[實用新型]鍍膜設備有效
| 申請號: | 201922021610.0 | 申請日: | 2019-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN211339682U | 公開(公告)日: | 2020-08-25 |
| 發明(設計)人: | 張鶴;姚良;韓方虎;張良俊;王亨;李翔 | 申請(專利權)人: | 江蘇微導納米科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C23C16/50;C23C16/54 |
| 代理公司: | 蘇州佳博知識產權代理事務所(普通合伙) 32342 | 代理人: | 羅宏偉 |
| 地址: | 214028 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍膜 設備 | ||
1.一種鍍膜設備,其特征在于:包括第一反應腔組(10)、第二反應腔組(20)、一個第一工藝泵(30)、一個第二工藝泵(40)及一個抽真空泵(50),所述第一反應腔組(10)包含相互獨立的多個第一反應腔(11),所述第二反應腔組(20)包含相互獨立的多個第二反應腔(21),多個所述第一反應腔(11)、所述第二反應腔(21)分別與一個所述抽真空泵(50)連接以共享所述抽真空泵(50),多個所述第一反應腔(11)分別與一個所述第一工藝泵(30)連接以共享所述第一工藝泵(30),多個所述第二反應腔(21)分別與一個所述第二工藝泵(40)連接以共享所述第二工藝泵(40)。
2.根據權利要求1所述的鍍膜設備,其特征在于:每個所述第一反應腔(11)與所述第二反應腔(21)內均放置載具,所述載具內放置待鍍膜的物體。
3.根據權利要求1所述的鍍膜設備,其特征在于:所述第一工藝泵(30)與所述第二工藝泵(40)相互獨立運行。
4.根據權利要求1所述的鍍膜設備,其特征在于:每個所述第一反應腔(11)與所述第二反應腔(21)均設有出氣口和進料口,所述出氣口連接所述抽真空泵(50),所述第一反應腔(11)的所述進料口連接所述第一工藝泵(30),所述第二反應腔(21)的所述進料口連接所述第二工藝泵(40)。
5.根據權利要求4所述的鍍膜設備,其特征在于:所述第一反應腔(11)和所述第二反應腔(21)的所述出氣口與所述抽真空泵(50)之間分別設置有第一角閥(13)、第二角閥(23)以控制所述出氣口的打開、閉合。
6.根據權利要求4所述的鍍膜設備,其特征在于:所述第一反應腔(11)的所述進料口與對應所述第一工藝泵(30)之間設置有第三角閥(14)和第一蝶閥(15)以控制進料口的打開、閉合;所述第二反應腔(21)的所述進料口與對應所述第二工藝泵(40)之間設置有第四角閥(24)和第二蝶閥(25)以控制進料口的打開、閉合。
7.根據權利要求4所述的鍍膜設備,其特征在于:所述第一工藝泵(30)和所述第二工藝泵(40)上均設有排出口,工藝氣體從該排出口排出。
8.根據權利要求1所述的鍍膜設備,其特征在于:所述抽真空泵(50)和所述第一工藝泵(30)、所述第二工藝泵(40)分開設置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于江蘇微導納米科技股份有限公司,未經江蘇微導納米科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201922021610.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種新型思想政治書籍存放架
- 下一篇:一種用于冠脈非斑塊性狹窄的專用支架
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





