[實(shí)用新型]一種真空處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921891239.7 | 申請日: | 2019-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN210859098U | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郝佳 | 申請(專利權(quán))人: | 北京躍成光子科技有限公司 |
| 主分類號: | F04B37/14 | 分類號: | F04B37/14;F04B39/00;F04B39/14;B65B31/02 |
| 代理公司: | 北京沁優(yōu)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11684 | 代理人: | 郭峰 |
| 地址: | 100000 北京市海淀區(qū)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空 處理 裝置 | ||
1.一種真空處理裝置,所述裝置包括底座(1)、頂蓋(2),所述底座(1)通過第一轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)(7)與頂蓋(2)連接,所述真空處理裝置還包括壓扣(4),所述壓扣(4)一端通過第二轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)與底座相連接,另一端與頂蓋(2)相配合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空處理裝置,其特征在于,側(cè)板(41)與壓板(42)呈L型固定連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空處理裝置,其特征在于,所述壓扣(4)設(shè)置有壓緊條(421),所述壓緊條(421)與壓板(42)固定連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一所述的真空處理裝置,其特征在于,所屬底座(1)設(shè)置有抽氣孔(15),所述抽氣孔(15)貫穿設(shè)置在底座(1)側(cè)壁上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空處理裝置,其特征在于,所述頂蓋(2)上可拆卸的設(shè)置有密封蓋(3)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種真空處理裝置,其特征在于,所述密封蓋(3)設(shè)置有手柄(31)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種真空處理裝置,其特征在于,所述密封蓋(3)設(shè)置有第二調(diào)節(jié)孔(32),所述第二調(diào)節(jié)孔(32)貫穿設(shè)置在蓋體上。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空處理裝置,其特征在于,在底座(1)側(cè)壁上部設(shè)置有底部連接塊(12),頂蓋(2)側(cè)壁底部設(shè)置有頂部連接塊(22),頂部連接塊(22)和底部連接塊(12)相配合。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種真空處理裝置,其特征在于,所述轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)包括第一轉(zhuǎn)動板(71)、第二轉(zhuǎn)動板(72)、轉(zhuǎn)動軸(73),其中第一轉(zhuǎn)動板(71)與底部連接塊(12)固定連接,第二轉(zhuǎn)動板(72)與頂部連接塊(22)固定連接;所述第一轉(zhuǎn)動板(71)設(shè)置有第一轉(zhuǎn)動圈(711),所述第二轉(zhuǎn)動板(72)設(shè)置有第二轉(zhuǎn)動圈(721),第一轉(zhuǎn)動圈(711)與第二轉(zhuǎn)動圈(721)相互配合,圍繞轉(zhuǎn)動軸(73)轉(zhuǎn)動。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種真空處理裝置,其特征在于,所述底部連接塊(12)對側(cè)設(shè)置有壓扣(4)連接塊(11),所述壓扣(4)連接塊(11)通過第二轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)(8)與側(cè)板(41)相連接,所述頂部連接塊(22)對側(cè)設(shè)置有壓緊臺(21)。
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