[實用新型]一種正硅酸乙酯充裝鋼瓶的處理系統

有效

• 申請號: 201921894523.X
• 申請日: 2019-11-05
• 公開（公告）號: CN211217827U
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發明（設計）人: 金向華;孫猛;王新喜
• 申請（專利權）人: 蘇州金宏氣體股份有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B3/04
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

本實用新型提供了一種正硅酸乙酯充裝鋼瓶的處理系統，包括：待處理的鋼瓶；有機試劑儲罐；所述有機試劑儲罐與待處理的鋼瓶相連通；3A分子篩；所述3A分子篩與待處理的鋼瓶相連通；二級過濾器；所述二級過濾器與3A分子篩相連通；閃蒸器；所述閃蒸器與二級過濾器相連通；高純氮氣罐；所述高純氮氣罐與待處理的鋼瓶相連通；超純水清洗器；所述超純水清洗器與待處理的鋼瓶相連通；干燥裝置，所述干燥裝置與待處理的鋼瓶相接觸。本實用新型先將待處理鋼瓶內的殘液通過有機試劑進行回收，然后采用高純氮氣進行置換吹掃，再用超純水進行清洗，最后干燥即可得到處理后合格的鋼瓶，處理過程操作流程簡單，殘液與純水回收，環保，污染少，處理效果好。

技術領域

本實用新型屬于半導體技術領域，尤其涉及一種正硅酸乙酯充裝鋼瓶的處理系統。

背景技術

隨著半導體行業的發展，其對制程的主要工藝離子注入、擴散、外延生長及光刻提出了更高的要求，而這也對濕化學品提出了更高的要求。目前超高純正硅酸乙酯主要應用于集成電路低壓化學氣相淀積工藝(LPCVD)，正硅酸乙酯從液態蒸發成氣態，在700℃～750℃、300mTOR壓力下分解在硅片表面淀積生成二氧化硅薄膜，在一定程度上克服SiC氧化層過薄和等離子增強化學氣相沉積法(PECVD)二氧化硅層過于疏松的弊端，保證了氧化層介質的致密性及其與SiC晶片的粘附能力，提高了器件的電性能和成品率，且避免了為獲得一定厚度氧化層長時間高溫氧化的不足，因此電子級正硅酸乙酯在集成電路行業的需求不斷提高。

但如果正硅酸乙酯中的固體顆粒、金屬離子、水分、色譜等超標，將嚴重影響硅片中電路內各元器件的性能甚至損壞電路，甚至芯片報廢。因此，需要正硅酸乙酯滿足純度要求，達到高純指標，滿足制程要求。而儲存和運輸大量的正硅酸乙酯是通過鋼瓶進行的。這對于包裝物鋼瓶的潔凈程度要求極高，而對于新購置的鋼瓶和污染后的鋼瓶，會有各種雜質超標，不能直接用于超高純正硅酸乙酯的充裝，需要對鋼瓶進行處理，確保鋼瓶中的各項雜質含量在可接受的范圍之內。

目前鋼瓶處理很少針對濕化學品，主要集中在氣體鋼瓶上，尤其是氣體鋼瓶中水分的含量。通常使用加熱、高純氦氣置換、抽真空的方法處理永久性氣體鋼瓶、高壓液化氣體和低壓液化氣體鋼瓶中的水分，但鋼瓶中金屬離子、顆粒度等雜質純度仍不是很高。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型要解決的技術問題在于提供一種操作簡單處理效果較好的正硅酸乙酯充裝鋼瓶的處理系統。

本實用新型提供了一種正硅酸乙酯充裝鋼瓶的處理系統，包括：

待處理的鋼瓶；

有機試劑儲罐；所述有機試劑儲罐與待處理的鋼瓶相連通；

3A分子篩；所述3A分子篩與待處理的鋼瓶相連通；

二級過濾器；所述二級過濾器與3A分子篩相連通；

閃蒸器；所述閃蒸器與二級過濾器相連通；

高純氮氣罐；所述高純氮氣罐與待處理的鋼瓶相連通；

超純水清洗器；所述超純水清洗器與待處理的鋼瓶相連通；

干燥裝置，所述干燥裝置與待處理的鋼瓶相接觸。

優選的，還包括蒸汽清洗器；所述蒸汽清洗器與待處理的鋼瓶相連通。

優選的，還包括分子篩；所述有機試劑儲罐通過分子篩與待處理的鋼瓶相連通。

優選的，所述二級過濾器包括一級過濾裝置與二級過濾裝置；所述一級過濾裝置內設置有活性炭；所述二級過濾裝置內設置有濾芯。

優選的，所述濾芯的孔徑為0.1～0.5μm。

優選的，還包括檢測裝置，所述檢測裝置與待處理的鋼瓶相連通。