[實(shí)用新型]一種氣氛保護(hù)的循環(huán)研磨裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201922034407.7
• 申請(qǐng)日: 2019-11-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN211838349U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-11-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇耳兵;王翠霞;王鍇堯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇博遷新材料股份有限公司
• 主分類號(hào): B02C21/00
• 分類號(hào): B02C21/00
• 代理公司: 北京金智普華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11401
• 代理人: 徐會(huì)娟

1.一種氣氛保護(hù)的循環(huán)研磨裝置，其特征在于：包括密封的立式磨砂機(jī)(1)以及密封的前置攪拌釜(3)，所述立式磨砂機(jī)(1)和前置攪拌釜(3)均設(shè)置有用于充入氮?dú)獾倪M(jìn)氣孔(5)以及用于檢測(cè)氮?dú)鈮毫Φ牡獨(dú)鈮毫Ρ?8)，所述前置攪拌釜(3)底部的出料口和所述立式磨砂機(jī)(1)頂部的進(jìn)料口連接，所述立式磨砂機(jī)(1)底部的出料口與所述前置攪拌釜(3)頂部的進(jìn)料口連接，所述前置攪拌釜(3)出料口和進(jìn)料口處均設(shè)置有閥門(11)，并在所述前置攪拌釜(3)上設(shè)置有用于連接真空泵的真空孔(6)與用于檢測(cè)真空壓力的真空壓力表(7)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣氛保護(hù)的循環(huán)研磨裝置，其特征在于：所述前置攪拌釜(3)底部的出料口和所述立式磨砂機(jī)(1)頂部的進(jìn)料口之間還設(shè)置有計(jì)量泵(2)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氣氛保護(hù)的循環(huán)研磨裝置，其特征在于：還包括密封的后置攪拌釜(4)，所述后置攪拌釜(4)底部的出料口與所述計(jì)量泵(2)連接，且所述后置攪拌釜(4)頂部的進(jìn)料口與所述立式磨砂機(jī)(1)底部的出料口連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種氣氛保護(hù)的循環(huán)研磨裝置，其特征在于：

所述后置攪拌釜(4)上設(shè)置有用于連接真空泵的真空孔(6)與用于檢測(cè)真空壓力的真空壓力表(7)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣氛保護(hù)的循環(huán)研磨裝置，其特征在于：所述閥門(11)為球閥。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣氛保護(hù)的循環(huán)研磨裝置，其特征在于：所述立式磨砂機(jī)(1)和前置攪拌釜(3)均設(shè)置有用于測(cè)量氧氣含量的測(cè)氧儀(9)。