[實(shí)用新型]彩膜基板、顯示面板和顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201922120764.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN210720945U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 閆春龍;李平福;王龍;甄龍;李建軍;代帥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438 | 代理人: | 王輝;闞梓瑄 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彩膜基板 顯示 面板 顯示裝置 | ||
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N彩膜基板、顯示面板和顯示裝置,屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。彩膜基板包括基板、遮光部和濾光層,基板包括顯示區(qū)和圍繞顯示區(qū)的第一虛擬像素區(qū);遮光部設(shè)于基板上,包括第一遮光部和第二遮光部,第一遮光部位于顯示區(qū)且具有多個(gè)開(kāi)口,第二遮光部覆蓋第一虛擬像素區(qū);濾光層設(shè)于遮光部遠(yuǎn)離基板的一側(cè),包括第一濾光層和第二濾光層,第一濾光層包括一一對(duì)應(yīng)地填充于多個(gè)開(kāi)口的多個(gè)濾光單元,第二濾光層覆蓋第二遮光部。該彩膜基板像素結(jié)構(gòu)牢固,可以適用于接近式曝光機(jī)生產(chǎn),在與陣列基板對(duì)合時(shí)能夠平整,液晶分子分布均勻,保證顯示效果一致。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種彩膜基板,以及包含該彩膜基板的顯示面板和顯示裝置。
背景技術(shù)
彩膜基板為液晶顯示面板的關(guān)鍵零組件。在制作彩膜基板時(shí),往往會(huì)在非顯示區(qū)設(shè)置具有支撐作用的虛擬像素(即黑矩陣和RGB濾光膜層),使非顯示區(qū)和顯示區(qū)具有一致的厚度,保證彩膜基板和陣列基板能夠嚴(yán)密對(duì)合,避免液晶顯示面板邊緣發(fā)黃。
為了提高彩膜基板的生產(chǎn)效率,往往會(huì)利用一個(gè)玻璃基板通過(guò)一套掩膜版加工出多個(gè)大小不同的彩膜基板。在對(duì)小尺寸彩膜基板進(jìn)行掩膜曝光時(shí),需要對(duì)掩膜版周邊區(qū)域進(jìn)行遮擋,通常虛擬像素區(qū)會(huì)有一部分被遮擋。在采用接近式曝光機(jī)曝光時(shí),掩膜版和曝光平面之間會(huì)存在一定間距,由于光線傳播有一定的偏轉(zhuǎn),曝光平面會(huì)有一片區(qū)域曝光時(shí)呈虛化狀態(tài),曝光虛化會(huì)導(dǎo)致該區(qū)域的虛擬像素結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性變差,容易脫落,從而使彩膜基板厚度不均,彩膜基板和陣列基板對(duì)合后容易出現(xiàn)液晶分子分布不均的現(xiàn)象,導(dǎo)致顯示面板發(fā)黃,也會(huì)導(dǎo)致面板不良率升高。因此,提高虛化曝光區(qū)的虛擬像素結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性是保證顯示效果的重要因素。
需要說(shuō)明的是,在上述背景技術(shù)部分實(shí)用新型的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本申請(qǐng)的背景的理解,因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
實(shí)用新型內(nèi)容
本申請(qǐng)的目的在于提供一種彩膜基板、顯示面板和顯示裝置,解決現(xiàn)有技術(shù)存在的一種或多種問(wèn)題。
根據(jù)本申請(qǐng)的一個(gè)方面,提供一種彩膜基板,包括:
基板,包括顯示區(qū)和圍繞所述顯示區(qū)的第一虛擬像素區(qū);
遮光部,設(shè)于所述基板上,包括第一遮光部和第二遮光部,所述第一遮光部位于所述顯示區(qū)且具有多個(gè)開(kāi)口,所述第二遮光部覆蓋所述第一虛擬像素區(qū);
濾光層,設(shè)于所述遮光部遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè),包括第一濾光層和第二濾光層,所述第一濾光層包括多個(gè)濾光單元,所述多個(gè)濾光單元一一對(duì)應(yīng)地填充于所述多個(gè)開(kāi)口,所述第二濾光層覆蓋所述第二遮光部。
在本申請(qǐng)的一種示例性實(shí)施例中,所述第一濾光層表面至所述基板的距離等于所述第二濾光層表面至所述基板的距離。
在本申請(qǐng)的一種示例性實(shí)施例中,所述基板還包括圍繞所述顯示區(qū)的第二虛擬像素區(qū),所述遮光部還包括第三遮光部,所述第三遮光部覆蓋所述第二虛擬像素區(qū);所述濾光層還包括第三濾光層,所述第三濾光層覆蓋所述第二虛擬像素區(qū)。
在本申請(qǐng)的一種示例性實(shí)施例中,所述第一濾光層表面至所述基板的距離等于所述第三濾光層表面至所述基板的距離。
在本申請(qǐng)的一種示例性實(shí)施例中,所述第一遮光部、第二遮光部和第三遮光部厚度相等,所述第一濾光層表面至所述基板的距離、第二濾光層表面至所述基板的距離和第三濾光層表面至所述基板的距離相等。
在本申請(qǐng)的一種示例性實(shí)施例中,所述第二濾光層和第三濾光層為相同顏色的單色濾光層。
在本申請(qǐng)的一種示例性實(shí)施例中,所述單色濾光層為紅色濾光層、綠色濾光層或藍(lán)色濾光層。
在本申請(qǐng)的一種示例性實(shí)施例中,所述第一虛擬像素區(qū)的寬度不小于4mm。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





