[實用新型]一種氮化硅陶瓷基片多方向研磨拋光機

有效

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• 申請日: 2019-11-20
• 公開（公告）號: CN210879179U
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃安基
• 申請（專利權(quán)）人: 福建省南安市宏煒新材料有限公司
• 主分類號: B24B37/11
• 分類號: B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B55/03
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1.一種氮化硅陶瓷基片多方向研磨拋光機，包括底座，所述底座為方體結(jié)構(gòu)，其特征是：所述底座上設(shè)有拋光槽，所述拋光槽包括拋光槽環(huán)和拋光槽底盤，所述拋光槽底盤上端表面設(shè)有第一研磨紋路，所述拋光槽環(huán)側(cè)壁內(nèi)側(cè)環(huán)繞連續(xù)性設(shè)有豎直方向的第一齒槽；所述拋光槽中部設(shè)有動力圓盤，所述動力圓盤為圓柱形結(jié)構(gòu)，所述動力圓盤外側(cè)面環(huán)繞連續(xù)性設(shè)有豎直方向的第二齒槽；所述拋光槽內(nèi)設(shè)有復(fù)數(shù)個研磨盤，所述研磨盤為圓盤形結(jié)構(gòu)，所述研磨盤邊緣環(huán)繞連續(xù)性設(shè)有豎直方向的第三齒槽，所述研磨盤直徑方向一端與所述第一齒槽嚙合，所述研磨盤直徑方向另一端與所述第二齒槽嚙合；所述研磨盤內(nèi)貫穿設(shè)有復(fù)數(shù)個圓形結(jié)構(gòu)的物料固定槽，所述物料固定槽內(nèi)設(shè)有環(huán)形結(jié)構(gòu)的固定墊；所述拋光槽上方設(shè)有下壓拋光盤，所述下壓拋光盤下端面均勻設(shè)有第二研磨紋路，所述下壓拋光盤上端面設(shè)有研磨冷卻液注入孔，所述下壓拋光盤上方固定設(shè)有用于存放研磨冷卻液的箱體，所述箱體通過設(shè)置管道將研磨冷卻液導(dǎo)入研磨冷卻液注入孔，所述研磨冷卻液通過第二研磨紋路進入到拋光槽內(nèi)部；所述底座上端面邊緣設(shè)有油缸機構(gòu)，所述油缸機構(gòu)通過設(shè)置水平方向的連接件連接所述下壓拋光盤，所述下壓拋光盤沿所述油缸機構(gòu)豎直方向下壓。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氮化硅陶瓷基片多方向研磨拋光機，其特征是：所述第一研磨紋路和所述第二研磨紋路均為菱形紋路槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種氮化硅陶瓷基片多方向研磨拋光機，其特征是：所述固定墊內(nèi)側(cè)側(cè)面環(huán)繞連續(xù)性設(shè)有第四齒槽。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種氮化硅陶瓷基片多方向研磨拋光機，其特征是：所述下壓拋光盤上端面設(shè)有用于固定所述管道的固定基座。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種氮化硅陶瓷基片多方向研磨拋光機，其特征是：所述下壓拋光盤上端面設(shè)有用于固定所述管道的固定基座。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或5所述的一種氮化硅陶瓷基片多方向研磨拋光機，其特征是：所述固定墊為橡膠材質(zhì)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或5所述的一種氮化硅陶瓷基片多方向研磨拋光機，其特征是：所述下壓拋光盤上設(shè)有用于驅(qū)動所述動力圓盤的電機機構(gòu)。