[實(shí)用新型]硅片清洗設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201922014310.X
• 申請(qǐng)日: 2019-11-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210628335U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 左國(guó)軍;成旭;李雄朋;任金枝
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 常州捷佳創(chuàng)精密機(jī)械有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L31/18
• 分類(lèi)號(hào): H01L31/18;H01L21/67;F26B9/06;F26B21/00;F26B21/12;F26B25/06
• 代理公司: 北京友聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11343
• 代理人: 汪海屏;劉瀟

1.一種硅片清洗設(shè)備，其特征在于，包括：

框架組件；

工藝機(jī)構(gòu)，設(shè)于所述框架組件中，數(shù)量為至少兩個(gè)，適于對(duì)硅片進(jìn)行工藝處理；

傳輸組件，與所述框架組件連接，并適于沿所述框架組件移動(dòng)并傳輸所述硅片，以使得所述硅片由任一所述工藝機(jī)構(gòu)移動(dòng)至任另一所述工藝機(jī)構(gòu)；

隔離組件，設(shè)于所述框架組件中，通過(guò)在開(kāi)啟狀態(tài)和關(guān)閉狀態(tài)之間切換，以使得任一所述工藝機(jī)構(gòu)的內(nèi)部空間與外部空間相互連通或相互分隔；

其中，所述工藝機(jī)構(gòu)包括至少一個(gè)的清洗組件和至少一個(gè)的烘干組件，所述清洗組件適于對(duì)所述硅片進(jìn)行清洗，所述烘干組件適于對(duì)所述硅片進(jìn)行烘干，所述清洗組件中設(shè)有鼓泡裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述鼓泡裝置包括：

一個(gè)或多個(gè)的鼓泡管，設(shè)于所述清洗組件中，具有進(jìn)氣口和鼓泡通孔，所述鼓泡通孔貫穿所述鼓泡管的管壁；

鼓泡氣源，與所述進(jìn)氣口連通，驅(qū)動(dòng)氣體由所述進(jìn)氣口進(jìn)入所述鼓泡管，并由所述鼓泡通孔排出所述鼓泡管。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，包括：

所述鼓泡管具有往復(fù)彎折的閉合回路結(jié)構(gòu)，所述進(jìn)氣口設(shè)于所述閉合回路結(jié)構(gòu)的任意位置上；或

所述鼓泡管具有往復(fù)彎折的開(kāi)放通路結(jié)構(gòu)，數(shù)量為兩個(gè)的所述進(jìn)氣口分別設(shè)于所述開(kāi)放通路結(jié)構(gòu)的兩端。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，包括：

至少兩個(gè)的所述鼓泡管沿水平方向前后并列設(shè)置；或

至少兩個(gè)的所述鼓泡管沿水平方向左右并列設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，包括：

所述鼓泡通孔設(shè)于所述鼓泡管的左側(cè)部管壁中；和/或

所述鼓泡通孔設(shè)于所述鼓泡管的右側(cè)部管壁中。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，包括：

數(shù)量為一個(gè)的所述鼓泡氣源分別與數(shù)量為兩個(gè)或兩個(gè)以上的所述進(jìn)氣口連通。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，包括：

數(shù)量為多個(gè)的所述鼓泡通孔沿所述鼓泡管相互間隔地分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求2至7中任一項(xiàng)所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗組件包括：

主清洗槽，設(shè)有連通部；

副清洗槽，環(huán)繞所述主清洗槽設(shè)置，并通過(guò)所述連通部與所述主清洗槽連通；

其中，所述鼓泡管設(shè)于所述主清洗槽中。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗組件還包括：

循環(huán)管，部分或全部地設(shè)于所述主清洗槽中，并分別與所述主清洗槽和所述副清洗槽連通；

循環(huán)泵，設(shè)于所述循環(huán)管中，驅(qū)動(dòng)液體通過(guò)所述循環(huán)管在所述主清洗槽和所述副清洗槽之間循環(huán)；

其中，所述鼓泡管設(shè)于所述循環(huán)管的上方。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的硅片清洗設(shè)備，其特征在于，包括：

所述主清洗槽的上端部設(shè)有若干個(gè)的溢流部，所述主清洗槽中的液體由所述溢流部溢出，并進(jìn)入所述副清洗槽。