[實用新型]一種等離子刻蝕機的勻氣盤

有效

• 申請號: 201922023653.2
• 申請日: 2019-11-21
• 公開（公告）號: CN211016995U
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 廖海濤;孫文彬
• 申請（專利權）人: 無錫邑文電子科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 常州唯思百得知識產權代理事務所(普通合伙) 32325
• 代理人: 金輝

本實用新型公開了一種等離子刻蝕機的勻氣盤，包括勻氣盤本體，所述勻氣盤本體內部包括有固定盤，所述固定盤內部開設有中透氣孔，所述固定盤內部開設有第一調氣孔，所述固定盤上端固定連接有導風塊，所述固定盤下端開設有活動槽，所述固定盤內部開設有定位槽，且定位槽與活動槽內部相互連通，所述活動槽內部活動連接有活動塊，所述活動塊外側固定連接有定位滑塊，所述定位滑塊下端固定連接有調節盤，所述調節盤內部從內至外依次開設有中透氣孔與第二調氣孔，所述調節盤邊緣內部開設有通孔，所述固定盤邊緣內部開設有固定孔。該等離子刻蝕機的勻氣盤，增加了整體的靈活性，方便對整體進行調節，同時整體結構穩定，整體方便進行操作。

技術領域

本實用新型涉及等離子刻蝕機技術領域，具體為一種等離子刻蝕機的勻氣盤。

背景技術

等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

但是現有的等離子刻蝕機勻氣盤，整體的結構是固定的，所以無法根據具體的情況進行調整，降低了整體的靈活性，且需要對整體的出風位置進行調整時需要將勻氣盤拆卸下來才可以進行調整，增加了整體的調節的難度，從而降低了整體實用性。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種等離子刻蝕機的勻氣盤，以解決上述背景技術中提出現有的等離子刻蝕機勻氣盤，整體的結構是固定的，所以無法根據具體的情況進行調整，降低了整體的靈活性，且需要對整體的出風位置進行調整時需要將勻氣盤拆卸下來才可以進行調整，增加了整體的調節的難度，從而降低了整體實用性的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種等離子刻蝕機的勻氣盤，包括勻氣盤本體，所述勻氣盤本體內部包括有固定盤，所述固定盤內部開設有中透氣孔，所述固定盤內部開設有第一調氣孔，且第一調氣孔位于中透氣孔外側，所述固定盤上端固定連接有導風塊，且導風塊位于第一調氣孔外側，所述導風塊相互之間預留有導風槽，所述固定盤下端開設有活動槽，所述固定盤內部開設有定位槽，且定位槽與活動槽內部相互連通，所述活動槽內部活動連接有活動塊，所述活動塊外側固定連接有定位滑塊，且定位滑塊與定位槽滑動連接，所述定位滑塊下端固定連接有調節盤，所述調節盤內部從內至外依次開設有中透氣孔與第二調氣孔，所述調節盤邊緣內部開設有通孔，所述固定盤邊緣內部開設有固定孔。

優選的，所述固定盤與調節盤均為圓盤形結構，且固定盤與調節盤的直徑相等，所述固定盤與調節盤內部的中透氣孔環形等間距分布。

優選的，所述第一調氣孔在固定盤內部環形等間距分布，且第一調氣孔與第二調氣孔的規格一致。

優選的，所述導風塊在固定盤上端環形等間距分布有三組，且導風塊外側與第一調氣孔和固定孔不貼合。

優選的，所述活動塊與活動槽采用表面光滑設計，且活動塊外側定位滑塊在活動塊內側和外側兩端分布，所述定位滑塊與定位槽對應分布。

優選的，所述通孔與固定孔對應分布，且通孔的直徑大于固定孔的直徑。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：該等離子刻蝕機的勻氣盤，通過使用固定盤和調節盤之間的相互運動，使整體的出氣位置可以進行調整，從而增加了整體出氣的均勻度，由于固定盤與調節盤內部的調氣孔位置分布不是相對的，調節盤內部的調氣孔位置發生變化時會調整整體的出氣位置，從而控制整體的出氣量，增加了整體的實用性，且該勻氣盤在安裝過后依然可以通過轉動調節盤對整體的出氣進行調整，從而增加了整體的靈活性，方便對整體進行調節，同時整體結構穩定，整體方便進行操作，從而增加了整體的實用性。

附圖說明

圖1為本實用新型立體結構示意圖；