[實用新型]一種用于高位水處理器的斜管沉淀室

有效

• 申請號: 201922167458.7
• 申請日: 2019-12-06
• 公開（公告）號: CN212262471U
• 公開（公告）日: 2021-01-01
• 發明（設計）人: 查雄軍;潘文娥;潘霞
• 申請（專利權）人: 云南融慧新材料環保科技有限公司
• 主分類號: B01D21/02
• 分類號: B01D21/02
• 代理公司: 北京立成智業專利代理事務所(普通合伙) 11310
• 代理人: 奚益民

1.一種用于高位水處理器的斜管沉淀室，包括主沉淀腔室(1)，其特征是：所述的主沉淀腔室(1)上端開設有多個頂部斜置安裝插孔(2)，所述的頂部斜置安裝插孔(2)內部插接有與高位水箱底部排水口相連通的頂部斜置輸水管(3)，所述的主沉淀腔室(1)內部位于頂部斜置輸水管(3)下端出水口位置固定連接有橫置導水管(4)，所述的主沉淀腔室(1)左側外壁下端開設有內置翻轉密封板的下出水孔(5)，所述的主沉淀腔室(1)左側外壁上端開設有內置翻轉密封板的上進水孔(6)，所述的主沉淀腔室(1)左側外壁對應下出水孔(5)和上進水孔(6)位置開設有縱向裝配槽(7)，所述的縱向裝配槽(7)內部插接有用于連通下出水孔(5)和上進水孔(6)的側向分體式沉淀盒。

2.根據權利要求1所述的一種用于高位水處理器的斜管沉淀室，其特征是：所述的側向分體式沉淀盒包括側向具有上置橫向輸水管(8)的頂置盒體(9)、側向具有下置橫向輸水管(10)的中置盒體(11)和可拆卸固定在中置盒體(11)下端的底置盒體(12)，所述的頂置盒體(9)通過上置橫向輸水管(8)插入上進水孔(6)內部和主沉淀腔室(1)內部相連通，所述的中置盒體(11)通過下置橫向輸水管(10)插入下出水孔(5)內部和主沉淀腔室(1)內部相連通。

3.根據權利要求1所述的一種用于高位水處理器的斜管沉淀室，其特征是：所述的下出水孔(5)和上進水孔(6)內側面上開設有用于安裝翻轉密封板的內部調節槽(13)，所述的主沉淀腔室(1)左側內壁位于內部調節槽(13)內部開口位置固定連接有用于連接橫置導水管(4)的內部連接罩(14)。

4.根據權利要求1所述的一種用于高位水處理器的斜管沉淀室，其特征是：所述的翻轉密封板包括固定在內部調節槽(13)內部的橫向轉軸、活動連接在橫向轉軸上的頂部支架(16)、固定在頂部支架(16)下端的翻轉蓋板(17)和固定在翻轉蓋板(17)內側面下端用于控制翻轉蓋板(17)向下翻轉復位的內部配重塊(18)。

5.根據權利要求2所述的一種用于高位水處理器的斜管沉淀室，其特征是：所述的中置盒體(11)下端具有向下凸起的一體結構裝配框(19)，所述的底置盒體(12)內側面上端開設有與裝配框(19)相配合的裝配槽(20)，所述的裝配框(19)外側面上通過側向轉軸活動連接有側向彈性限位塊(21)，所述的裝配槽(20)內側面上開設有與側向轉軸相配合的縱向插槽(22)，所述的底置盒體(12)外側面位于縱向插槽(22)下端開設有與側向彈性限位塊(21)相配合的側向限位卡槽(23)，所述的側向彈性限位塊(21)通過內置彈性控制插入側向限位卡槽(23)內部將中置盒體(11)和底置盒體(12)固定連接。

6.根據權利要求1所述的一種用于高位水處理器的斜管沉淀室，其特征是：所述的下出水孔(5)內孔徑和上進水孔(6)內孔徑大小相同。