[實用新型]一種陶瓷基座及包含陶瓷基座的光源裝置有效
| 申請號: | 201922029673.0 | 申請日: | 2019-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN211853905U | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發明(設計)人: | 皮天明 | 申請(專利權)人: | 廣州萊拓浦電子有限公司 |
| 主分類號: | F21V21/00 | 分類號: | F21V21/00;F21V7/04;F21V17/10 |
| 代理公司: | 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217 | 代理人: | 郭偉剛;車大瑩 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陶瓷 基座 包含 光源 裝置 | ||
本實用新型涉及一種陶瓷基座及包含陶瓷基座的光源裝置,光源裝置包括光反射鏡杯、安置在至少一個光反射鏡杯內側的發光體和陶瓷基座,光反射鏡杯與發光體通過涂布在陶瓷基座上的粘結材料進行固定,陶瓷基座包括基座本體和設置在基座本體上的固定組件,所示固定組件用于固定光反射鏡杯的部分為由三片卡爪組成的三卡爪結構,三卡爪結構在陶瓷基座徑向方向呈扇形形狀,且圍繞陶瓷基座中心環形布置;三卡爪在陶瓷基座軸向方向呈直軸或外喇叭形狀。通過本實用新型提供的陶瓷基座使高壓放電光源裝置在保證光反射鏡杯和發光體不松脫的基礎上,更容易取得理想的點燈環境溫度,從而達到延長光源裝置的壽命的目的。
技術領域
本實用新型涉及一種光源裝置技術領域,尤其涉及一種陶瓷基座及包含該陶瓷基座的高壓放電光源裝置。
背景技術
以充填水銀或惰性氣體(如氙氣)作為主要發光物質的高壓放電光源裝置,被廣泛應用于數碼投影、放映、電子電路曝光等相關領域。這兩年,在舞臺光源特別是舞臺光束投射方面,相比傳統金鹵燈,高壓放電光源裝置具有功耗低、節能及舞臺效果更優秀等特點,也被大量應用。此類高壓放電光源裝置,其結構包括:在至少一個光反射鏡杯內側,安置一個發光體,光反射鏡杯與發光體的相對位置通過涂布在陶瓷基座上的粘結材料進行固定,發光體通過安置在光反射鏡杯或陶瓷基座上的金屬端子或導線與外部電源進行電連接。
隨著高壓放電光源裝置的應用推廣,先期較低功率(200W以下)的高壓放電光源逐步向高功率(300W以上)方向發展。比如,高壓水銀光源的功率由初期120W(背投燈)升到達到500W/550W(工程投影機/舞臺光束燈);用于曝光領域的小型高壓氙氣燈也是在500W以上。伴隨高功率的高壓放電光源裝置的發展,點燈時產生的高熱量帶來的副作用越發明顯:一方面,點滅燈過程容易造成應力集中起因的粘結強度下降,導致發生光反射鏡杯或發光體松脫。另一方面,溫度對發光體本身的壽命影響大,點燈溫度控制不均勻容易誘發發光體破裂或失透。
為了持久牢固的把發光體和光反射鏡杯固定到陶瓷基座上,避免發光體或光反射鏡杯松脫,及為了更能容易控制發光體的點燈溫度,以達到延長光源裝置的使用壽命的目的,過往一些技術人員針對用于固定發光體和光反射鏡杯的陶瓷基座的結構設計做了很多工夫。歸納現行技術做法主要有兩類:一是為提高光反射鏡杯與陶瓷基座的連接強度,以擴大陶瓷基座與光反射鏡杯圓周接觸面為主旨,將陶瓷基座設計成封閉環形結構;二是以改善發光體點燈時的溫度環境為主旨,犧牲陶瓷基座與光反射鏡杯接觸面積,將陶瓷基座設計成具有對向雙氣流口結構的兩觸腳形狀。
但在實際使用過程中,即使現行技術一的場合,還是會存在光反射鏡杯容易松脫的現象,這其中原因可以認為是點滅燈過程中光反射鏡杯、粘接材料、陶瓷基座之間出現的熱膨脹收縮應力不均不能得到改善。現行技術二增加了可以用于發光體溫度控制的氣流口,相比現行技術一在發光體散熱方面具有積極作用,但對于發光體點燈上部高、下部溫度低的特點,對向雙氣流口的結構不能起到發光體上下均溫效果,且更不能解決現行技術一的缺陷。
實用新型內容
針對上述現行技術缺陷,本實用新型提出了一種陶瓷基座及采用了該陶瓷基座的高壓放電光源裝置,使高壓放電光源裝置在保證光反射鏡杯和發光體不松脫的基礎上,更容易取得理想的點燈環境溫度,從而達到延長光源裝置的壽命的目的。
本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:提供一種用于光源裝置的陶瓷基座,所述光源裝置包括光反射鏡杯、安置在至少一個光反射鏡杯內側的發光體和陶瓷基座,光反射鏡杯與發光體通過涂布在陶瓷基座上的粘結材料進行固定,發光體通過安置在光反射鏡杯或陶瓷基座上的金屬端子或導線與外部電源進行電連接,其特征在于,所述陶瓷基座包括基座本體和設置在基座本體上的固定組件,所示固定組件用于固定光反射鏡杯的部分為由三片卡爪組成的三卡爪結構,所述三卡爪結構在陶瓷基座徑向方向呈扇形形狀,且圍繞陶瓷基座中心環形布置;所述三卡爪在陶瓷基座軸向方向呈直軸或外喇叭形狀。
在本實用新型提供的陶瓷基座中,所述三卡爪結構的三片卡爪在陶瓷基座徑向圓周360度內均勻等間隔分布。
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