[實用新型]一種自動耐壓匝間綜合性能測試裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921970277.1
• 申請日: 2019-11-14
• 公開（公告）號: CN211478518U
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐愛晶;馬小民;徐世界;宋申霞;王莉
• 申請（專利權(quán)）人: 威海合益電子科技有限公司
• 主分類號: G01R31/12
• 分類號: G01R31/12;G01R27/26;G01R29/20
• 代理公司: 威海恒譽潤達專利代理事務(wù)所(普通合伙) 37260
• 代理人: 呂志彬

1.一種自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，設(shè)有第一檢測機構(gòu)、傳送機構(gòu)、第二檢測機構(gòu)、數(shù)據(jù)分析控制機構(gòu)，所述第一檢測機構(gòu)連接傳送機構(gòu)，且所述第一檢測機構(gòu)和所述傳送機構(gòu)設(shè)于第一工作臺上，第二檢測機構(gòu)位于第二工作臺上，其特征是，第二工作臺上從左向右依次設(shè)有電感和圈數(shù)檢測槽、第一承接臺、示波檢測槽和第二承接臺，在所述電感和圈數(shù)檢測槽、所述第一承接臺、所述示波檢測槽和所述第二承接臺的上方設(shè)有移動機械臂，移動機械臂上設(shè)有五個抓取工位,分別為第一抓取工位、第二抓取工位、第三抓取工位、第四抓取工位和第五抓取工位，所述移動機械臂連接橫向限位件，所述橫向限位件連接中間架板，所述中間架板設(shè)有為垂直板、中間板和垂直套筒，所述垂直板設(shè)于所述中間板的前端，所述垂直套筒有兩個，分別垂直設(shè)于所述中間板的后側(cè)，所述中間板的上端設(shè)有下壓氣缸支架，所述下壓氣缸支架上固定下壓氣缸，下壓氣缸支架下端面連接兩個導(dǎo)向柱，兩個導(dǎo)向柱分別貫穿中間板和垂直套筒固定于底板上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，所述第一檢測機構(gòu)設(shè)于第一傳送帶上，所述第一傳送帶上設(shè)有兩組條形支撐板，所述每組支撐板包括兩個平行的支撐板，所述每組支撐板的底面與內(nèi)側(cè)面相交的連接線位置設(shè)有缺口，所述缺口上分別設(shè)有導(dǎo)電片，每個所述導(dǎo)電片上設(shè)有若干條測試導(dǎo)絲。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，所述每組支撐板均設(shè)有四個支撐柱，每個所述支撐板的前后端各設(shè)有一個支撐柱。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，所述第一檢測機構(gòu)連接傳送機構(gòu)，所述傳送機構(gòu)設(shè)有兩個平行的限位板，每個所述限位板上各設(shè)有兩個定位柱，所述第一傳送帶前端固定一個U型連接件，所述U型連接件設(shè)有U型槽，所述U型槽的開口正對傳送機構(gòu)的出口。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，第一承接臺和第二承接臺的結(jié)構(gòu)相同，均設(shè)有方形槽和氣動推拉件，所述方形槽內(nèi)部中空，上端和前端均設(shè)有開口，所述氣動推拉件通過前端開口插入方形槽內(nèi)，所述氣動推拉件設(shè)有氣動推拉桿、固定塊和承接塊。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，每個所述抓取工位設(shè)有連接塊，每個所述連接塊底部連接夾爪。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，所述橫向限位件左右兩端設(shè)有限位塊，兩個所述限位塊之間設(shè)有兩個平行的橫桿，所述垂直板處于前側(cè)橫桿和后側(cè)橫桿之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，所述底板與所述垂直套筒之間設(shè)有彈簧支撐板，所述彈簧支撐板與每個所述垂直套筒之間設(shè)有限位彈簧，套于每個所述導(dǎo)向柱上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，所述中間板的前端還固定設(shè)有滑塊，所述滑塊連接所述下壓氣缸。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動耐壓匝間綜合性能測試裝置，其特征在于，所述數(shù)據(jù)分析控制機構(gòu)包括四種數(shù)據(jù)分析控制箱，分別為高壓數(shù)據(jù)分析控制箱、低壓數(shù)據(jù)分析控制箱、電感和圈數(shù)數(shù)據(jù)分析控制箱和示波數(shù)據(jù)分析控制箱，所述高壓數(shù)據(jù)分析控制箱和所述低壓數(shù)據(jù)分析控制箱位于第一工作臺的上層支架上，所述電感和圈數(shù)數(shù)據(jù)分析控制箱和示波數(shù)據(jù)分析控制箱分別位于第二工作臺的上層支架上。