[實(shí)用新型]半導(dǎo)體光罩盒儲(chǔ)存設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201921749187.X
• 申請(qǐng)日: 2019-10-18
• 公開（公告）號(hào): CN210823347U
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江明煌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 袁締實(shí)業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): B65D25/02
• 分類號(hào): B65D25/02
• 代理公司: 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113
• 代理人: 何為;袁穎華

一種半導(dǎo)體光罩盒儲(chǔ)存設(shè)備，包含底座、升降構(gòu)件、馬達(dá)及上下位移平臺(tái)。底座具有固定座及承載構(gòu)件，該固定座鎖固于該承載構(gòu)件上；該升降構(gòu)件藉由兩固定件與底座相連接，升降構(gòu)件具有連接塊、滑軌及滑塊，該連接塊的二相反面對(duì)應(yīng)設(shè)有凹槽，該凹槽用以固定該滑軌，滑塊滑設(shè)于該些滑軌上，且連接塊二相反面的滑塊分別鎖固于第一位移構(gòu)件及第二位移構(gòu)件上，該第一位移構(gòu)件的頂部固定于上下位移平臺(tái)底部；馬達(dá)與升降構(gòu)件電性連接以輸出動(dòng)力，使第一位移構(gòu)件上下動(dòng)作，從而利用滑塊與滑軌之間的相對(duì)滑動(dòng)帶動(dòng)上下位移平臺(tái)上下位移。因此，當(dāng)本半導(dǎo)體光罩盒儲(chǔ)存設(shè)備在上升下降時(shí)可避免設(shè)備不平衡而導(dǎo)致受損的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型關(guān)于一種半導(dǎo)體光罩盒儲(chǔ)存設(shè)備，特別是關(guān)于一種當(dāng)設(shè)備在上升或下降時(shí)可避免設(shè)備不平衡或錯(cuò)位而導(dǎo)致受損的半導(dǎo)體光罩盒儲(chǔ)存設(shè)備。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體制造過程中普遍使用光罩于微影制程中，一般光罩為使用平坦的石英或玻璃板，并在石英或玻璃板的一側(cè)面沉積一層鉻制造而成。在黃光微影制程中，會(huì)將光罩上的圖案轉(zhuǎn)移成一圖像至一晶圓上。現(xiàn)階段為了制造出更微小的電子組件以提高集成電路的密度，必須使線寬越來越小。然而，在線寬逐漸縮小的情況下，在光徑上所出現(xiàn)的污染更容易被轉(zhuǎn)移至晶圓上，而造成晶圓良率下降。如此，對(duì)于高精準(zhǔn)的光罩特別容易受影響而產(chǎn)生缺陷，因此，現(xiàn)階段保持光罩的清潔及儲(chǔ)存是一項(xiàng)重要的課題。

在黃光微影制程中，光罩扮演了重要的角色，而光罩霧狀污染(Haze defect)是造成良率下降的主要因素。光罩霧狀污染主要成分為硫酸銨，這類型的污染除了來自光罩保護(hù)膜之外，還有其他影響因子如，光罩清洗過程的殘留物質(zhì)、光罩儲(chǔ)存環(huán)境及時(shí)間、制程環(huán)境或曝光劑量與缺陷數(shù)量間的關(guān)系等。其次，除了保持光罩清潔問題之外，光罩的儲(chǔ)存亦是一項(xiàng)重要課題，傳統(tǒng)光罩儲(chǔ)存盒可減少光罩因碰撞或晃動(dòng)導(dǎo)致的受損。

目前一般半導(dǎo)體工廠也使用半導(dǎo)體光罩儲(chǔ)存設(shè)備來儲(chǔ)存光罩以保持光罩的完整度，然而，目前所使用的設(shè)備可儲(chǔ)放光罩的數(shù)量較少，且設(shè)備使用一段時(shí)間后由于設(shè)備經(jīng)常需要上升、下降而造成滑軌高處容易越變?cè)骄o，使得馬達(dá)軸心容易斷裂。此外，傳統(tǒng)所使用的光罩儲(chǔ)存設(shè)備僅具有單面的滑軌，因此容易造成設(shè)備不平衡的問題。

有鑒于此，本發(fā)明人投入眾多研發(fā)能量與精神，不斷于本領(lǐng)域突破及創(chuàng)新，盼能以新穎的技術(shù)手段解決已知技術(shù)的不足，除帶給社會(huì)更為良善的產(chǎn)品，亦能促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的主要目的是，提供一種半導(dǎo)體光罩儲(chǔ)存設(shè)備，本創(chuàng)作具有對(duì)稱的滑軌及滑塊設(shè)計(jì)，可達(dá)到在運(yùn)作的過程中設(shè)備平衡的目的。此外，本創(chuàng)作的滑軌系鎖固于位移構(gòu)件上，可避免設(shè)備在上升下降過程造成滑軌位置錯(cuò)位的問題，進(jìn)而可克服馬達(dá)軸心斷裂的問題。

為達(dá)成上述目的，本創(chuàng)作提供一種半導(dǎo)體光罩盒設(shè)備，其特征在于，其包含：一底座，具有一固定座及一承載構(gòu)件，該固定座固定于該承載構(gòu)件上；升降構(gòu)件，具有一連接塊、數(shù)個(gè)滑軌及數(shù)個(gè)滑塊，該連接塊上設(shè)有數(shù)個(gè)凹槽以固定該些滑軌，該些滑塊滑設(shè)于該些滑軌上，并分別固定于一第一位移構(gòu)件及一第二位移構(gòu)件，且該第二位移構(gòu)件固定于該底座上；馬達(dá)，與該升降構(gòu)件電性連接以輸出動(dòng)力，使該升降構(gòu)件的第一位移構(gòu)件及連接塊上下移動(dòng)；以及上下位移平臺(tái)，與該升降構(gòu)件的第一位移構(gòu)件頂部相連接，通過該些滑塊與該些滑軌上相對(duì)滑動(dòng)以帶動(dòng)該上下位移平臺(tái)上下位移。

所述凹槽垂直設(shè)置于該連接塊的正反兩面，以形成相互對(duì)稱設(shè)置的該些凹槽。

述凹槽的上下頂端處具有對(duì)稱的一凸塊，使該些滑塊在小于該些滑軌長度的范圍中上下位移。

所述凸塊相對(duì)于該連接塊垂直設(shè)置于該些滑軌上，使得該些滑塊可抵靠在該凸塊上并停止上下位移。

所述設(shè)備更包括一固定件，該固定件的一端鎖固于該底座的該承載構(gòu)件上，另一端鎖固于該第二位移構(gòu)件上。

所述第一位移構(gòu)件的表面具有數(shù)個(gè)卡槽，該些卡槽以一固定的間隔距離固設(shè)于該第一位移構(gòu)件的一側(cè)邊，可將數(shù)個(gè)光罩盒儲(chǔ)存于該些卡槽中。