[實用新型]利于氣液充分接觸的填料體

有效

• 申請號: 201922058557.1
• 申請日: 2019-11-26
• 公開（公告）號: CN211329409U
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 李有為;車曉軒;魏宏博;姜子豪;鄔建華
• 申請（專利權）人: 藍太克環保科技（上海）有限公司
• 主分類號: B01J19/32
• 分類號: B01J19/32
• 代理公司: 蘇州周智專利代理事務所(特殊普通合伙) 32312
• 代理人: 周雅卿

1.一種利于氣液充分接觸的填料體，其特征在于：包括上層填料框架(1)和下層填料框架(2)，所述上層填料框架向下延伸形成卡接柱，所述下層填料框架設有與所述卡接柱匹配的定位孔(21)，所述卡接柱插入所述定位孔以實現上層填料框架和下層填料框架的固定；

所述上層填料框架的中心設有定位柱(11)，所述定位柱與上層筋條(12)連接，所述上層筋條和所述上層填料框架連接，所述下層填料框架的中心設有與所述定位柱相對應的定位套筒(22)，所述定位套筒和下層筋條(23)連接，所述下層筋條和所述下層填料框架連接；

相鄰所述上層筋條之間及相鄰所述下層筋條之間皆設有環形的分流筋條(3)，所述分流筋條的橫截面為菱形，且所述分流筋條的每側面皆均勻分布有粉碎柱(31)；

所述上層填料框架和所述下層填料框架之間設有螺旋葉片(4)，所述螺旋葉片與若干根連接桿(5)連接，若干根所述連接桿與套管(6)連接，所述套管套于所述定位柱；

所述螺旋葉片的外側設有若干片第一擋片(41)，所述第一擋片沿著所述螺旋葉片的螺旋方向均勻分布，且第一擋片上設有若干個均勻分布的第一通孔(411)；

所述上層填料框架設有若干根連接柱(13)，所述下層填料框架設有與所述連接柱相對應的連接孔(24)，所述連接柱的表面均勻分布有第二擋片(16)，且第二擋片上設有若干個均勻分布的第二通孔(161)。

2.根據權利要求1所述的利于氣液充分接觸的填料體，其特征在于：所述卡接柱包括兩個相互對稱設置的連接臂(14)，兩個所述連接臂的外側皆設有向內凹陷的凹槽(141)，所述凹槽卡于定位孔以實現上層填料框架和下層填料框架的固定。

3.根據權利要求2所述的利于氣液充分接觸的填料體，其特征在于：兩個所述連接臂之間設有彈性支撐件(15)，所述彈性支撐件為上下來回折返的瓦楞型彈性支撐件，且所述彈性支撐件的兩端分別與兩個所述連接臂連接。

4.根據權利要求1所述的利于氣液充分接觸的填料體，其特征在于：所述填料體為聚丙烯填料體或聚氟乙烯填料體。

5.根據權利要求1所述的利于氣液充分接觸的填料體，其特征在于：所述第一擋片和所述第二擋片相互垂直設置。

6.根據權利要求1所述的利于氣液充分接觸的填料體，其特征在于：所述粉碎柱為針狀或液滴狀的粉碎柱。

7.根據權利要求1所述的利于氣液充分接觸的填料體，其特征在于：所述填料體為圓柱型的填料體，所述填料體的高度為75-80mm，所述填料體的外徑為80-85mm。