[實(shí)用新型]一種基于硒化鉍可飽和吸收體的X型被動(dòng)鎖模脈沖激光器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201922103775.2 | 申請日: | 2019-11-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210577007U | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 常建華;陳思成;張露瑤;陳恬恬;戴騰飛;劉海洋;戴瑞 | 申請(專利權(quán))人: | 南京信息工程大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01S3/098 | 分類號(hào): | H01S3/098;H01S3/11;H01S3/16 |
| 代理公司: | 南京匯盛專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32238 | 代理人: | 張立榮;喬煒 |
| 地址: | 210044 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 硒化鉍可 飽和 吸收體 被動(dòng) 脈沖 激光器 | ||
1.一種基于硒化鉍可飽和吸收體的X型被動(dòng)鎖模脈沖激光器,其特征在于:包括半導(dǎo)體激光器、耦合透鏡組、第一平凹鏡、Yb:KYW晶體、第二平凹鏡、平面反射鏡、硒化鉍可飽和吸收體和輸出鏡;所述半導(dǎo)體激光器產(chǎn)生的連續(xù)光中心波長為980 nm,連續(xù)光依次透過耦合透鏡組和第一平凹鏡入射到Y(jié)b:KYW晶體,連續(xù)光透過Yb:KYW晶體后入射到第二平凹鏡,經(jīng)第二平凹鏡反射到達(dá)平面反射鏡,然后被平面反射鏡反射并原路返回至第一平凹鏡,經(jīng)第一平凹鏡反射至硒化鉍可飽和吸收體,連續(xù)光透過過硒化鉍可飽和吸收體后經(jīng)輸出鏡輸出1030 nm波段的激光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于硒化鉍可飽和吸收體的X型被動(dòng)鎖模脈沖激光器,其特征在于:所述第一平凹鏡鍍有980 nm增透膜和1030nm高反膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于硒化鉍可飽和吸收體的X型被動(dòng)鎖模脈沖激光器,其特征在于:所述Yb:KYW晶體朝向半導(dǎo)體激光器的一面鍍有980 nm增透膜和1030 nm高反膜,背向半導(dǎo)體激光器的一面鍍有1030 nm的增透膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于硒化鉍可飽和吸收體的X型被動(dòng)鎖模脈沖激光器,其特征在于:所述第二平凹鏡鍍有1030 nm高反膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于硒化鉍可飽和吸收體的X型被動(dòng)鎖模脈沖激光器,其特征在于:所述平面反射鏡鍍有1030nm高反膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于硒化鉍可飽和吸收體的X型被動(dòng)鎖模脈沖激光器,其特征在于:所述輸出鏡鍍有1030 nm高反膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述基于硒化鉍可飽和吸收體的X型被動(dòng)鎖模脈沖激光器,其特征在于:所述輸出鏡透過率是5%。
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