[實用新型]一種板式PECVD機臺

有效

• 申請號: 201921961009.3
• 申請日: 2019-11-13
• 公開（公告）號: CN211394622U
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發明（設計）人: 陳金元
• 申請（專利權）人: 理想萬里暉真空裝備（泰興）有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/34
• 代理公司: 蘇州國卓知識產權代理有限公司 32331
• 代理人: 劉靜宇

本實用新型公開了一種板式PECVD機臺，包括：機臺底座；傳送帶，所述傳送帶可拆卸的設置在機臺底座的內腔頂部，所述傳送帶的表面沿水平方向設置有多組裝料槽，每組所述裝料槽的數量為五個；裝料區，所述傳送帶的頂端一側設置有裝料區；工藝區，所述傳送帶的頂端中部設置有工藝區；卸料區，所述傳送帶的頂端另一側設置有卸料區；進料臺，所述進料臺設置在機臺底座的一端前部，所述進料臺的內腔設置有硅片；裝料機，所述裝料機設置在機臺底座的一端前部和進料臺的另一端。該板式PECVD機臺，通過裝料機從進料臺內取出硅片，并將硅片放在傳送帶上，再通過卸料機將硅片取出，通過出料機構將硅片送出，縮短了加工時長，便捷卸料，實用性強。

技術領域

本實用新型涉及PECVD技術領域，具體為一種板式PECVD機臺。

背景技術

PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜，為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積；

現有技術中，PECVD機臺通過將硅片放置在矩形的底座上，進行一系列的加工處理，在底座一個個上料的過程中，使得整個加工的過程耗時增長；在卸料出料的過程中，無法將硅片便捷的卸出，實用性差。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種板式PECVD機臺，以至少解決現有技術的板式PECVD機臺無法持續進料和便捷卸料的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種板式PECVD機臺，包括：

機臺底座；

傳送帶，所述傳送帶可拆卸的設置在機臺底座的內腔頂部，所述傳送帶的表面沿水平方向設置有多組裝料槽，每組所述裝料槽的數量為五個；

裝料區，所述傳送帶的頂端一側設置有裝料區；

工藝區，所述傳送帶的頂端中部設置有工藝區；

卸料區，所述傳送帶的頂端另一側設置有卸料區；

進料臺，所述進料臺設置在機臺底座的一端前部，所述進料臺的內腔設置有硅片；

裝料機，所述裝料機設置在機臺底座的一端前部和進料臺的另一端；

卸料機，所述卸料機設置在機臺底座的另一端后部；

出料機構，所述出料機構設置在機臺底座的另一端。

優選的，所述工藝區包括：裝載腔，所述裝載腔設置在裝料區的另一端；加熱腔，所述加熱腔設置在裝載腔的另一端；沉積腔，所述沉積腔設置在加熱腔的另一端；冷卻腔，所述冷卻腔設置在沉積腔的另一端；卸載腔，所述卸載腔設置在冷卻腔的另一端。

優選的，所述出料機構包括：出料臺，所述出料臺設置在機臺底座的另一端；出料口，所述出料口的數量為五個，五個所述出料口沿水平方向設置在出料臺的頂端前部；轉動軸，所述轉動軸轉動設置在出料臺的頂端后部兩側內壁之間；出料桿，所述出料桿的數量為五個，五個所述出料桿沿水平方向設置在轉動軸上。

優選的，所述出料桿包括：夾持柱一，所述出料桿的頂端后部設置在夾持柱一；夾持柱二，所述出料桿的頂端前部設置在夾持柱二，所述夾持柱二的底端延伸進出料桿的內腔，并與出料桿的內壁滑動連接；伸縮桿，所述伸縮桿固定設置在出料桿的內腔，所述伸縮桿的輸出端設置在夾持柱二的底端。

優選的，所述裝料機和卸料機包括：底柱；轉動塊，所述轉動塊設置在底柱的頂端；取料塊，所述取料塊設置在轉動塊的一端；真空吸盤，所述真空吸盤的數量為五個，且均設置在取料塊的底端。

優選的，所述出料桿與出料口沿前后方向一一對應。