[實(shí)用新型]一種功率半導(dǎo)體模塊和功率半導(dǎo)體器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201922010344.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210516724U | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 新居良英;劉樂;劉莉飛;王慶凱;高崎哲;茍文輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海大郡動(dòng)力控制技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L25/16 | 分類號(hào): | H01L25/16;H01L23/15 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201112 上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 功率 半導(dǎo)體 模塊 半導(dǎo)體器件 | ||
1.一種功率半導(dǎo)體模塊,其特征在于,包括上橋絕緣柵雙極性晶體管IGBT芯片、下橋絕緣柵雙極性晶體管IGBT芯片、第一直接覆銅陶瓷基板DBC和第二直接覆銅陶瓷基板DBC;
所述第一DBC包括層疊設(shè)置的第一金屬層、第一絕緣層和第二金屬層;
所述第二DBC包括層疊設(shè)置的第三金屬層、第二絕緣層和第四金屬層;
所述第一絕緣層位于所述第二金屬層背離所述第三金屬層的一側(cè);
所述第一金屬層包括相互絕緣的第一子金屬層和第二子金屬層;
所述上橋IGBT芯片設(shè)置于所述第一子金屬層背離所述第一絕緣層的一側(cè);所述下橋IGBT芯片設(shè)置于所述第二子金屬層背離所述第一絕緣層的一側(cè);所述上橋IGBT芯片的集電極與所述第一子金屬層連接,所述下橋IGBT芯片的集電極與所述第二子金屬層連接;
所述第一子金屬層與直流回路正極電連接;所述上橋IGBT芯片的發(fā)射極與所述第二子金屬層電連接;所述下橋IGBT芯片的發(fā)射極與所述第三金屬層的第一綁定焊點(diǎn)電連接;所述第三金屬層的第二綁定焊點(diǎn)與直流回路負(fù)極電連接;所述第一綁定焊點(diǎn)和所述第二綁定焊點(diǎn)位于所述第一DBC的相對(duì)兩側(cè);所述第三金屬層與所述第二金屬層通過焊接層連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模塊,其特征在于,還包括第一二極管芯片和第二二極管芯片;
所述第一二極管芯片的正極連接所述上橋IGBT芯片的發(fā)射極,所述第一二極管芯片的負(fù)極連接所述上橋IGBT芯片的集電極;
所述第二二極管芯片的正極連接所述下橋IGBT芯片的發(fā)射極,所述第二二極管芯片的負(fù)極連接所述下橋IGBT芯片的集電極。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模塊,其特征在于,還包括散熱板;
所述散熱板位于所述第四金屬層背離所述第二絕緣層的一側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模塊,其特征在于,所述第一DBC在所述第二DBC上的垂直投影位于所述第二DBC的邊界內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模塊,其特征在于,還包括電容器;
所述電容器的第一極板與所述第一子金屬層或者第二子金屬層連接,所述電容器的第二極板與所述第二金屬層連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模塊,其特征在于,所述第一絕緣層的拐角處為倒角斜邊,所述倒角斜邊與臨近的所述第二金屬層的邊緣的夾角θ大于等于30°且小于等于70°。
7.一種功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,包含權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的功率半導(dǎo)體模塊。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,包括三個(gè)所述功率半導(dǎo)體模塊,分別為第一功率半導(dǎo)體模塊、第二功率半導(dǎo)體模塊和第三功率半導(dǎo)體模塊;
所述第一功率半導(dǎo)體模塊的上橋IGBT芯片為U相上橋IGBT芯片;所述第二功率半導(dǎo)體模塊的上橋IGBT芯片為V相上橋IGBT芯片;所述第三功率半導(dǎo)體模塊的上橋IGBT芯片為W相上橋IGBT芯片;所述U相上橋IGBT芯片、所述V相上橋IGBT芯片和所述W相上橋IGBT芯片位于同一所述第一子金屬層上;
所述第一功率半導(dǎo)體模塊的下橋IGBT芯片為U相下橋IGBT芯片;所述第二功率半導(dǎo)體模塊的下橋IGBT芯片為V相下橋IGBT芯片;所述第三功率半導(dǎo)體模塊的下橋IGBT芯片為W相下橋IGBT芯片;所述U相下橋IGBT芯片、所述V相下橋IGBT芯片和所述W相下橋IGBT芯片位于不同所述第二子金屬層上,且電氣絕緣。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,不同所述第二子金屬層均圍繞所述第一子金屬層設(shè)置;
或者,不同所述第二子金屬層均位于所述第一子金屬層的一側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,包括多個(gè)功率半導(dǎo)體模塊組;每個(gè)所述功率半導(dǎo)體模塊組包括一個(gè)所述第一功率半導(dǎo)體模塊、一個(gè)所述第二功率半導(dǎo)體模塊和一個(gè)第三功率半導(dǎo)體模塊。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L25-00 由多個(gè)單個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)器件組成的組裝件
H01L25-03 .所有包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中同一小組內(nèi)的相同類型的器件,例如整流二極管的組裝件
H01L25-16 .包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中兩個(gè)或多個(gè)不同大組內(nèi)的類型的器件,例如構(gòu)成混合電路的
H01L25-18 .包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中兩個(gè)或多個(gè)同一大組的不同小組內(nèi)的類型的器件
H01L25-04 ..不具有單獨(dú)容器的器件
H01L25-10 ..具有單獨(dú)容器的器件





