[實(shí)用新型]陣列基板、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921907939.0 | 申請日: | 2019-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN211180490U | 公開(公告)日: | 2020-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 歐陽祥睿;陳維成 | 申請(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;G03B29/00;H01L27/12 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 徐麗;謝蓓 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,所述陣列基板定義有顯示區(qū)以及被所述顯示區(qū)環(huán)繞的相機(jī)孔區(qū),所述相機(jī)孔區(qū)定義有挖空區(qū)以及圍繞所述挖空區(qū)的走線區(qū),所述陣列基板包括:
基板;
多條第一掃描線,位于所述基板上,每一所述第一掃描線繞開所述挖空區(qū)、跨越所述走線區(qū)并在所述顯示區(qū)內(nèi)沿第一方向延伸;
多條第一數(shù)據(jù)線,位于所述基板上,每一所述第一數(shù)據(jù)線繞開所述挖空區(qū)、跨越所述走線區(qū)并在所述顯示區(qū)內(nèi)沿第二方向延伸;以及
多條第二數(shù)據(jù)線,位于所述基板上,每一所述第二數(shù)據(jù)線繞開所述挖空區(qū)、跨越所述走線區(qū)并在所述顯示區(qū)內(nèi)沿所述第二方向延伸,所述第二方向與所述第一方向交叉,每一所述第二數(shù)據(jù)線包括位于所述走線區(qū)內(nèi)的輔助數(shù)據(jù)線、以及電性連接所述輔助數(shù)據(jù)線并在所述走線區(qū)和所述顯示區(qū)內(nèi)沿所述第二方向延伸的數(shù)據(jù)線引線;
其中,在所述第一方向上,所述第二數(shù)據(jù)線與所述第一數(shù)據(jù)線依次交替排布;
所述第一掃描線、輔助數(shù)據(jù)線由第一導(dǎo)電層定義,所述第一數(shù)據(jù)線、所述數(shù)據(jù)線引線由與所述第一導(dǎo)電層絕緣間隔設(shè)置的第二導(dǎo)電層定義。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,每一條所述第一數(shù)據(jù)線在所述基板上的投影位于相鄰的兩條所述輔助數(shù)據(jù)線之間,相鄰的兩條所述第一數(shù)據(jù)線之間具有一條所述輔助數(shù)據(jù)線。
3.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,在所述第二方向上,所述第一掃描線位于所述輔助數(shù)據(jù)線遠(yuǎn)離所述挖空區(qū)的一側(cè);
每一所述數(shù)據(jù)線引線在所述基板上的投影與所有的所述第一掃描線重疊。
4.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第二導(dǎo)電層還定義有多條第三數(shù)據(jù)線;
每一所述第三數(shù)據(jù)線繞開所述挖空區(qū)、跨越所述走線區(qū)并在所述顯示區(qū)內(nèi)沿所述第二方向延伸;
在所述第一方向上,所述第三數(shù)據(jù)線位于所述第一數(shù)據(jù)線和所述第二數(shù)據(jù)線遠(yuǎn)離所述挖空區(qū)的一側(cè)。
5.如權(quán)利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述挖空區(qū)為圓形,所述走線區(qū)為圓環(huán),每一所述第一掃描線、每一所述第一數(shù)據(jù)線、每一所述第二數(shù)據(jù)線、每一所述第三數(shù)據(jù)線均包括圍繞所述挖空區(qū)延伸的曲線部分。
6.如權(quán)利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述第一導(dǎo)電層還定義有多條第二掃描線,每一條所述第二掃描線在所述顯示區(qū)內(nèi)沿所述第一方向延伸,所述第二導(dǎo)電層還定義有多條第四數(shù)據(jù)線,每一條所述第四數(shù)據(jù)線在所述顯示區(qū)內(nèi)沿所述第二方向延伸。
7.如權(quán)利要求6所述的陣列基板,其特征在于,多條所述第一掃描線、多條所述第二掃描線中任意相鄰的兩條與多條所述第一數(shù)據(jù)線、多條所述第二數(shù)據(jù)線、多條所述第三數(shù)據(jù)線、多條所述第四數(shù)據(jù)線中任意相鄰的兩條在所述顯示區(qū)內(nèi)交叉定義一個(gè)子像素;
每一個(gè)所述子像素包括一個(gè)薄膜晶體管和一個(gè)像素電極;
所述薄膜晶體管包括一柵極、一源極、一漏極;
所述柵極電性連接所述第一掃描線和所述第二掃描線中的一條,所述源極電性連接所述第一數(shù)據(jù)線、所述第二數(shù)據(jù)線、所述第三數(shù)據(jù)線和所述第四數(shù)據(jù)線中的一條,所述漏極電性連接所述像素電極。
8.一種顯示面板,包括彩色濾光片基板、液晶層以及陣列基板,所述液晶層夾設(shè)于所述彩色濾光片基板與所述陣列基板之間,其特征在于,所述陣列基板為如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的陣列基板。
9.一種顯示裝置,包括顯示面板以及攝像模組,所述顯示面板定義有用于顯示圖像的顯示面,所述攝像模組位于所述顯示面板背離所述顯示面的一側(cè),其特征在于,所述顯示面板為如權(quán)利要求8所述的顯示面板,所述攝像模組對應(yīng)所述相機(jī)孔區(qū)設(shè)置以通過所述相機(jī)孔區(qū)采集圖像信息。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其特征在于,還包括背光模組,所述顯示面板位于所述背光模組的出光側(cè),所述背光模組對應(yīng)所述相機(jī)孔區(qū)定義有貫穿所述背光模組的安裝孔,所述攝像模組設(shè)置于安裝孔內(nèi)。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





