[實用新型]一種EDI超純水處理系統有效
| 申請號: | 201921801497.1 | 申請日: | 2019-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN211056770U | 公開(公告)日: | 2020-07-21 |
| 發明(設計)人: | 許進;龍超;王巖;汪星;張建濤 | 申請(專利權)人: | 江蘇源邦環境科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/44 | 分類號: | C02F1/44;C02F103/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫市濱*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 edi 超純水 處理 系統 | ||
本實用新型屬于水處理技術領域,具體涉及一種EDI超純水處理系統。該EDI超純水處理系統,包括除垢箱、第一反滲透裝置和第二反滲透裝置,所述除垢箱通過除垢管路與保安過濾器連通的廢水進水端連通,所述保安過濾器通過過濾水管路連通有多組第一反滲透裝置,各第一反滲透裝置分別通過排水管路與RO出水管連通,各第一反滲透裝置分別設有RO濃水管路,各RO濃水管路分別與第二反滲透裝置連通,各第二反滲透裝置的排水管路與RO出水管連通,第二反滲透裝置的RO濃水管路均通過濃水排水管路排出。其有益效果是:結構簡單,管路布設簡單,檢測方便,還便于對反滲透裝置內的各管路進行除垢清理。
技術領域
本實用新型屬于水處理技術領域,具體涉及一種EDI超純水處理系統。
背景技術
半導體、光伏產業近年來發展十分迅速,但是這個行業也是高耗能、高污染行業,生產中會產生大量的工業廢水,其中有大量的半導體廢水中含有較高濃度的H2O2以及一定量的氨、氮,使得廢水中COD(是以化學方法測量水樣中需要被氧化的還原性物質的量)值增大,因此,廢水的處理是目前迫切需要解決的技術問題。
實用新型內容
本實用新型為了彌補現有技術的缺陷,提供了一種EDI超純水處理系統。
本實用新型是通過如下技術方案實現的:
一種EDI超純水處理系統,包括除垢箱、第一反滲透裝置和第二反滲透裝置,所述除垢箱通過除垢管路與保安過濾器連通的廢水進水端連通,所述保安過濾器通過過濾水管路連通有多組第一反滲透裝置,各第一反滲透裝置分別通過排水管路與RO出水管連通,各第一反滲透裝置分別設有RO濃水管路,各RO濃水管路分別與第二反滲透裝置連通,各第二反滲透裝置的排水管路與RO出水管連通,第二反滲透裝置的RO濃水管路均通過濃水排水管路排出。
進一步,所述過濾水管路、排水管路和濃水排水管路上分別設有多個取樣閥。
進一步,所述除垢箱上設有除垢泵,除垢管路與除垢泵連通。
進一步,所述各第一反滲透裝置與各第二反滲透裝置連通處設有取樣閥。
進一步,所述RO出水管上連通有回水管路,回水管路與過濾器連通。
進一步,所述除垢管路與廢水進水端連通處與過濾水管路之間連通有除垢連通管路。
進一步,所述過濾水管路上設有水泵。
本實用新型的有益效果是:結構簡單,管路布設簡單,將過濾后的廢水通過兩級反滲透處理,不達標的RO水通過回水管路流入過濾水槽內過濾后再進行回收,各管路上設有多個取樣閥,檢測方便,還便于對反滲透裝置內的各管路進行除垢清理。
附圖說明
下面結合附圖對本實用新型作進一步的說明。
附圖1為本實用新型的結構示意圖。
圖中,1除垢箱,2除垢管路,3廢水進水端,4保安過濾器,5除垢連通管路,6水泵,7第一反滲透裝置,8排水管路,9 RO出水管,10過濾水槽,11第二反滲透裝置,12濃水排水管路,13回水管路,14取樣閥,15 RO濃水管路,16過濾水管路,17除垢泵。
具體實施方式
附圖1為本實用新型的一種具體實施例。該實用新型一種EDI超純水處理系統,包括除垢箱1、第一反滲透裝置7和第二反滲透裝置11,所述除垢箱1通過除垢管路2與保安過濾器4連通的廢水進水端3連通,所述保安過濾器4通過過濾水管路16連通有多組第一反滲透裝置7,各第一反滲透裝置7分別通過排水管路8與RO出水管9連通,各第一反滲透裝置7分別設有RO濃水管路15,各RO濃水管路15分別與第二反滲透裝置11連通,各第二反滲透裝置11的排水管路8與RO出水管9連通,第二反滲透裝置11的RO濃水管路15均通過濃水排水管路12排出。
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