(1)另一側(cè)的第二側(cè)墻支護(hù)裝置,所述第一側(cè)墻支護(hù)裝置包括設(shè)置在臨時(shí)橫通道(1)拱部外側(cè)面起拱線上的第一側(cè)墻注漿孔(6)和設(shè)置在臨時(shí)橫通道(1)側(cè)墻上的第二側(cè)墻注漿孔(7),所述第二側(cè)墻注漿孔(7)位于第一側(cè)墻注漿孔(6)的下方,所述第一側(cè)墻注漿孔(6)和第二側(cè)墻注漿孔(7)之間設(shè)置有第三側(cè)墻注漿孔(8),所述第一側(cè)墻注漿孔(6)、第二側(cè)墻注漿孔(7)和第三側(cè)墻注漿孔(8)布設(shè)在同一豎直平面內(nèi);所述第二側(cè)墻支護(hù)裝置包括設(shè)置在臨時(shí)橫通道(1)拱部外側(cè)面起拱線延長線上的第四側(cè)墻注漿孔(10)和設(shè)置在第四側(cè)墻注漿孔(10)下方的第五側(cè)墻注漿孔(11),所述第四側(cè)墻注漿孔(10)和第五側(cè)墻注漿孔(11)之間設(shè)置有第六側(cè)墻注漿孔(12),所述第四側(cè)墻注漿孔(10)、第五側(cè)墻注漿孔(11)和第六側(cè)墻注漿孔(12)布設(shè)在同一豎直平面內(nèi);所述側(cè)墻注漿孔內(nèi)設(shè)置有對臨時(shí)橫通道(1)側(cè)墻進(jìn)行注漿的第二注漿管,所述第二注漿管的數(shù)量與所述側(cè)墻注漿孔的數(shù)量相等且一一對應(yīng)。
2.按照權(quán)利要求1所述的一種不良地質(zhì)下臨時(shí)橫通道拱部注漿支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一拱部注漿孔(2)的中心與第三拱部注漿孔(4)中心之間的垂直距離H1為156mm,所述第三拱部注漿孔(4)的中心與第二拱部注漿孔(3)中心之間的垂直距離H2為453mm。
3.按照權(quán)利要求1所述的一種不良地質(zhì)下臨時(shí)橫通道拱部注漿支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述拱部注漿孔沿臨時(shí)橫通道(1)的延伸方向斜向布設(shè)且其中軸線與水平面之間的夾角α為24°。
4.按照權(quán)利要求1所述的一種不良地質(zhì)下臨時(shí)橫通道拱部注漿支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述拱部注漿孔的一端開設(shè)在臨時(shí)橫通道(1)拱部外側(cè)面的端面上,所述拱部注漿孔的另一端延伸至靠近隧道(5)拱部外側(cè)面的前側(cè)且其與隧道(5)拱部外側(cè)面之間的水平距離L1為1150mm~1250mm;同一個(gè)所述拱部注漿孔兩個(gè)端面之間的水平距離L2為7000mm~8000mm。
5.按照權(quán)利要求1所述的一種不良地質(zhì)下臨時(shí)橫通道拱部注漿支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一側(cè)墻注漿孔(6)和第四側(cè)墻注漿孔(10)的結(jié)構(gòu)尺寸均相同且二者布設(shè)在同一水平面上,所述第二側(cè)墻注漿孔(7)和第五側(cè)墻注漿孔(11)的結(jié)構(gòu)尺寸均相同且二者布設(shè)在同一水平面上,所述第三側(cè)墻注漿孔(8)和第六側(cè)墻注漿孔(12)的結(jié)構(gòu)尺寸均相同且二者布設(shè)在同一水平面上。
6.按照權(quán)利要求5所述的一種不良地質(zhì)下臨時(shí)橫通道拱部注漿支護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一側(cè)墻注漿孔(6)的中心與所述第三側(cè)墻注漿孔(8)中心之間的垂直距離H3為58mm,所述第二側(cè)墻注漿孔(7)的中心與所述第三側(cè)墻注漿孔(8)中心之間的垂直距離H4為385mm;所述第二拱部注漿孔(3)的中心與第一側(cè)墻注漿孔(6)中心之間的垂直距離H5為319mm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中鐵二十局集團(tuán)第四工程有限公司,未經(jīng)中鐵二十局集團(tuán)第四工程有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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