[實(shí)用新型]一種散射膜及電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201922121525.1 | 申請日： | 2019-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN211376941U | 公開（公告）日： | 2020-08-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 蘇陟;高強(qiáng) | 申請（專利權(quán)）人： | 廣州方邦電子股份有限公司 |
| 主分類號： | H01Q15/02 | 分類號： | H01Q15/02;H01Q15/14;H01Q19/06;H01Q19/10 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 510663 廣東省廣州市高*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 散射 電子設(shè)備 | ||
1.一種散射膜，其特征在于，包括：
導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層上開設(shè)有貫穿所述導(dǎo)電層的第一通孔，所述第一通孔可供電磁波通過，所述第一通孔的孔徑小于所述電磁波的波長；
發(fā)散層，設(shè)置于所述導(dǎo)電層的第一表面，所述發(fā)散層至少包括所述電磁波可透射的結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，所述發(fā)散層包括基材，所述基材上開設(shè)有多個貫穿所述基材的第二通孔，所述第二通孔可供電磁波通過，所述第二通孔的孔徑小于所述電磁波的波長。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的散射膜，其特征在于，在至少一個預(yù)設(shè)方向上所述第二通孔的數(shù)量和/或孔徑呈連續(xù)變化的趨勢，所述預(yù)設(shè)方向為所述發(fā)散層表面內(nèi)的任意方向。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的散射膜，其特征在于，每一所述第一通孔對應(yīng)一所述第二通孔，所述第一通孔和所述第一通孔對應(yīng)的第二通孔在垂直于所述導(dǎo)電層的方向上至少部分交疊。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的散射膜，其特征在于，
多個所述第二通孔呈陣列排布，沿所述預(yù)設(shè)方向所述第二通孔的孔徑呈現(xiàn)中間大、兩邊小或中間小、兩邊大的變化趨勢，或者，
多個所述第二通孔呈陣列排布，沿所述預(yù)設(shè)方向所述第二通孔的孔徑呈現(xiàn)連續(xù)增大或連續(xù)減小的變化趨勢。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的散射膜，其特征在于，
多個所述第二通孔呈陣列排布，沿所述預(yù)設(shè)方向所述第二通孔的數(shù)量呈現(xiàn)中間多、兩邊少或中間少、兩邊多的變化趨勢，或者，
多個所述第二通孔呈陣列排布，沿所述預(yù)設(shè)方向所述第二通孔的數(shù)量呈現(xiàn)連續(xù)增多或連續(xù)減少的變化趨勢。
7.根據(jù)權(quán)利要求3-6任一所述的散射膜，其特征在于，所述第二通孔內(nèi)填充有可供電磁波透射的介質(zhì)材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的散射膜，其特征在于，沿所述預(yù)設(shè)方向所述介質(zhì)材料的對入射的電磁波的折射率呈現(xiàn)中間小、兩邊大的變化趨勢。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，所述發(fā)散層包括基材，所述基材上開設(shè)有多個貫穿所述基材的第二通孔，所述第二通孔內(nèi)填充有可供電磁波透射的介質(zhì)材料，在至少一個預(yù)設(shè)方向上，所述介質(zhì)材料對入射的電磁波的折射率呈現(xiàn)中間小、兩邊大的變化趨勢，所述預(yù)設(shè)方向為所述發(fā)散層表面內(nèi)的任意方向。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，還包括第一凸起結(jié)構(gòu)，所述第一凸起結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述發(fā)散層遠(yuǎn)離所述導(dǎo)電層的一側(cè)，當(dāng)電磁波經(jīng)過所述第一凸起結(jié)構(gòu)時發(fā)生反射。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的散射膜，其特征在于，所述第一凸起結(jié)構(gòu)包括多個凸部，相鄰所述凸部的距離小于所述電磁波的波長。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的散射膜，其特征在于，還包括保護(hù)層，所述保護(hù)層設(shè)置于所述發(fā)散層遠(yuǎn)離所述導(dǎo)電層的一側(cè)，所述第一凸起結(jié)構(gòu)伸入所述保護(hù)層。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射膜，其特征在于，還包括連接層，所述連接層設(shè)置于所述導(dǎo)電層的第二表面，所述第二表面為與所述第一表面相對的表面。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的散射膜，其特征在于，還包括第二凸起結(jié)構(gòu)，所述第二凸起結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述導(dǎo)電層的第二表面，所述第二凸起結(jié)構(gòu)伸入所述連接層。
15.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-14任一項所述的散射膜，還包括天線裝置，所述天線裝置的一表面與所述散射膜連接。
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