[實用新型]一種濺射鍍膜一體機用滾筒

有效

• 申請號: 201921994251.0
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN211142147U
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 王勇;何飛;朱雪峰
• 申請（專利權）人: 成都四盛科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/50;C23C14/35
• 代理公司: 成都東唐智宏專利代理事務所(普通合伙) 51261
• 代理人: 羅言剛

本實用新型公開了一種濺射鍍膜一體機用滾筒，屬于濺射鍍膜設備技術領域，包括滾筒本體、兩個滾輪、兩個圓環形齒輪、若干支撐導柱和擋板組件，所述滾筒本體內部設有供待鍍膜物品承放的容納腔，所述滾筒本體的側壁上設有與容納腔連通的圓形貫穿槽，兩個所述滾輪分別安裝在滾筒本體的兩端，兩個所述圓環形齒輪分別安裝在滾筒本體的兩側，若干所述支撐導柱圍繞著所述滾筒本體的軸線方向均勻設置，所述擋板組件設置在滾筒本體的內圓周壁上。本申請在鍍膜的過程中滾動，則能讓容納腔內的大量物件跟隨著滾筒本體轉動，增加所有的待鍍膜的物件與成膜物質的接觸面積，提高鍍膜的均勻性。

技術領域

本實用新型涉及濺射鍍膜設備技術領域，特別涉及一種濺射鍍膜一體機用滾筒。

背景技術

目前市場上生產LCD、OLED、TP等元器件中材料很多例如：SiO2、SIN、TiO2、ITO、IZO、金屬等常用膜層材料都會用到真空磁控濺射鍍膜機(PVD)；真空濺鍍設備一般由陰極系統，真空系統、傳送系統等部分組成；真空鍍膜的核心在于連續穩定的真空腔體中制備均勻的所需膜層，目前的設備和基板都往大尺寸方向發展，就需要更少的真空腔體開腔頻率，更均勻的膜層均勻行來保證設備高效穩定的運行。

現有技術中，在對小顆粒物件例如米粒大小的物件的鍍膜過程中，首先需要對大量的物件進行承載，目前無論是承載托盤、承載板、承載箱等等在對大量顆粒物件進行承載后完成鍍膜作業，大量的物件的濺射鍍膜的程度都不均勻，且濺射鍍膜的效率低下，則使的產品的合格率較低。

實用新型內容

本實用新型的目的在于針對現有技術的不足，提供一種濺射鍍膜一體機用滾筒。

為解決上述問題，本實用新型提供以下技術方案：一種濺射鍍膜一體機用滾筒，包括滾筒本體、兩個滾輪、兩個圓環形齒輪、若干支撐導柱和擋板組件，所述滾筒本體內部設有供待鍍膜物品承放的容納腔，所述滾筒本體的側壁上設有與容納腔連通的圓形貫穿槽，兩個所述滾輪分別安裝在滾筒本體的兩端，兩個所述圓環形齒輪分別安裝在滾筒本體的兩側，若干所述支撐導柱圍繞著所述滾筒本體的軸線方向均勻設置，所述擋板組件設置在滾筒本體的內圓周壁上。

所述圓環形齒輪的直徑大于滾筒本體的直徑，所述滾輪的直徑大于圓環形齒輪的直徑，每個所述滾輪的外圓周壁呈半圓形結構。

所述擋板組件包括第一支撐部件、第一擋板組件和第二擋板組件，所述第一支撐部件圍繞著滾筒本體的軸線均勻設置在滾筒本體的內側壁上，所述第一擋板組件和第二擋板組件均設置在滾筒本體的內圓周壁上且呈交叉狀態設置。

所述第一支撐部件包括若干導向柱，每個所述導向柱均呈水平狀態設置，所述導向柱的兩端分別通過兩個平口螺釘與滾筒本體的兩端固定連接。

所述第一擋板組件包括若干圍繞著滾筒本體的軸線均勻設置的第一定位擋板，每個所述第一定位擋板均呈固定角度傾斜設置在滾筒本體的內圓周壁上。

所述第二擋板組件包括若干圍繞著滾筒本體的軸線均勻設置的第二定位擋板，每個所述第二定位擋板均呈固定角度傾斜設置在滾筒本體的內圓周壁上，其中所述一個第二定位擋板均設置在相鄰的兩個第一定位擋板之間。

所述第一定位擋板與第二定位擋板傾斜設置的固定角度均為70度。

有益效果：第一，本申請通過圓筒形結構設置，首先能夠保證大量的顆粒物件在鍍膜過程中穩定的承載，本申請通過滾筒本體、兩個滾輪、兩個圓環形齒輪、若干支撐導柱和擋板組件組成，滾筒本體內擁有供待鍍膜物件承放的容納腔，兩個滾輪設置在滾筒本體的外圓周壁上，則能搭配驅動裝置作業，讓本申請在鍍膜的過程中滾動，則能讓容納腔內的大量物件跟隨著滾筒本體轉動，提高所有的待鍍膜的物件與成膜物質的接觸面積，提高鍍膜的效率。