[實用新型]一種芯片清洗鍍膜一體裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921838512.X | 申請日: | 2019-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN210489594U | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 袁素楊 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫市依瑞電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/687 | 分類號: | H01L21/687;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 石磊 |
| 地址: | 214000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 芯片 清洗 鍍膜 一體 裝置 | ||
1.一種芯片清洗鍍膜一體裝置,包括清洗鍍膜裝置主體(1),其特征在于:所述清洗鍍膜裝置主體(1)的內(nèi)端設(shè)有外架(3),所述外架(3)的內(nèi)端一側(cè)轉(zhuǎn)動連接有配合板(2),所述配合板(2)的一端滑動連接有清洗架(4),所述清洗架(4)的下端設(shè)有儲水槽(5),所述清洗架(4)內(nèi)端頂部設(shè)有橫板(6),所述橫板(6)上開設(shè)底槽(9),所述橫板(6)的下端卡接有透水架(8),所述透水架(8)的一側(cè)轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)動輪(7),所述配合板(2)的內(nèi)端底部設(shè)有第二翻轉(zhuǎn)架(13),所述第二翻轉(zhuǎn)架(13)的一端通過連接軸(14)轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)架(15),所述第二翻轉(zhuǎn)架(13)的另一端固定連接有第一翻轉(zhuǎn)架(12),所述第一翻轉(zhuǎn)架(12)的中心上端開設(shè)有內(nèi)槽(11),所述內(nèi)槽(11)的上端位置固定設(shè)有墊片(10)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片清洗鍍膜一體裝置,其特征在于:所述配合板(2)內(nèi)端的墊片(10)與清洗架(4)上的底槽(9)上端適配設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片清洗鍍膜一體裝置,其特征在于:所述清洗架(4)內(nèi)端的底槽(9)通過透水架(8)與儲水槽(5)相連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片清洗鍍膜一體裝置,其特征在于:所述清洗架(4)內(nèi)端的透水架(8)通過轉(zhuǎn)動輪(7)與外架(3)上開設(shè)的槽體相適配連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片清洗鍍膜一體裝置,其特征在于:所述配合板(2)內(nèi)端通過連接軸(14)和轉(zhuǎn)架(15)與外架(3)相轉(zhuǎn)動連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片清洗鍍膜一體裝置,其特征在于:所述清洗鍍膜裝置主體(1)內(nèi)端的外架(3)與清洗架(4)可貼合設(shè)置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





