[實(shí)用新型]一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201921884725.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN210513111U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李又云;蘇世強(qiáng);賀隆貴;王歡;令狐杰;邱樹(shù)遠(yuǎn);李松皓 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)安大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01C9/00 | 分類號(hào): | G01C9/00;G01C9/02 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 姚詠華 |
| 地址: | 710064*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 基坑 墻體 傾斜 監(jiān)測(cè) 裝置 | ||
1.一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,包括傾斜角傳感器(3)、傳感器安裝板(4)和側(cè)斜管(1),側(cè)斜管(1)采用柔性管,側(cè)斜管(1)內(nèi)設(shè)有沿側(cè)斜管(1)長(zhǎng)度方向設(shè)置的卡槽,傳感器安裝板(4)一端固定于側(cè)斜管(1)內(nèi)的卡槽內(nèi),傳感器安裝板(4)中間部位于側(cè)斜管(1)內(nèi)壁與卡槽外壁之間的空間內(nèi),傾斜角傳感器(3)固定于傳感器安裝板(4)的中間部側(cè)面,傾斜角傳感器(3)通過(guò)連接線(6)連接于傾角顯示器(7),基坑墻體測(cè)斜時(shí),側(cè)斜管(1)設(shè)置于待測(cè)基坑墻壁內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,側(cè)斜管(1)一端為密封結(jié)構(gòu),另一端設(shè)有密封蓋,密封蓋上設(shè)有連接線通孔,用于傾斜角傳感器(3)與傾角顯示器的連接線穿過(guò)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,側(cè)斜管(1)內(nèi)設(shè)有沿側(cè)斜管(1)長(zhǎng)度方向?qū)ΨQ設(shè)置的兩個(gè)卡槽,傳感器安裝板(4)的兩端分別固定于兩個(gè)卡槽內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,側(cè)斜管(1)由左側(cè)斜管和右側(cè)斜管拼合而成,左側(cè)斜管內(nèi)側(cè)兩端分別設(shè)有一個(gè)左半卡槽,右側(cè)斜管內(nèi)側(cè)兩端分別設(shè)有一個(gè)右半卡槽,左側(cè)斜管一端的左半卡槽和右側(cè)斜管一端的右半卡槽拼合成一個(gè)完整卡槽,左側(cè)斜管另一端的左半卡槽和右側(cè)斜管另一端的右半卡槽拼合成另一個(gè)完整卡槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,側(cè)斜管(1)外側(cè)設(shè)有沿側(cè)斜管(1)長(zhǎng)度方向設(shè)置的翼板組(2),翼板組(2)最大面所在平面與傾斜角傳感器(3)豎直放置定位面平行,翼板組(2)包括兩個(gè)分別設(shè)置于左側(cè)斜管和右側(cè)斜管上的翼板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,傳感器安裝板(4)位于卡槽內(nèi)部分為橡膠材料,橡膠材料上設(shè)有氣密孔(5),氣密孔(5)端部設(shè)有注氣孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,傳感器安裝板(4)上沿豎直方向間隔設(shè)置有多個(gè)傾斜角傳感器(3)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,連接線貼設(shè)于傳感器安裝板(4)上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于基坑內(nèi)墻體的傾斜監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于,側(cè)斜管頂部與待測(cè)基坑墻體上端面距離為待測(cè)基坑墻體高度的0.1-0.2倍。
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