[實用新型]一種雙壁透照射線檢驗定位射線源的測量裝置有效
| 申請號: | 201921994532.6 | 申請日: | 2019-11-18 |
| 公開(公告)號: | CN211120958U | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發明(設計)人: | 周佳;劉桂剛;鄭德旭;王金友;李華;肖冰山;阮彬標;賀鈺林;王夢磊;姚凱;賀朝靖;戴猛;崔甫超;趙興保 | 申請(專利權)人: | 福建福清核電有限公司 |
| 主分類號: | G01B5/02 | 分類號: | G01B5/02;G01B5/24;G01B11/02;G01B11/26;G01N23/04 |
| 代理公司: | 核工業專利中心 11007 | 代理人: | 任超 |
| 地址: | 350318*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 透照 射線 檢驗 定位 測量 裝置 | ||
一種雙壁透照射線檢驗定位射線源的測量裝置,包括角度尺,角度尺為0度至90度測量的角度尺,直角處位置為0點,0°方向垂直于被檢對象表面,90°方向平行于被檢對象表面,在0點位置固定旋轉激光筆;通過設計一種易攜帶、易操作集射線檢驗焦距以及射線源偏離角度(或射線源偏離距離)精確測量功能的裝置,便于射線檢驗人員或射線檢驗質量控制人員對射線檢驗焦距及射線源偏離角度(或射線源偏離距離)進行準確測量定位,提升雙壁雙影或雙壁單影射線檢驗關鍵參數:焦距和射線源偏離角度(或射線源偏離距離)的準確性,進而提升射線檢驗靈敏度以及缺陷檢出率。
技術領域
此發明涉及測量裝置領域,具體涉及一種雙壁透照射線檢驗定位射線源的測量裝置。
背景技術
技術分析
射線檢驗作為一種體積無損檢測方法,在國內電力行業、制造業應用非常廣泛。但射線檢驗由于其自身的技術特點,其工藝參數焦距、射線透照方向等變化,易影響射線檢驗的靈敏度及缺陷檢出率,具體體現如下:
1、射線檢驗焦距直接影響幾何不清晰度,進而影響射線檢驗靈敏度:
式中:df——射線源焦點尺寸;
F——射線源至膠片的距離(焦距);
b——缺陷至膠片的距離;
2、射線檢驗透照方向(即射線源偏離角度,或稱射線源偏離距離)極小的變化,可能導致某些細小缺陷,尤其是裂紋等危險的面型缺陷漏檢。
實際執行情況分析
國內核電廠針對雙壁雙影或雙壁單影射線檢驗焦距和射線源偏離角度(或射線源偏離距離)等關鍵參數的測量,基本均是使用鋼卷尺進行,其中:焦距是通過鋼卷尺測量被檢對象表面距離射線源的垂直距離;偏離角度用鋼卷尺測量射線源至被檢區域中心位置的水平距離(該距離即射線源偏離距離,是通過偏離角度和焦距換算得出)。
由于使用卷尺測量時并沒有固定的垂直、水平參照物,且因射線源本身存在一定的尺寸、人為測量本身可能存在的誤差等因素,導致最終測量結果存在誤差,尤其體現在:
(1)垂直透照時射線源并不能準確的固定在被檢對象中心正上方的位置;
(2)偏離透照時通過卷尺測量的射線源的偏離角度(即換算的射線源偏離距離)較計算值存在一定的誤差。
實際執行結果分析
核電廠射線檢驗結果表明,某些細小缺陷相較于相鄰一次的檢查結果,未被發現(目前發現的此類顯示均是記錄顯示),進行技術分析發現兩次檢驗結果不同的原因主要是由于射線源偏離角度(即射線源偏離距離)的存在細小的差異。
對于危險的平面型顯示,射線檢驗本身的技術特點決定了當放射源在特定角度,即射線束平行于顯示擴展方向時才可能發現此類顯示,因此射線源角度一旦變化,極易導致危險的平面型顯示漏檢。
此外,射線檢驗幾何不清晰度限值一般在規范進行了明確的要求,實際執行過程中由于工作效率要求、現場條件限制等客觀因素,部分焊縫幾何不清晰度選取在規范要求的臨界值以下一點(即剛好滿足規范要求),如實際焦距與理論計算值如存在誤差、稍微小于計算值,極易導致幾何不清晰度不滿足規范要求。
綜上所述,針對雙壁雙影或雙壁單影射線檢驗技術,通過提升關鍵參數:焦距和射線源偏離角度(或射線源偏離距離)的準確性,可提升射線檢驗靈敏度以及缺陷檢出率。
發明內容
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