[實(shí)用新型]膜厚儀快速自適應(yīng)加載力測(cè)試裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201921969872.3
• 申請(qǐng)日: 2019-11-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210664323U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 冉金東;朱錦龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 品保機(jī)電設(shè)備(昆山）有限公司
• 主分類號(hào): G01B7/06
• 分類號(hào): G01B7/06;G01L5/00
• 代理公司: 蘇州國(guó)卓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32331
• 代理人: 劉靜宇

本實(shí)用新型公開(kāi)了膜厚儀快速自適應(yīng)加載力測(cè)試裝置，包括探頭連接座和測(cè)試主機(jī)，所述探頭連接座安裝在測(cè)試主機(jī)的下端，所述探頭連接座的下端連接有測(cè)試探頭，所述探頭連接座的外部套接有按壓保護(hù)裝置，通過(guò)在膜厚儀快速自適應(yīng)加載力測(cè)試裝置的探頭連接座上增加有一個(gè)新型的按壓保護(hù)裝置，該按壓保護(hù)裝置上具有按壓保護(hù)的兩個(gè)部件則分別連接在測(cè)試探頭左右兩側(cè)外部，而通過(guò)該新型的按壓保護(hù)裝置能夠?qū)φ诎磯哼M(jìn)行測(cè)試的測(cè)試探頭以及與測(cè)試探頭接觸的膜起到保護(hù)作用，防止使用該膜厚儀時(shí)因?yàn)榘磯毫Υ筮^(guò)大而造成膜損壞和對(duì)膜按壓力度過(guò)大使得膜產(chǎn)生的形變過(guò)大而造成測(cè)試精度較差的情況出現(xiàn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于膜厚儀相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及膜厚儀快速自適應(yīng)加載力測(cè)試裝置。

背景技術(shù)

膜厚測(cè)試儀，分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀，手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度，也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度，采用磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度，也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度，覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小，利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀，原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度，一般要求基材導(dǎo)磁率在500以上，如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大。

現(xiàn)有的膜厚儀快速自適應(yīng)加載力測(cè)試裝置技術(shù)存在以下問(wèn)題：現(xiàn)有的膜厚儀快速自適應(yīng)加載力測(cè)試裝置在對(duì)被測(cè)試膜進(jìn)行測(cè)試使用時(shí)，都是需要抓住膜厚儀并下壓使得膜厚儀底部的測(cè)試探頭充分與被測(cè)試膜接觸，這樣才能夠?qū)Ρ粶y(cè)試膜進(jìn)行精確測(cè)試，而在下壓膜厚儀使得測(cè)試探頭與被測(cè)試膜接觸時(shí)，因?yàn)樵摬僮鬟^(guò)程都是人為控制的，這樣容易造成使用者下壓膜厚儀的下壓力度過(guò)大，從而會(huì)造成測(cè)試探頭與被測(cè)試膜接觸時(shí)會(huì)對(duì)被測(cè)試膜產(chǎn)生較大的壓力，這樣會(huì)使得被測(cè)試膜受壓過(guò)大而容易產(chǎn)生形變，從而會(huì)影響到測(cè)試探頭對(duì)被測(cè)試膜的測(cè)試精度。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供膜厚儀快速自適應(yīng)加載力測(cè)試裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的在下壓膜厚儀使得測(cè)試探頭與被測(cè)試膜接觸時(shí)，因?yàn)樵摬僮鬟^(guò)程都是人為控制的，這樣容易造成使用者下壓膜厚儀的下壓力度過(guò)大，從而會(huì)造成測(cè)試探頭與被測(cè)試膜接觸時(shí)會(huì)對(duì)被測(cè)試膜產(chǎn)生較大的壓力，這樣會(huì)使得被測(cè)試膜受壓過(guò)大而容易產(chǎn)生形變的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：膜厚儀快速自適應(yīng)加載力測(cè)試裝置，包括探頭連接座和測(cè)試主機(jī)，所述探頭連接座安裝在測(cè)試主機(jī)的下端，所述探頭連接座的下端連接有測(cè)試探頭，所述探頭連接座的外部套接有按壓保護(hù)裝置，所述按壓保護(hù)裝置的左右兩端分別設(shè)置在測(cè)試探頭的左右兩側(cè)，所述測(cè)試主機(jī)左端外壁內(nèi)部設(shè)置有狀態(tài)指示燈，所述測(cè)試主機(jī)靠近上側(cè)前端外壁上設(shè)置有顯示面板，所述顯示面板上設(shè)置有數(shù)據(jù)顯示屏，所述顯示面板下側(cè)的測(cè)試主機(jī)前端外壁上設(shè)置有控制面板，所述控制面板上設(shè)置有控制按鍵，所述按壓保護(hù)裝置上設(shè)置有固定套，所述固定套套接在探頭連接座靠近上側(cè)外部，所述固定套左右兩端外壁上均設(shè)置有連接塊，兩個(gè)所述連接塊靠外側(cè)豎向內(nèi)部均設(shè)置有微調(diào)螺孔，兩個(gè)所述微調(diào)螺孔內(nèi)部均連接有豎向的伸縮螺管，兩個(gè)所述伸縮螺管的上端分別設(shè)置在兩個(gè)微調(diào)螺孔的內(nèi)部，兩個(gè)所述伸縮螺管的下端分別設(shè)置在兩個(gè)連接塊的下端外部，兩個(gè)所述伸縮螺管最上端內(nèi)部均設(shè)置有開(kāi)口向上的微調(diào)內(nèi)孔，兩個(gè)所述伸縮螺管下半段內(nèi)部均設(shè)置有伸縮桿，兩個(gè)所述伸縮桿最下端均分別設(shè)置在兩個(gè)伸縮螺管的下端外部，兩個(gè)所述伸縮桿的最下端均連接有按壓保護(hù)片，兩個(gè)所述按壓保護(hù)片的底部均連接有硅膠防刮墊，兩個(gè)所述伸縮螺管分別設(shè)置在測(cè)試探頭和探頭連接座的左右兩側(cè)，兩個(gè)所述連接塊與兩個(gè)按壓保護(hù)片之間的兩個(gè)伸縮螺管外部均套接有按壓復(fù)位彈簧。

優(yōu)選的，所述測(cè)試主機(jī)后端外壁內(nèi)部設(shè)置有電池槽，所述電池槽內(nèi)部設(shè)置有內(nèi)置電池，所述電池槽最外側(cè)開(kāi)口內(nèi)部設(shè)置有電池蓋，所述電池蓋和電池槽通過(guò)卡扣固定連接，所述測(cè)試探頭、測(cè)試主機(jī)、控制按鍵、狀態(tài)指示燈和數(shù)據(jù)顯示屏均通過(guò)內(nèi)置電池電性連接。