[實用新型]用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921694707.1
• 申請日: 2019-10-11
• 公開（公告）號: CN211069515U
• 公開（公告）日: 2020-07-24
• 發(fā)明（設計）人: 陳脈;陳舒慶
• 申請（專利權）人: 湖北新石器電陶科技有限公司
• 主分類號: B01D50/00
• 分類號: B01D50/00
• 代理公司: 荊門市森皓專利代理事務所(普通合伙) 42253
• 代理人: 王麗

1.用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)，其特征在于：包括地基(1)以及位于地基(1)上的第一沉降室(2)、第二沉降室(3)以及排空煙囪(4)；

所述第一沉降室(2)一側設有進風口(21)，所述進風口(21)處設有第一軸流風機(5)，所述第一軸流風機(5)通過通風管道與陶瓷真空管施釉機的出氣口連通；

所述第二沉降室(3)位于第一沉降室(2)一側且二者之間設有隔墻(22)，所述隔墻(22)底部設有通風口(23)，位于所述通風口(23)下方的地基(1)上設有蓄水池(11)，所述蓄水池(11)底部設有排水口(12)，所述排水口(12)通過排水水泵(6)以及排水管道外接一個凈化池；

所述通風口(23)上方設有與通風口(23)對應的水幕除塵單元(7)，所述水幕除塵單元(7)通過高壓水泵(8)以及供水管道外接一個供水池；

所述第二沉降室(3)頂部設有排空口(31)，所述排空口(31)處設有第二軸流風機(9)，所述排空煙囪(4)豎直連接在第二軸流風機(9)的出風口上。

2.根據(jù)權利要求1所述的用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)，其特征在于：所述水幕除塵單元(7)包括噴水支管(71)以及均勻設置于噴水支管(71)上的若干水幕噴頭(72)，所述噴水支管(71)通過一組管支架(73)固定在隔墻(22)上，所述水幕噴頭(72)的噴水角度可調。

3.根據(jù)權利要求1所述的用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)，其特征在于：所述第二沉降室(3)頂部還設有一個用于進一步過濾釉粉的蜂窩狀的陶瓷顆粒捕集器(10)。

4.根據(jù)權利要求1所述的用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)，其特征在于：所述蓄水池(11)內設有與排水水泵(6)電連接的液位開關。

5.根據(jù)權利要求1所述的用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)，其特征在于：所述蓄水池(11)底部形成有與水平面成夾角θ的斜坡，θ小于10°，所述排水口(12)位于蓄水池(11)的最低處。

6.根據(jù)權利要求1所述的用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)，其特征在于：所述第一沉降室(2)一側設有第一檢修口(24)，所述第二沉降室(3)一側設有第二檢修口(32)，所述第二沉降室(3)頂部設有與陶瓷顆粒捕集器(10)對應的第三檢修口(33)。

7.根據(jù)權利要求1所述的用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)，其特征在于：所述進風口(21)和通風口(23)處分別設有第一濾網(wǎng)(101)和第二濾網(wǎng)(102)。

8.根據(jù)權利要求1所述的用于陶瓷真空管施釉線上的排氣凈化系統(tǒng)，其特征在于：所述排空煙囪(4)的豎直高度不小于9.6米，且頂部設有90°折彎。