[實用新型]天線裝置以及電子設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921897619.1 | 申請日: | 2019-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN210576410U | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 向井剛 | 申請(專利權)人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | H01Q1/22 | 分類號: | H01Q1/22;H01Q1/24;H01Q1/38;H01Q7/00;H01Q7/06;G06K7/10 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 李逸雪 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 天線 裝置 以及 電子設備 | ||
1.一種天線裝置,其特征在于,具備:
平面天線,具有線圈導體;和
供電線圈,與所述線圈導體進行磁場耦合,
所述線圈導體具有:
第1耦合部;
第3耦合部;和
第2耦合部,在所述平面天線的俯視下,該第2耦合部與所述供電線圈重疊,并與所述第1耦合部以及所述第3耦合部對置,
所述第1耦合部、所述第2耦合部以及所述第3耦合部被依次連接,由此形成S字狀的圖案,
所述供電線圈具有:
第1線圈導體端,在所述平面天線的俯視下,位于所述第1耦合部與所述第2耦合部之間;和
第2線圈導體端,在所述平面天線的俯視下,位于所述第2耦合部與所述第3耦合部之間。
2.根據(jù)權利要求1所述的天線裝置,其特征在于,
所述平面天線具有:
絕緣基材,具有主面;
所述線圈導體,被設置于所述主面;
第1電容電極,被設置于所述主面,與所述線圈導體的一端部連接;和
第2電容電極,被設置于所述主面,與所述線圈導體的另一端部連接。
3.根據(jù)權利要求2所述的天線裝置,其特征在于,
將所述主面設為第1主面,
所述絕緣基材在所述第1主面的相反側(cè)還具有第2主面,
所述平面天線還具有被設置于所述第2主面的平面電極,
所述平面電極在所述平面天線的俯視下,與所述第1電容電極以及所述第2電容電極重疊。
4.根據(jù)權利要求2所述的天線裝置,其特征在于,
將所述主面設為第1主面,
所述絕緣基材在所述第1主面的相反側(cè)還具有第2主面,
將所述線圈導體設為第1線圈導體,
所述平面天線還具有:
第2線圈導體,被設置于所述第2主面;
第3電容電極,被設置于所述第2主面,該第3電容電極與所述第2線圈導體的一端部連接,且在所述平面天線的俯視下與所述第1電容電極重疊;和
第4電容電極,被設置于所述第2主面,該第4電容電極與所述第2線圈導體的另一端部連接,且在所述平面天線的俯視下與所述第2電容電極重疊。
5.根據(jù)權利要求4所述的天線裝置,其特征在于,
所述第2線圈導體具有:
第4耦合部;
第6耦合部;和
第5耦合部,在所述平面天線的俯視下,該第5耦合部與所述供電線圈重疊,且與所述第4耦合部以及所述第6耦合部對置,
所述第4耦合部、所述第5耦合部以及所述第6耦合部被依次連接,由此形成S字狀的圖案,
所述供電線圈的所述第1線圈導體端在所述平面天線的俯視下,位于所述第4耦合部與所述第5耦合部之間,
所述供電線圈的所述第2線圈導體端在所述平面天線的俯視下,位于所述第5耦合部與所述第6耦合部之間。
6.根據(jù)權利要求1~5的任意一項所述的天線裝置,其特征在于,
在所述平面天線的俯視下,將所述第1耦合部、所述第2耦合部以及所述第3耦合部與所述供電線圈的卷繞軸的交點分別設為第1交點、第2交點以及第3交點,
在所述線圈導體中,將流過所述第1交點、所述第2交點以及所述第3交點的電流的電流向量分別設為第1電流向量、第2電流向量以及第3電流向量,
在所述平面天線的俯視下,將所述第1電流向量中的與所述卷繞軸正交的方向的電流分量設為第1正交電流分量,
在所述平面天線的俯視下,將所述第2電流向量中的與所述卷繞軸正交的方向的電流分量設為第2正交電流分量,
在所述平面天線的俯視下,將所述第3電流向量中的與所述卷繞軸正交的方向的電流分量設為第3正交電流分量,
所述第2正交電流分量與所述第1正交電流分量為相反朝向,所述第2正交電流分量與所述第3正交電流分量為相反朝向。
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