[實用新型]一種電極箔腐蝕循環裝置

有效

• 申請號: 201921776051.8
• 申請日: 2019-10-22
• 公開（公告）號: CN210856402U
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發明（設計）人: 周鑫;馬坤松;相志明;王磊;杜明貴;楊凱
• 申請（專利權）人: 揚州宏遠電子股份有限公司
• 主分類號: C25F3/04
• 分類號: C25F3/04;C25F7/00
• 代理公司: 南京蘇創專利代理事務所(普通合伙) 32273
• 代理人: 張艷

1.一種電極箔腐蝕循環裝置，其特征在于：包括電極槽（7），所述電極槽（7）設置有出液口，所述出液口設置有出液管道（6），電極槽（7）內部豎直設置有金屬箔（1），所述金屬箔（1）所在平面前后兩側對稱設置有打孔電極板（5），金屬箔（1）與打孔電極板（5）平行，所述打孔電極板（5）開設有若干個孔洞，金屬箔（1）兩側對稱設置有循環管道（2），所述循環管道（2）與金屬箔（1）共面，循環管道（2）朝向金屬箔（1）的一側開設有若干個豎直分布的孔洞，循環管道（2）相互連通，循環管道（2）連接有進液管道（3），所述進液管道（3）設置有流量計（4）。

2.根據權利要求1所述的一種電極箔腐蝕循環裝置，其特征在于：所述電極槽（7）內部設置有固定支架，所述打孔電極板（5）和金屬箔（1）垂直設在固定支架上并且間隔放置。

3.根據權利要求1所述的一種電極箔腐蝕循環裝置，其特征在于：所述進液管道（3）連接管口的高度高于出液口的高度，進液管道（3）連接管口位于循環管道（2）的中上部，出液口位于電極槽（7）側壁的下端。

4.根據權利要求1所述的一種電極箔腐蝕循環裝置，其特征在于：所述電極槽（7）內并排設置有多組打孔電極板（5）和金屬箔（1）進行反應。

5.根據權利要求1所述的一種電極箔腐蝕循環裝置，其特征在于：所述金屬箔（1）為方形片狀鋁箔。