[實用新型]一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)以及乳腺檢測裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201922143700.7 | 申請日： | 2019-12-03 |
| 公開（公告）號： | CN211883839U | 公開（公告）日： | 2020-11-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳旭;吳濤;楊子寒 | 申請（專利權(quán)）人： | 達影醫(yī)療（中山）有限公司 |
| 主分類號： | A61B6/08 | 分類號： | A61B6/08 |
| 代理公司： | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人： | 何嘉杰 |
| 地址： | 528437 廣東省中*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 標(biāo)識 射線 aec 區(qū)域 光學(xué) 機構(gòu) 以及 乳腺 檢測 裝置 | ||
1.一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)，其特征在于，包括：
X射線發(fā)射組件以及透光的限位件，X射線發(fā)射組件能夠朝向所述限位件發(fā)射X射線；
X射線接收組件，與所述限位件之間具有能夠容置空間并且能夠接收穿過所述限位件后的X射線；
投射組件，能夠發(fā)射可見的投射光線以形成用于標(biāo)識AEC區(qū)域的標(biāo)識圖層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)，其特征在于：所述投射組件包括沿投射光線出射方向依次排列的投射光源、投射底片以及投射透鏡，投射底片上設(shè)置有標(biāo)識圖層的投射圖樣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)，其特征在于：所述限位件與所述X射線接收組件能夠相互靠近或者遠離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)，其特征在于：還包括位移驅(qū)動部件，所述位移驅(qū)動部件分別與X射線接收組件以及限位件連接以驅(qū)使所述限位件與所述X射線接收組件能夠相互靠近或者遠離。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)，其特征在于：所述標(biāo)識圖層包括條形圖案，所述條形圖案包括多個沿長度方向設(shè)置的矩形框。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)，其特征在于：所述限位件為透光的亞克力板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)，其特征在于：所述標(biāo)識圖層位于所述限位件的中部。
8.一種乳腺檢測裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-7任一項所述的一種標(biāo)識X射線AEC區(qū)域光學(xué)機構(gòu)。
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