[實用新型]抑制管道附近生成旋渦的輔助設備

有效

• 申請號: 201921906520.3
• 申請日: 2019-11-07
• 公開（公告）號: CN211344411U
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 趙曉棟;王維偉;楊婕
• 申請（專利權）人: 煙臺派森特檢測技術有限公司
• 主分類號: F16L55/00
• 分類號: F16L55/00
• 代理公司: 北京國翰知識產權代理事務所(普通合伙) 11696
• 代理人: 吳勝平

1.一種抑制管道附近生成旋渦的輔助設備，包括：導流管(1)；

所述導流管(1)的輸入端設有引入連接法蘭(2)，所述導流管(1)的輸出端設有引出連接法蘭(3)；調節閥(4)，所述調節閥(4)設置于所述導流管(1)的左側；調節軸(5)，所述調節軸(5)設置于所述導流管(1)的內壁的兩側之間，并且調節軸(5)的輸入端貫穿所述導流管(1)且與所述調節閥(4)的輸出端固定連接；其特征在于；

調節組件(6)，所述調節組件(6)的固定于所述調節軸(5)的表面，所述調節組件(6)包括閥葉(61)，所述閥葉(61)且位于所述調節軸(5)的上方開設有長板連接孔(62)，并且閥葉(61)上且位于所述長板連接孔(62)的兩側均開設有短板連接孔(63)；所述閥葉(61)的正面且位于所述長板連接孔(62)的兩側均固定連接有長密封條(64)，并且閥葉(61)的正面且位于所述短板連接孔(63)的兩側均固定連接有短密封條(65)，所述閥葉(61)上且位于所述調節軸(5)的底部分別開設有一個長下壓連接孔(66)和兩個短下壓連接孔(67)；

上導流組件(7)，所述上導流組件(7)設置于所述導流管(1)的內壁的頂部且位于所述調節軸(5)的上方，所述上導流組件(7)包括上導流板(71)；

下導流組件(8)，所述下導流組件(8)固定于所述導流管(1)的內壁的底部且位于所述調節軸(5)的下方。

2.根據權利要求1所述的一種抑制管道附近生成旋渦的輔助設備，其特征在于：所述長密封條(64)共設置有四個，兩個所述長密封條(64)對稱分布在所述閥葉(61)上且位于所述長下壓連接孔(66)的兩側。

3.根據權利要求2所述的一種抑制管道附近生成旋渦的輔助設備，其特征在于：所述短密封條(65)共設置有八個，兩個所述短密封條(65)形成一組，并且兩個短密封條(65)對稱分布在所述閥葉(61)上且位于所述短下壓連接孔(67)的兩側。

4.根據權利要求3所述的一種抑制管道附近生成旋渦的輔助設備，其特征在于：所述上導流板(71)上固定連接有上遮擋板(72)，所述上遮擋板(72)上且位于靠近所述上導流板(71)的一側開設有兩個上密封槽(73)，兩個所述上密封槽(73)對稱分布在所述上導流板(71)的兩側，并且兩個上密封槽(73)的內表面與所述長板連接孔(62)兩側的長密封條(64)的卡接。

5.根據權利要求4所述的一種抑制管道附近生成旋渦的輔助設備，其特征在于：所述上導流組件(7)共設置有三個，兩個所述上導流組件(7)對稱分布在中間所述上導流組件(7)的兩側，并且兩個上導流組件(7)的上下高度是中間的所述上導流組件(7)的高度的二分之一。

6.根據權利要求5所述的一種抑制管道附近生成旋渦的輔助設備，其特征在于：所述下導流組件(8)包括下遮擋板(81)，所述下遮擋板(81)上固定連接有下導流板(82)，所述下遮擋板(81)的頂部開設有兩個下密封槽(83)，兩個所述下密封槽(83)對稱分布在所述下導流板(82)的兩側，并且兩個下密封槽(83)的內表面與所述長下壓連接孔(66)兩側的所述長密封條(64)相匹配。