[實(shí)用新型]通信裝置及介質(zhì)波導(dǎo)濾波器

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201921808160.3
• 申請(qǐng)日: 2019-10-25
• 公開（公告）號(hào): CN210468053U
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝懿非;丁海;林顯添
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京信通信技術(shù)（廣州）有限公司
• 主分類號(hào): H01P1/20
• 分類號(hào): H01P1/20
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 別亮亮

本實(shí)用新型涉及一種通信裝置及介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，介質(zhì)波導(dǎo)濾波器包括介質(zhì)塊與金屬層。介質(zhì)塊的其中一表面上設(shè)有容性耦合通孔與間隔的兩個(gè)頻率調(diào)試孔。容性耦合通孔位于兩個(gè)頻率調(diào)試孔之間。介質(zhì)塊的表面的金屬層上開設(shè)有非圓環(huán)狀的封閉式缺口環(huán)，封閉式缺口環(huán)繞設(shè)于容性耦合通孔的外圍，且封閉式缺口環(huán)為封閉式的封閉式缺口環(huán)。通過調(diào)整非圓環(huán)狀的封閉式缺口環(huán)的周長(zhǎng)來使得容性耦合帶寬符合要求，無需通過如傳統(tǒng)地減小圓環(huán)狀的缺口環(huán)的環(huán)寬D來減小耦合帶寬，非封閉式的封閉式缺口環(huán)的環(huán)寬d可以做到更大的尺寸(例如0.4mm或0.6mm以上)，便于設(shè)備生產(chǎn)加工，生產(chǎn)效率較高，也能避免由于環(huán)寬較小時(shí)的短路缺陷，實(shí)用性較高。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及濾波器技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種通信裝置及介質(zhì)波導(dǎo)濾波器。

背景技術(shù)

介質(zhì)波導(dǎo)濾波器將傳統(tǒng)波導(dǎo)濾波器的空氣填充形式改進(jìn)成高介電常數(shù)陶瓷材料填充，陶瓷介質(zhì)材料起到傳輸信號(hào)和結(jié)構(gòu)支撐的作用，金屬材料附著在瓷介質(zhì)材料表面，作為電壁，起到電磁屏蔽作用。介質(zhì)波導(dǎo)濾波器是一種采用介質(zhì)波導(dǎo)諧振腔經(jīng)過多級(jí)耦合而取得選頻作用的微波濾波器。介質(zhì)波導(dǎo)濾波器的表面覆蓋著金屬層，電磁波被限制在介質(zhì)體內(nèi)，形成駐波振蕩。

傳統(tǒng)的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器如圖1所示，介質(zhì)波導(dǎo)濾波器包括介質(zhì)體40，介質(zhì)體40上設(shè)有兩個(gè)諧振腔，在兩個(gè)諧振腔之間設(shè)有通孔42。介質(zhì)體40的外表面、諧振腔的腔壁、通孔42的孔壁上設(shè)有金屬層46。一般地，介質(zhì)體40的金屬層46上設(shè)有繞通孔42的開口部位周向設(shè)置的環(huán)形缺口44，通過調(diào)整環(huán)形缺口44的寬度D來相應(yīng)調(diào)節(jié)容性耦合帶寬的小。當(dāng)環(huán)形缺口44的寬度D越小時(shí)，容性耦合帶寬越小。然而，實(shí)際運(yùn)用中，例如實(shí)現(xiàn)30MHZ的容性耦合帶寬時(shí)，環(huán)形缺口44的寬度D只有大約0.15mm，環(huán)形缺口44的寬度D太小，現(xiàn)有工藝中達(dá)不到加工目地。即使能實(shí)現(xiàn)，也相當(dāng)容易造成短路風(fēng)險(xiǎn)，幾乎完全沒有實(shí)用性，生產(chǎn)難度較大，生產(chǎn)效率較低。

實(shí)用新型內(nèi)容

基于此，有必要克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種通信裝置及介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，能夠在產(chǎn)品的容性耦合帶寬較小時(shí)，仍然能便于生產(chǎn)制造，生產(chǎn)難度降低，生產(chǎn)效率較高，實(shí)用性較高。

其技術(shù)方案如下：一種介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，包括：介質(zhì)塊，所述介質(zhì)塊的其中一表面上設(shè)有容性耦合通孔與間隔的兩個(gè)頻率調(diào)試孔，所述容性耦合通孔位于兩個(gè)所述頻率調(diào)試孔之間；金屬層，所述金屬層設(shè)于所述介質(zhì)塊的外表面，以及設(shè)于所述容性耦合通孔與所述頻率調(diào)試孔的孔壁上，所述介質(zhì)塊的表面的金屬層上開設(shè)有非圓環(huán)狀的封閉式缺口環(huán)，所述封閉式缺口環(huán)繞設(shè)于所述容性耦合通孔的外圍。

上述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，相對(duì)于傳統(tǒng)的在容性耦合通孔的外圍繞設(shè)的圓環(huán)狀的缺口環(huán)，非圓環(huán)狀的封閉式缺口環(huán)具有更長(zhǎng)的周長(zhǎng)，而周長(zhǎng)越長(zhǎng)時(shí)，相應(yīng)的容性耦合帶寬越小。如此，在針對(duì)于容性耦合帶寬較小的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器的產(chǎn)品設(shè)計(jì)時(shí)，采用上述的介質(zhì)波導(dǎo)濾波器，通過調(diào)整非圓環(huán)狀的封閉式缺口環(huán)的周長(zhǎng)來使得容性耦合帶寬符合要求，無需通過如傳統(tǒng)地減小圓環(huán)狀的缺口環(huán)的環(huán)寬D來減小耦合帶寬，非封閉式的封閉式缺口環(huán)的環(huán)寬d可以做到更大的尺寸(例如0.4mm或0.6mm以上)，便于設(shè)備生產(chǎn)加工，生產(chǎn)效率較高，也能避免由于環(huán)寬較小時(shí)的短路缺陷，實(shí)用性較高。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述封閉式缺口環(huán)包括兩個(gè)以上非封閉式缺口環(huán)，所述非封閉式缺口環(huán)的端部依次連通圍合成所述封閉式缺口環(huán)。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述非封閉式缺口環(huán)均繞所述容性耦合通孔設(shè)置。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述非封閉式缺口環(huán)包括第一非封閉式缺口環(huán)、第二非封閉式缺口環(huán)及第三非封閉式缺口環(huán)，所述第一非封閉式缺口環(huán)、所述第二非封閉式缺口環(huán)及所述第三非封閉式缺口環(huán)在遠(yuǎn)離于所述耦合通孔的方向上依次間隔設(shè)置。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一非封閉式缺口環(huán)為兩個(gè)，所述第二非封閉式缺口環(huán)為四個(gè)，所述第三非封閉式缺口環(huán)為兩個(gè)；