[實用新型]一種晶圓拋光裝置有效
| 申請號: | 201921908868.6 | 申請日: | 2019-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN211760653U | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發明(設計)人: | 潘國剛;段勇 | 申請(專利權)人: | 江蘇英銳半導體有限公司 |
| 主分類號: | B24B29/02 | 分類號: | B24B29/02;B24B41/06;B24B47/22;B24B57/02;B24B41/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 224000 江蘇省鹽城市鹽城經*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 拋光 裝置 | ||
本實用新型公開了一種晶圓拋光裝置,包括拋光臺,所述拋光臺下部固定設置有底箱,所述拋光臺上部固定設置有上板,所述底箱與上板之間固定連接有后板,所述底箱上表面中部位置固定設置有承臺,所述承臺內部固定設置有托板,所述上板上表面中部位置固定設置有第一氣缸,所述第一氣缸貫穿上板上表面中部位置固定連接下部第一伸縮桿,所述第一伸縮桿下端固定連接有連接盤。本實用新型中,放置位置設為槽形,使圓晶片表面整體暴露,便于整面拋光,槽深可直接設置拋光后圓晶片厚度,托板連有氣缸,實現圓晶片頂出作業,實現拋光后圓晶片簡卸作業,拋光盤底面間接式拋光片設置,各拋光片間有拋光槽,拋光槽內設注液口,實現拋光注液,拋光效率相對較高。
技術領域
本實用新型涉及拋光領域,尤其涉及一種晶圓拋光裝置。
背景技術
眾所周知,晶圓拋光設備是一種用于降低晶圓表面粗糙度的設備,其在晶圓制造的領域中得到了廣泛的使用,現有的晶圓拋光設備包括工作臺、夾緊設備和拋光輪,夾緊設備頂側壁與工作臺頂側壁連接,拋光輪位于工作臺上方,現有的晶圓拋光設備使用時,使用者將夾緊設備安裝在工作臺上,使用夾緊設備將需拋光物品夾緊,使用拋光輪打磨即可。
現有的拋光設備使用,需要對圓晶進行夾持作業,這就導致一次拋光作業無法使圓晶整體表面拋光,拋光精度一般以拋光盤上下移動距離為參照,這種方式無法保證移動距離的精確性,從而無法簡易的實現圓晶厚度的對比,需要借助人工或其他機械進行供液處理,操作過程繁瑣,損耗成本高。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點,而提出的一種晶圓拋光裝置。
為了實現上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:一種晶圓拋光裝置,包括拋光臺,所述拋光臺下部固定設置有底箱,所述拋光臺上部固定設置有上板,所述底箱與上板之間固定連接有后板,所述底箱上表面中部位置固定設置有承臺,所述承臺內部固定設置有托板,所述上板上表面中部位置固定設置有第一氣缸,所述第一氣缸貫穿上板上表面中部位置固定連接下部第一伸縮桿,所述第一伸縮桿下端固定連接有連接盤,所述連接盤上表面中部位置固定連接有電機,所述電機制動端貫穿連接盤上表面固定連接下部拋光盤,所述拋光盤大小與連接盤相同,所述拋光盤位置與承臺相互對應,所述連接盤一側端部位置固定連接有注液對接管。
進一步地,所述承臺內部固定設置有卡槽,所述卡槽內部固定連接有托板,所述承臺下部固定設置有對接口,所述托板下表面位置固定設置有連接柱,所述連接柱貫穿對接口中部位置。
進一步地,所述底箱上表面中部位置固定設置有四個對接槽,所述對接槽與對接口對應設置,且對接口外徑大小與對接槽內徑大小相同。
進一步地,所述底箱內部設置為中空,所述底箱內部下表面中部位置固定設置有第二氣缸,所述第二氣缸上端固定連接有第二伸縮桿,所述第二伸縮桿上端與對接口對應設置。
進一步地,所述第一伸縮桿在連接盤上表面圓周上等距設置有四個,所述電機連接于四個第一伸縮桿中部位置,所述第二伸縮桿上部結構與第一伸縮桿下部結構設置為相同。
進一步地,所述拋光盤下表面沿中心位置四周等距設置有多個拋光片,各所述拋光片之間固定設置有拋光槽,所述拋光槽內表面固定設置有注液口,所述注液口與注液對接管間接連通。
進一步地,所述承臺的大小與拋光盤的大小相同,且拋光盤與承臺上下對應設置。
本實用新型具有如下有益效果:
1、本實用新型上部放置圓晶片位置處設置為槽形,可以使圓晶片上表面整體暴露,便于直接整面拋光,槽深調節可以直接設置拋光后圓晶片厚度。
2、本實用新型承臺內部托板直接連接有氣缸,可以實現圓晶片的頂出作業,實現拋光后圓晶片簡卸作業。
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