[實用新型]一種可提高鍍膜均勻度的真空鍍膜機

有效

• 申請號: 201921829307.7
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN210826338U
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 陳曉東
• 申請（專利權）人: 常州鑫立離子技術有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可提高鍍膜均勻度的真空鍍膜機，包括鍍膜機機箱（1），其特征在于：所述鍍膜機機箱（1）的內部設有真空腔（27），所述真空腔（27）的一端外側設有第一密封墊（8），所述第一密封墊（8）的四個拐角處均安裝有第一電動伸縮桿（3），所述第一電動伸縮桿（3）的一端安裝有機箱密封門（2），所述機箱密封門（2）的一側安裝有齒輪箱（5），所述齒輪箱（5）的頂端安裝有電機（6），所述齒輪箱（5）的底端安裝有可視窗（4），所述機箱密封門（2）的另一側邊緣處安裝有第二密封墊（18），所述齒輪箱（5）的一側連接有不銹鋼固定套（19），所述不銹鋼固定套（19）上固定有第一連接桿（20），所述第一連接桿（20）的一端焊接有鍍膜件固定裝置（7），所述鍍膜件固定裝置（7）的一端焊接有第二連接桿（24），所述第二連接桿（24）的一端與軸承（25）相連，所述鍍膜件固定裝置（7）的兩側均螺紋連接有若干個螺紋桿（21），所述螺紋桿（21）的一端焊接有螺紋桿把手（22），另一端焊接有固定塊（23），所述機箱密封門（2）的另一側底部安裝有第二電動伸縮桿（26），所述第二電動伸縮桿（26）的頂端安裝有托盤（16），所述托盤（16）上設有若干個坩堝（17），所述鍍膜機機箱（1）的頂端安裝有抽真空裝置（9），所述鍍膜機機箱（1）的一側安裝有冷凝箱（10），另一側安裝有電子槍（12），所述鍍膜機機箱（1）的背面安裝有加熱器（11），所述鍍膜機機箱（1）的底端安裝有控制箱（13），所述控制箱（13）的一側上安裝有電源開關（15）。

2.根據權利要求1所述的一種可提高鍍膜均勻度的真空鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜機機箱（1）的底端四個拐角處均焊接有支撐腿（14），所述第一電動伸縮桿（3）通過螺栓固定在所述鍍膜機機箱（1）一端的四個拐角處，所述機箱密封門（2）與所述第一電動伸縮桿（3）通過螺栓固定相連，所述機箱密封門（2）與所述鍍膜機機箱（1）通過所述第一密封墊（8）和第二密封墊（18）密封相連。

3.根據權利要求1所述的一種可提高鍍膜均勻度的真空鍍膜機，其特征在于：所述齒輪箱（5）通過螺栓固定在所述機箱密封門（2）上，所述電機（6）的轉軸與所述齒輪箱（5）內的齒輪嚙合相連，所述不銹鋼固定套（19）與所述齒輪箱（5）相連，所述第一連接桿（20）和不銹鋼固定套（19）上均設有螺紋孔，所述鍍膜件固定裝置（7）通過第一連接桿（20）和螺栓與不銹鋼固定套（19）固定相連。

4.根據權利要求1所述的一種可提高鍍膜均勻度的真空鍍膜機，其特征在于：所述軸承（25）通過螺栓固定在真空腔（27）的背面上，所述鍍膜件固定裝置（7）通過第二連接桿（24）與所述軸承（25）活動相連。

5.根據權利要求1所述的一種可提高鍍膜均勻度的真空鍍膜機，其特征在于：所述第二電動伸縮桿（26）通過螺栓固定在所述機箱密封門（2）的另一側底部上，所述托盤（16）通過螺栓固定在所述第二電動伸縮桿（26）上。

6.根據權利要求1所述的一種可提高鍍膜均勻度的真空鍍膜機，其特征在于：所述抽真空裝置（9）、冷凝箱（10）、加熱器（11）、電子槍（12）和控制箱（13）均通過螺栓固定在所述鍍膜機機箱（1）上，所述抽真空裝置（9）包括機械泵、羅茨泵和擴散泵，并均與真空腔（27）相連，所述冷凝箱（10）內設有冷凝器、水箱和冷凝管，所述電子槍（12）上設有正負兩極。

7.根據權利要求1所述的一種可提高鍍膜均勻度的真空鍍膜機，其特征在于：所述電源開關（15）與外接電源相連，所述電源開關（15）分別與所述電機（6）、第一電動伸縮桿（3）和第二電動伸縮桿（26）電性連接，所述控制箱（13）分別與所述抽真空裝置（9）、冷凝箱（10）、加熱器（11）和電子槍（12）電性連接。