[實用新型]一種背表面鈍化電池片鍍膜設備有效
| 申請號: | 201922017250.7 | 申請日: | 2019-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN210856328U | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發明(設計)人: | 楊金鑫;謝鳳蘭;劉燕;唐正海 | 申請(專利權)人: | 鹽城阿特斯陽光能源科技有限公司;阿特斯陽光電力集團有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/04;C23C16/40;C23C16/34;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 224000 江蘇省鹽*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 表面 鈍化 電池 鍍膜 設備 | ||
1.一種背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,包括:
電池載板(1),所述電池載板(1)用于承載電池片,所述電池載板(1)包括支撐板(11)和遮擋板(12),所述支撐板(11)位于所述遮擋板(12)上方,所述支撐板(11)上設有貫穿所述支撐板(11)的配合槽,所述電池片配合在所述配合槽內,所述遮擋板(12)上設有縫隙(121);
運輸裝置(2),所述運輸裝置(2)用于運輸所述電池載板(1);
沉積裝置(3),所述沉積裝置(3)設在所述運輸裝置(2)的下方,所述沉積裝置(3)用于朝向所述電池載板(1)噴射氧化鋁沉積氣流和氮化硅沉積氣流,所述氧化鋁沉積氣流與所述氮化硅沉積氣流能夠通過穿過所述縫隙(121)以實現所述電池片鍍膜。
2.根據權利要求1所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述支撐板(11)上設有配合在所述配合槽內的支撐格柵(111),多個所述電池片呈行列排布地分布在所述支撐格柵(111)上。
3.根據權利要求2所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述支撐板(11)上設有環繞所述支撐格柵(111)設置的配合長孔(112),所述遮擋板(12)通過連接件與所述配合長孔(112)配合。
4.根據權利要求1所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述背表面鈍化電池鍍膜設備還包括吸附裝置(4),所述吸附裝置(4)用于吸附所述電池片使其運動至所述運輸裝置(2)上。
5.根據權利要求4所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述背表面鈍化電池鍍膜設備還包括拍攝裝置(5),所述拍攝裝置(5)位于所述吸附裝置(4)的上方,所述拍攝裝置(5)用于拍攝并且識別所述電池片。
6.根據權利要求5所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述背表面鈍化電池鍍膜設備還包括歸正裝置(6),所述歸正裝置(6)用于歸正所述電池片,所述歸正裝置(6)與所述拍攝裝置(5)電連接,所述歸正裝置(6)可以根據所述拍攝裝置(5)的結果調整所述電池片的位置。
7.根據權利要求1所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述運輸裝置(2)包括兩個傳送帶結構,兩個所述傳送帶結構并排設置,所述電池載板(1)支撐在所述傳送帶結構的傳送帶上,所述沉積裝置(3)位于兩個所述傳送帶之間。
8.根據權利要求1所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述沉積裝置(3)包括:
預熱組件(31),所述預熱組件(31)用于預熱所述電池片;
氧化鋁沉積組件(32),在所述電池片的運輸方向上,所述氧化鋁沉積組件(32)位于所述預熱組件(31)的下游,所述氧化鋁沉積組件(32)用于噴射氧化鋁沉積氣流;
氮化硅沉積組件(33),在所述電池片的運輸方向上,所述氮化硅沉積組件(33)位于所述氧化鋁沉積組件(32)的下游,所述氮化硅沉積組件(33)用于噴射氮化硅沉積氣流。
9.根據權利要求8所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述氧化鋁沉積組件(32)包括:
三甲基鋁噴嘴(321),所述三甲基鋁噴嘴(321)用于朝向所述電池片噴射三甲基鋁氣流;
臭氧噴嘴(322),在所述電池片的運輸方向上,所述臭氧噴嘴(322)位于所述三甲基鋁噴嘴(321)的下游,所述臭氧噴嘴(322)用于朝向所述電池片噴射臭氧氣流;
氮氣噴嘴(323),所述氮氣噴嘴(323)為兩個,兩個所述氮氣噴嘴(323)間隔設置,且所述三甲基鋁噴嘴(321)及所述臭氧噴嘴(322)位于兩個所述氮氣噴嘴(323)之間。
10.根據權利要求8所述的背表面鈍化電池片鍍膜設備,其特征在于,所述氮化硅沉積組件(33)包括:
氨氣噴嘴(331),所述氨氣噴嘴(331)用于朝向所述電池片噴射氨氣氣流;
硅烷噴嘴(332),在所述電池片的運輸方向上,所述硅烷噴嘴(332)位于所述氨氣噴嘴(331)的下游,所述硅烷噴嘴(332)用于朝向所述電池片噴射硅烷氣流。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





