[實(shí)用新型]一種便捷式用于金屬靶材生產(chǎn)加工的噴涂裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921668278.0 | 申請日: | 2019-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN210765492U | 公開(公告)日: | 2020-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胥小勇 | 申請(專利權(quán))人: | 福建瓦能科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京天奇智新知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11340 | 代理人: | 曾捷 |
| 地址: | 365000 福建省*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 便捷 用于 金屬 生產(chǎn) 加工 噴涂 裝置 | ||
本實(shí)用新型公開了一種便捷式用于金屬靶材生產(chǎn)加工的噴涂裝置,包括噴涂倉,所述噴涂倉的內(nèi)壁中心底端固接有橫板,所述噴涂倉的內(nèi)部中心右側(cè)設(shè)有襯管,所述噴涂倉的內(nèi)部中心左側(cè)設(shè)有靶材裝置,所述襯管和靶材裝置均通過支撐座組件與噴涂倉相連接,所述噴涂倉的左側(cè)設(shè)有噴氣裝置。該便捷式用于金屬靶材生產(chǎn)加工的噴涂裝置,通過噴涂倉、橫板、襯管、靶材裝置、支撐座組件、噴氣裝置、電機(jī)、轉(zhuǎn)桿、第一傘形齒輪、第二傘形齒輪和圓柱之間的配合,在進(jìn)行噴涂作業(yè)前可以使噴涂倉的內(nèi)部注入適量的氬氣,繼而可以提高設(shè)備的噴涂效率,可以使靶材裝置與襯管進(jìn)行相對轉(zhuǎn)動,進(jìn)而使設(shè)備噴涂效率得到提高,生產(chǎn)成本得到降低。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及靶材加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種便捷式用于金屬靶材生產(chǎn)加工的噴涂裝置。
背景技術(shù)
濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù),它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集反應(yīng),靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長能夠制造出不同的靶材,隨著科技的發(fā)展靶材在各個方面都得到廣泛的應(yīng)用,中國靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也不斷擴(kuò)大自己的規(guī)模和生產(chǎn)技術(shù),產(chǎn)出的靶材的品牌已經(jīng)達(dá)到國際頂端的技術(shù)水平,噴涂制備金屬靶材是利用電弧將靶材材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài),借助高速氣體將其霧化,形成小的熔滴,并加速噴射到襯管或襯板表面,快速冷卻凝固成金屬涂層靶材的過程,但是在進(jìn)行噴涂的過程中,大多數(shù)的設(shè)備會將設(shè)備內(nèi)部空氣中抽出在進(jìn)行噴涂,以防止原材料表面氧化,保障產(chǎn)品質(zhì)量,凡無法在設(shè)備的內(nèi)部注入更為合適的氬氣,進(jìn)而不利于較為快速的進(jìn)行噴涂作業(yè),且內(nèi)部的靶材裝置與襯管無法進(jìn)行相對的轉(zhuǎn)動,進(jìn)一步的影響到噴涂質(zhì)量,進(jìn)而容易造成噴涂效率降低,生產(chǎn)成本較高的情況出現(xiàn)。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種便捷式用于金屬靶材生產(chǎn)加工的噴涂裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的進(jìn)行噴涂的過程中,大多數(shù)的設(shè)備會將設(shè)備內(nèi)部空氣中抽出在進(jìn)行噴涂,以防止原材料表面氧化,保障產(chǎn)品質(zhì)量,但無法在設(shè)備的內(nèi)部注入更為合適的氬氣,進(jìn)而不利于較為快速的進(jìn)行噴涂作業(yè),且內(nèi)部的靶材裝置與襯管無法進(jìn)行相對的轉(zhuǎn)動,進(jìn)一步的影響到噴涂效率,進(jìn)而容易造成噴涂效率降低,生產(chǎn)成本較高的情況出現(xiàn)問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種便捷式用于金屬靶材生產(chǎn)加工的噴涂裝置,包括噴涂倉,所述噴涂倉的內(nèi)壁中心底端固接有橫板,所述噴涂倉的內(nèi)部中心右側(cè)設(shè)有襯管,所述噴涂倉的內(nèi)部中心左側(cè)設(shè)有靶材裝置,所述襯管和靶材裝置均通過支撐座組件與噴涂倉相連接,所述噴涂倉的左側(cè)設(shè)有噴氣裝置,所述噴涂倉的左側(cè)表面底端固接有第一支板,所述第一支板的上表面放置有電源,所述電源的左右兩側(cè)均固接有導(dǎo)線,所述噴涂倉的內(nèi)部底端左側(cè)固接有基座,所述基座的上表面固接有電機(jī),所述電機(jī)的右側(cè)固接有轉(zhuǎn)桿,所述轉(zhuǎn)桿的右側(cè)設(shè)有半圓板,所述半圓板與轉(zhuǎn)桿轉(zhuǎn)動相連,所述半圓板與噴涂倉固定相連,所述轉(zhuǎn)桿的外壁左右兩側(cè)均固定套接有第一傘形齒輪,所述第一傘形齒輪的頂端均嚙合連接有第二傘形齒輪,所述第二傘形齒輪的上表面中心固接有圓柱,兩個所述圓柱的頂端分別與兩個底端支撐座組件固定相連,所述噴涂倉的左表面頂端固接有第二支板,所述第二支板的上表面固接有真空泵,所述真空泵的左側(cè)固接有連管,所述連管的另一端貫穿噴涂倉,所述連管與噴涂倉固定相連,所述連管的管道上安裝有閥門,所述噴涂倉的右表面固接有托板,所述托板的內(nèi)部放置有氬氣瓶,所述氬氣瓶的頂端固接左側(cè)有橫管,所述橫管的另一端貫穿噴涂倉,所述橫管與噴涂倉固定相連。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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