[實用新型]調節裝置

有效

• 申請號: 201921805633.4
• 申請日: 2019-10-24
• 公開（公告）號: CN210835587U
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 王鄉;鐘勇
• 申請（專利權）人: 珠海邁時光電科技有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 葉琦煒

本實用新型涉及光刻膠曝光技術領域，公開了一種調節裝置，能夠調節對基片向上的壓力大小。本實用新型包括底座，設有第一孔和第二孔；活動柱，以活動連接方式穿設于第二孔上；可調節的氣囊，填充于第一孔內；半球型的碗槽，設于活動柱上端且底部設有可調節的真空腔；基片承載臺，上端設有用于放置基片的平臺；半球型的連接體，固定于基片承載臺的底部，連接體置于碗槽內并與活動柱滑動連接。利用連接體和碗槽，可調節基片承載臺的水平度，使基片上端面與掩膜板下端面完全貼合；調節氣囊的壓強，可改變對活動柱向上的力，從而改變基片承載臺對基片向上的壓力，則可調節基片和掩膜板之間接觸的壓強大小，使基片與掩膜板之間的接觸壓強在所需范圍內。

技術領域

本實用新型涉及光刻膠曝光技術領域，特別是一種調節裝置。

背景技術

目前在光刻機的基片接觸調平上，即需要將基片與掩膜板底部完全貼合，一般都是采用彈簧作為緩沖，但這樣基片的接觸壓力就是一個固定的值，無法調節接觸壓力，對于不同大小的基片，接觸壓強不同，會導致光刻膠的形變量不同，影響曝光效果。

發明內容

本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本實用新型提出一種調節裝置，能夠調節對基片向上的壓力大小。

根據本實用新型的第一方面實施例的調節裝置，包括：底座，從下往上設有相連通的第一孔和第二孔；可調節的氣囊，填充于所述第一孔內；活動柱，以活動連接方式穿設于所述第二孔上且置于所述氣囊的上端面；半球型的碗槽，設于所述活動柱的上端且底部設有一可調節的真空腔；基片承載臺，上端設有用于放置基片的平臺；半球型的連接體，固定于所述基片承載臺的底部，所述連接體的球體置于所述碗槽內并與所述活動柱滑動連接，使所述連接體能相對于所述活動柱沿周向滑動。

根據本實用新型實施例的調節裝置，至少具有如下有益效果：利用半球型的連接體和碗槽，可調節基片承載臺的水平度，使基片承載臺上的基片的上端面與掩膜板的下端面完全貼合；通過調節氣囊的壓強，可改變對活動柱向上的力，從而可改變基片承載臺對基片向上的壓力，即通過調節氣囊，則可調節基片和掩膜板之間接觸的壓強大小，使基片與掩膜板之間的接觸壓強在所需范圍內。

根據本實用新型的一些實施例，所述真空腔通過第一氣管與真空泵的進氣口連通。利用真空泵，可對真空腔的狀態進行控制，從而控制活動柱與連接體是否保持固定的狀態。

根據本實用新型的一些實施例，所述第一孔的側壁設有鎖緊組件，所述鎖緊組件用于鎖緊所述活動柱，使所述活動柱與所述底座保持固定狀態。利用鎖緊組件，可避免活動柱會出現上下晃動的情況，從而確保氣囊對活動柱的壓力始終保持一致。

根據本實用新型的一些實施例，所述鎖緊組件為鎖緊螺釘或氣缸。根據實際情況，可選擇鎖緊螺釘或伸縮氣缸，分別實現對活動柱的鎖緊。

根據本實用新型的一些實施例，所述氣囊通過第二氣管與充氣泵連接。利用充氣泵，可對氣囊內氣壓進行實時調節。

根據本實用新型的一些實施例，所述氣囊內或所述第二氣管或所述充氣泵上設有氣壓檢測器。設置氣壓檢測器，可提高氣囊壓強的調節精準度，從而可提高調節基片與掩膜板之間的接觸壓強的精準度。

根據本實用新型的一些實施例，還包括升降組件，所述升降組件的驅動端與所述底座固定連接，使所述底座沿豎直方向升起或降落。利用升降組件可調整基片承載臺的位置高度，然后再通過調節連接體和碗槽及氣囊的狀態，則可調節基片與掩膜板之間的接觸壓強。

根據本實用新型的一些實施例，所述升降組件包括電機、絲桿以及第一升降板，所述電機與所述絲桿傳動連接，所述第一升降板螺紋連接于所述絲桿上，所述底座固定于所述第一升降板的上端，所述電機驅動所述絲桿轉動，從而帶動第一升降板上升或下降。利用絲桿傳動方式則可根據掩膜板的高度對底座的高度進行調節，可適用于精準度高的高度調節工序中。