[實用新型]一種B超探頭輔助裝置

有效

• 申請號: 201921771969.3
• 申請日: 2019-10-22
• 公開（公告）號: CN211243441U
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發明（設計）人: 王淑霞;趙常花
• 申請（專利權）人: 王淑霞
• 主分類號: A61B8/00
• 分類號: A61B8/00
• 代理公司: 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435
• 代理人: 朱昀

1.一種B超探頭輔助裝置，其特征為：包括中空的圓柱形殼體，所述的殼體內表面上設有B超探頭夾緊裝置，在殼體壁內還設有耦合劑容納腔，所述的殼體外表面上設有連通耦合劑容納腔且設有閥門的耦合劑進口，在殼體的內表面且位于夾緊裝置下方還設有連通耦合劑容納腔的耦合劑噴嘴，所述的殼體的外表面設有耦合劑噴嘴的開關閥門。

2.如權利要求1所述的一種B超探頭輔助裝置，其特征為：所述的夾緊裝置由2個相對設置的夾臂構成，所述的夾臂包括連接柱、彈簧、以及夾持體，所述的彈簧的一端與連接柱頂端固定連接、另一端與夾持體的底端固定連接，所述的夾持體為U形結構，在U形結構兩側壁上設有貫穿側壁的緊固螺栓。

3.如權利要求2所述的一種B超探頭輔助裝置，其特征為：所述的殼體內壁表面設有水平的環形滑槽，在環形滑槽內設有滑塊，所述的連接柱的底端與滑塊外表面固定連接。

4.如權利要求3所述的一種B超探頭輔助裝置，其特征為：所述的殼體內壁表面上還設有2條關于殼體軸線對稱的縱向滑槽，所述的縱向滑槽與環形滑槽連通，所述的縱向滑槽位于環形滑槽的上方、且向殼體上端延伸，所述的縱向滑槽與滑塊相配。

5.如權利要求1～4任一所述的一種B超探頭輔助裝置，其特征為：所述的耦合劑噴嘴與耦合劑容納腔的底部通過設置于殼體壁內的圓柱形管道連通，所述的耦合劑噴嘴有若干個、均勻分布于殼體內表面；所述的圓柱形管道上下端之間的殼體壁范圍內還設有縱截面為圓形且水平設置的環形通道，所述的環形通道與殼體同軸，所述的環形通道穿過圓柱形管道中部，所述的圓柱形管道與環形通道的上下端連通；所述的殼體壁外表面設有限位槽，所述的限位槽與環形通道連通；所述的開關閥門包括設置于限位槽開口外側的開關把手、以及與開關把手固定連接的環形部件，所述的環形部件容置于環形通道內，所述的環形部件位于圓柱形管道處設有能夠將圓柱形管道開閉的活塞，所述的活塞上設有與圓柱形管道配合的豎直方向的通孔。

6.如權利要求1～4任一所述的一種B超探頭輔助裝置，其特征為：所述的耦合劑容納腔的上部的殼體外壁上還設有第一觀察窗。

7.如權利要求1～4任一所述的一種B超探頭輔助裝置，其特征為：所述的耦合劑容納腔上方還設有壓力氣體室，所述的壓力氣體室與耦合劑容納腔通過在耦合劑容納腔頂壁上設置氣孔連通，在殼體外壁表面還設有連通壓力氣體室與殼體外的氣源管，所述的氣源管上設有通氣閥；所述的通氣閥為限制氣體向壓力氣體室輸送的單向閥。

8.如權利要求7所述的一種B超探頭輔助裝置，其特征為：所述的氣源管通過軟管連接有充氣球。

9.如權利要求1～4、8任一所述的一種B超探頭輔助裝置，其特征為：所述的耦合劑噴嘴下方的殼體壁上還設有第二觀察窗。