[實用新型]一種改進的半導體超聲波清洗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921835452.6
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN211304049U
• 公開（公告）日: 2020-08-21
• 發(fā)明（設計）人: 陳紹勇;王志華;孫豹龍
• 申請（專利權）人: 無錫翔華科技有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B3/02;B08B3/14
• 代理公司: 合肥方舟知識產權代理事務所(普通合伙) 34158
• 代理人: 朱榮

1.一種改進的半導體超聲波清洗裝置，包括水槽(1)以及用于將水抽入水槽(1)內的水泵(2)，且水泵(2)固定在水槽(1)的一側，所述水槽(1)內的兩個側壁上固定有第一超聲波發(fā)生器(3)和第二超聲波發(fā)生器(4)，所述水槽(1)的底部設置有用于放置待清洗產品的放置臺(5)；

其特征在于：所述水泵(2)的輸入管和輸出管均位于水槽(1)內部，且水泵(2)的輸出管位于輸入管的上方，所述水槽(1)靠近其頂部的內壁固定有固定板(6)，且固定板(6)的底部通過連接板(12)與水泵(2)的輸出管固定連接，所述水泵(2)的輸出管的底部設置有噴淋頭(7)，且噴淋頭(7)的數量為多個，所述放置臺(5)位于噴淋頭(7)的下方，且放置臺(5)呈濾網板設置。

2.根據權利要求1所述的一種改進的半導體超聲波清洗裝置，其特征在于：所述水槽(1)的底部固定有電機(8)，所述電機(8)輸出軸的頂端與放置臺(5)的底部固定連接。

3.根據權利要求2所述的一種改進的半導體超聲波清洗裝置，其特征在于：所述水槽(1)的底部還固定有防水罩(9)，且電機(8)位于防水罩(9)內。

4.根據權利要求3所述的一種改進的半導體超聲波清洗裝置，其特征在于：所述放置臺(5)的頂部固定有限位環(huán)(10)，且限位環(huán)(10)的數量為多個，各個所述限位環(huán)(10)的半徑從放置臺(5)中心處向外依次遞增，且待清洗產品放置在兩個相鄰的限位環(huán)(10)之間。

5.根據權利要求4所述的一種改進的半導體超聲波清洗裝置，其特征在于：相鄰的兩個限位環(huán)(10)之間固定有呈多個設置的彈性板(11)，兩個相鄰的限位環(huán)(10)和兩個相鄰的彈性板(11)之間形成一個清洗區(qū)域，且待清洗產品位于清洗區(qū)域內。