[實(shí)用新型]鍍膜設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201922152448.6
• 申請日: 2019-12-04
• 公開（公告）號: CN211814641U
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宗堅(jiān);單偉;蘭竹瑤
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇菲沃泰納米科技有限公司
• 主分類號: C23C16/515
• 分類號: C23C16/515;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/02
• 代理公司: 寧波理文知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 羅京;王麗芳

1.一鍍膜設(shè)備，供至少一待鍍膜工件鍍膜，其特征在于，包括：

一反應(yīng)腔體，其中所述反應(yīng)腔體具有一反應(yīng)腔；

一氣體供給部，其中所述氣體供給部用于向所述反應(yīng)腔供給氣體；

一進(jìn)料裝置，其中所述進(jìn)料裝置被可連通地于所述反應(yīng)腔地連接于所述反應(yīng)腔體；

一抽氣裝置，其中所述抽氣裝置被可連通于所述反應(yīng)腔地連接于所述反應(yīng)腔體，所述抽氣裝置用于抽取所述反應(yīng)腔內(nèi)的氣體以控制真空度；以及

一脈沖電源，其中所述脈沖電源用于向所述反應(yīng)腔體提供脈沖電場，其中多個該待鍍膜工件被保持于所述反應(yīng)腔，當(dāng)所述脈沖電源被連通，所述反應(yīng)腔體內(nèi)的氣體在脈沖電場的作用下電離產(chǎn)生等離子體并且等離子體朝向該鍍膜工件的表面沉積。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，進(jìn)一步包括一射頻電源，其中所述射頻電源用于向所述反應(yīng)腔體提供射頻電場，當(dāng)所述射頻電源被接通，等離子體在脈沖電場和射頻電場的作用下朝向該待鍍膜工件的表面沉積。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜設(shè)備，進(jìn)一步包括至少一電極，其中至少一所述電極作為所述脈沖電源的陰極被設(shè)置在該鍍膜工件的一側(cè)以使等離子體中的正離子加速朝向該鍍膜工件運(yùn)動。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜設(shè)備，其中至少一所述電極作為所述脈沖電源的陰極被設(shè)置在該鍍膜工件的另一側(cè)以形成所述脈沖電場。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜設(shè)備，其中至少一所述電極作為所述脈沖電源的陽極被設(shè)置在所述反應(yīng)腔體。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜設(shè)備，進(jìn)一步包括一多層支架，其中所述多層支架包括多個支撐件，所述支撐件被保持預(yù)設(shè)間隔地保持于所述反應(yīng)腔，其中多個該待鍍膜工件被分別支撐于所述支撐件，其中作為所述脈沖電源的陰極的所述電極被設(shè)置于至少一所述支撐件。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜設(shè)備，進(jìn)一步包括一多層支架，其中所述多層支架包括多個支撐件，其中多個該待鍍膜工件被分別支撐于所述支撐件，其中至少一個所述支撐件作為所述脈沖電源的陰極。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的鍍膜設(shè)備，其中至少一個所述支撐件作為所述射頻電源的電極。

9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的鍍膜設(shè)備，其中至少一個所述支撐件作為所述脈沖電源的陽極。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜設(shè)備，其中作為所述射頻電源的電極位于該待鍍膜工件的上方并且該待鍍膜工件被支撐于作為所述脈沖電源的陰極的所述支撐件。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鍍膜設(shè)備，其中作為所述脈沖電源的陽極的所述支撐件位于該待鍍膜工件的上方并且該待鍍膜工件被支撐于作為所述脈沖電源的陰極的所述支撐件。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鍍膜設(shè)備，其中作為所述脈沖電源的陰極的所述支撐件和作為所述脈沖電源的陽極的所述支撐件被交替布置。

13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鍍膜設(shè)備，其中所述多層支架的至少一層被作為所述氣體供給部，并且作為所述氣體供給部的所述支撐件位于該待鍍膜工件的上方。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的鍍膜設(shè)備，其中作為所述氣體供給部所述支撐件包括一頂板和一底板，其中所述頂板和所述底板之間預(yù)留空間供氣體暫存，所述底板形成至少一出氣口，以使得氣體自該待鍍膜工件的上方位置逸出。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的鍍膜設(shè)備，其中作為所述氣體供給部的所述支撐件和作為所述脈沖電源的陰極的所述支撐件被交替布置。

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的鍍膜設(shè)備，其中所述出氣口被均勻地布置在該鍍膜工件的上方。