[實用新型]X射線源和X射線成像設備

有效

• 申請號: 201921818440.2
• 申請日: 2019-10-25
• 公開（公告）號: CN210535623U
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 譚承君;黃文會;靳清秀;唐傳祥;劉東海;羅群;吳沛東;張路明;徐叢;宋程;丁云澤;王碩
• 申請（專利權）人: 清華大學;同方威視技術股份有限公司
• 主分類號: H01J35/14
• 分類號: H01J35/14
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 汪洋

1.一種X射線源(100)，包括：

殼體(101)，在殼體內限定真空空間；

電子束產生裝置(110)，該電子束產生裝置設置在殼體的真空空間內并被配置成發射電子束(102)；

第一聚焦裝置(120)，該第一聚焦裝置設置在殼體的真空空間內，用于接收并聚焦來自電子束產生裝置的電子束；

陽極靶(130)，該陽極靶設置在殼體的真空空間內，面向第一聚焦裝置并被配置成在來自第一聚焦裝置的聚焦的電子束的撞擊下產生X射線，

其特征在于，

該第一聚焦裝置被配置成以可調的第一電位將所接收的電子束聚焦到陽極靶上，使得撞擊陽極靶的聚焦的電子束在陽極靶上產生的束斑(103)的尺寸是能夠調整的。

2.根據權利要求1所述的X射線源，其特征在于，該X射線源還包括：

第二聚焦裝置(150)，該第二聚焦裝置設置在殼體的真空空間內，并位于電子束產生裝置和第一聚焦裝置之間，以對來自電子束產生裝置的電子束進行初始聚焦，使得被初始聚焦后的電子束到達第一聚焦裝置并由第一聚焦裝置進一步聚焦。

3.根據權利要求2所述的X射線源，其特征在于，第二聚焦裝置被配置成以固定的零電位對來自電子束產生裝置的電子束進行初始聚焦。

4.根據權利要求2所述的X射線源，其特征在于，第二聚焦裝置被配置成以可調的第二電位對來自電子束產生裝置的電子束進行初始聚焦。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的X射線源，其特征在于，陽極靶的工作電壓在80kV～300kV的范圍內，所述可調的第一電位在4kV～10kV的范圍內。

6.根據權利要求1-4中任一項所述的X射線源，其特征在于，該X射線源還包括：

控制柵網(140)，該控制柵網設置在殼體的真空空間內，并被配置成控制電子束產生裝置的電子束的發射和截止。

7.根據權利要求6所述的X射線源，其特征在于，控制柵網進一步被配置成調節電子束產生裝置發射的電子束的電子量。

8.根據權利要求1-4中任一項所述的X射線源，其特征在于，該X射線源還包括：

冷卻裝置(131)，該冷卻裝置被構造成對陽極靶進行冷卻。

9.根據權利要求1-4中任一項所述的X射線源，其特征在于，該X射線源包括分布式X射線源，

該分布式X射線源包括設置在殼體的真空空間內的多個所述電子束產生裝置和多個所述第一聚焦裝置。

10.根據權利要求9所述的X射線源，其特征在于，每個第一聚焦裝置以相對于其他第一聚焦裝置獨立可調的電位將來自對應的電子束產生裝置的電子束聚焦到陽極靶上。

11.一種X射線成像設備，其特征在于，該X射線成像設備包括根據權利要求1-10中任一項所述的X射線源。