[實用新型]一種高效真空退火爐

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921870508.1
• 申請日: 2019-11-01
• 公開（公告）號: CN210657223U
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設計）人: 韋浩
• 申請（專利權）人: 南京機電職業(yè)技術學院
• 主分類號: C30B33/02
• 分類號: C30B33/02
• 代理公司: 南京眾聯(lián)專利代理有限公司 32206
• 代理人: 周新亞

本實用新型公開了一種高效真空退火爐，包括主體、爐膛、真空泵和水冷機構，所述主體的一側設置有爐門，所述爐門通過連接件與主體連接，所述主體的底部在靠近四側邊緣處設置有四個支撐腿，所述主體通過四個支撐腿固定安裝于基座上，所述爐膛與主體之間間隔安裝，所述爐膛的內部設置有加熱元件，所述爐膛的底部設置有料臺，所述真空泵設置有兩個，兩個所述真空泵固定安裝于基座的兩端，且兩個真空泵的抽氣管分別與主體底部的兩端連通連接，所述水冷機構包括水箱、循環(huán)水管、冷凝器和抽水泵。本實用新型真空泵的工作效率高，可初步提高退火爐整體的工作效率，同時還設置有水冷機構，通過循環(huán)水管使爐膛快速降溫，進一步的提高了整體的工作效率。

技術領域

本實用新型涉及退火爐領域，具體為一種高效真空退火爐。

背景技術

退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能，可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底，退火爐的種類有多種，其中，真空退火爐就是其中一種。

但是，現(xiàn)有的真空退火爐存在以下缺點：

1、使用真空泵抽氣將爐膛內的部分物質排除主體時速度較慢，影響后續(xù)的工作效率。

2、退火爐在退火完成后，爐內的溫度較高，自然冷卻需要較長的時間，降低了工作效率。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種高效真空退火爐，以解決傳統(tǒng)的真空退火爐使用真空泵抽氣將爐膛內的部分物質排除主體時速度較慢，影響后續(xù)的工作效率，同時退火爐在退火完成后，爐內的溫度較高，自然冷卻需要較長的時間，降低了工作效率的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種高效真空退火爐，包括主體、爐膛、真空泵和水冷機構，所述主體的一側設置有爐門，所述爐門通過連接件與主體連接，所述主體的底部在靠近四側邊緣處設置有四個支撐腿，所述主體通過四個支撐腿固定安裝于基座上，所述爐膛與主體之間間隔安裝，所述爐膛的內部設置有加熱元件，所述爐膛的底部設置有料臺，所述真空泵設置有兩個，兩個所述真空泵固定安裝于基座的兩端，且兩個真空泵的抽氣管分別與主體底部的兩端連通連接，所述水冷機構包括水箱、循環(huán)水管、冷凝器和抽水泵，所述水箱安裝于主體正下方的基座表面，所述循環(huán)水管的第一端和第二端分別與水箱的上端連通連接，所述冷凝器固定安裝于循環(huán)水管的第一端靠近水箱處，所述抽水泵固定安裝于靠近冷凝器且遠離水箱的一側，所述循環(huán)水管與主體的底部兩端連通連接，且在主體內延伸至纏繞于爐膛的外部表面上。

優(yōu)選的，兩個所述真空泵的側面均設置有抽氣支管，且抽氣支管與主體頂部的兩端連通連接。

優(yōu)選的，所述水箱內的填充循環(huán)冷卻用水為蒸餾水。

優(yōu)選的，所述循環(huán)水管采用銅制金屬軟管制成。

優(yōu)選的，所述循環(huán)水管的第一端在水箱內的位置延伸至水箱的底部，所述循環(huán)水管的第二端在水箱內的位置靠近水箱的頂部。

優(yōu)選的，所述爐膛的外部表面設置有與循環(huán)水管相匹配的弧形凹槽。

本實用新型提供了一種高效真空退火爐，具備以下有益效果：

（1）本實用新型通過設置有兩個真空泵，且兩個真空泵上均設置有抽氣支管，通過兩個抽氣管在主體底部的兩端以及兩個支管在主體頂部的兩端同時進行抽取氣體，使得可以快速的將退火爐內部的部分氣體排出，使其達到真空的目的，便于后續(xù)的工作，初步提高了整體的工作效率。

（2）本實用新型通過設置有水箱、和循環(huán)水管，使得在退火完成后，可打開爐門，啟動循環(huán)水管上的抽水泵以及冷凝器，使得循環(huán)水管中的水進行循環(huán)對爐膛進行有效的熱傳遞工作，使其達到快速降溫的目的，進一步的提高退火爐整體的工作效率。