[實用新型]一種鍍膜LOW-E玻璃的除膜設備

有效

• 申請號: 201921827829.3
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN210849660U
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發明（設計）人: 林嘉佑
• 申請（專利權）人: 臺玻太倉工程玻璃有限公司
• 主分類號: B24B27/033
• 分類號: B24B27/033;B08B1/00;B08B1/04;F26B21/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型提供一種鍍膜LOW?E玻璃的除膜設備，含具有馬達和若干輸送輥的輸送機，輸送機上依次布置有：研磨清洗段，研磨清洗段包括若干研磨圓盤刷，研磨圓盤刷的刷毛面與水平面平行，研磨圓盤刷連有驅動其轉動的第一電機；拋光清洗段，拋光清洗段包括若干拋光圓盤刷，拋光圓盤刷的刷毛面與水平面平行，拋光圓盤刷連有驅動其繞豎直方向轉動的第二電機；氧化鈰桶，氧化鈰桶管路連有向研磨清洗段和拋光清洗段噴灑氧化鈰溶液的若干噴頭；清潔清洗段，清潔清洗段包括設置于相鄰兩個輸送輥之間的清潔輥，清潔輥的外圓周面密布清潔刷毛；烘干段，烘干段包括設置于清潔輥遠離拋光清洗段一側的風機。本實用新型能有效去除鍍膜LOW?E玻璃的膜層，實現返修再利用。

技術領域

本實用新型涉及玻璃磨邊設備及配件技術領域，具體涉及一種鍍膜LOW-E玻璃的除膜設備。

背景技術

鍍膜LOW-E玻璃是在潔凈的玻璃基片上鍍幾層到十幾層納米級厚度金屬及其化合物的節能產品。在鍍膜生產過程中，經常出現不良品現象。例如：基片清洗不干凈，LOW-E膜層中殘留污跡物質；因LOW-E膜層保護層較薄或濺射不均勻等造成膜層氧化；基片清洗不干凈或濺射設備真空度不足而導致的LOW-E玻璃膜層脫膜；因濺射物掉落在玻璃上引起的針孔不良等；在生產過程中，各個色系調試的測試板，鍍膜后沒有重復使用。

以上不良板和調試的測試板，在鍍膜后無法返修重復使用，現有技術通常直接拋棄，造成了嚴重的浪費。是故亟待改善。

實用新型內容

為解決上述技術問題，本實用新型的目的在于提供一種鍍膜LOW-E玻璃的除膜設備，能有效去除鍍膜LOW-E玻璃的膜層，實現返修再利用。

為實現上述目的，本實用新型之一種鍍膜LOW-E玻璃的除膜設備，包括具有馬達和由馬達驅動的若干輸送輥的輸送機，所述輸送機上沿其輸送方向依次布置有：

研磨清洗段，所述研磨清洗段包括位于輸送機上方的若干研磨圓盤刷，所述研磨圓盤刷的刷毛面與水平面平行，所述研磨圓盤刷連接有驅動其繞豎直方向轉動的第一電機；

拋光清洗段，所述拋光清洗段包括位于輸送機上方的若干拋光圓盤刷，所述拋光圓盤刷的刷毛面與水平面平行，所述拋光圓盤刷連接有驅動其繞豎直方向轉動的第二電機；

氧化鈰桶，所述氧化鈰桶管路連接有向研磨清洗段和拋光清洗段噴灑氧化鈰溶液的若干噴頭；

清潔清洗段，所述清潔清洗段包括設置于相鄰兩個輸送輥之間的清潔輥，所述清潔輥的外圓周面密布清潔刷毛；

烘干段，所述烘干段包括設置于清潔輥遠離拋光清洗段一側的風機。

優選地，所述研磨圓盤刷的直徑為130～150mm，所述研磨圓盤刷的刷毛采用直徑為0.3～0.5mm，長為20～40mm的尼龍絲。

優選地，所述拋光圓盤刷的直徑為130～150mm，所述拋光圓盤刷的刷毛采用直徑為0.2～0.4mm，長為20～40mm的尼龍絲。

優選地，所述風機的輸出端連接有傾斜設置且呈弧形的風道，所述風道與水平面間的夾角為0°～30°。

優選地，所述輸送機的底部設有回流水箱。

優選地，所述回流水箱的底部設有排廢口，所述排廢口內設有濾網。

本實用新型與現有技術相比，其有益效果是：

設置研磨清洗段、拋光清洗段、氧化鈰桶、清潔清洗段和烘干段，這樣可以使已鍍膜的LOW-E玻璃接受粘稠度較高氧化鈰溶液氛圍的研磨、拋光和清洗，最終得到烘干恢復為原片玻璃，實現鍍膜LOW-E玻璃膜層的去除，以返修再利用，減少浪費，提升成品率；