[實用新型]用于生物制藥烘干液渣產(chǎn)生廢氣的凈化設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921668159.5
• 申請日: 2019-09-30
• 公開（公告）號: CN211562507U
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李云飛;周永毅
• 申請（專利權(quán)）人: 廣州紫科環(huán)保科技股份有限公司
• 主分類號: B01D53/86
• 分類號: B01D53/86;B01D53/58;B01D53/52;B01D53/78;B01D53/44;B01D53/48;B01D53/60
• 代理公司: 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288
• 代理人: 成嬋娟

本實用新型公開了用于生物制藥烘干液渣產(chǎn)生廢氣的凈化設(shè)備，包括按廢氣排放流向依次連通的用于噴淋臭氧混合液的第一噴淋洗滌機構(gòu)；用于噴淋堿性溶液的第二噴淋洗滌機構(gòu)；用于干燥廢氣的脫水除霧機構(gòu)；用于除去苯系物質(zhì)的低溫等離子機構(gòu)；用于除去苯系物質(zhì)的復合光催化機構(gòu)；用于除去分子量小且易揮發(fā)分子的異味控制器；用于排放凈化后的氣體的煙囪；用于生物制藥烘干液渣產(chǎn)生廢氣的凈化設(shè)備還包括離心風機，離心風機用于抽吸氣體以使被抽取的氣體通過煙囪排放。其可以使得生物制藥烘干液渣過程中產(chǎn)生的成分復雜的廢氣得到逐步地、較好地凈化，相比于現(xiàn)有技術(shù)中采用單一的凈化設(shè)備或工藝進行凈化，其能夠?qū)Τ煞謴碗s的廢氣進行有效地凈化。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及生物制藥廢氣凈化設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及用于生物制藥烘干液渣產(chǎn)生廢氣的凈化設(shè)備。

背景技術(shù)

生物制藥廠干燥液渣時產(chǎn)生大量的廢氣。廢氣中的污染因子主要為煙氣、水汽、SO₂、NOx及惡臭物質(zhì)等污染物。由于廢氣排放量大、污染成分復雜多變，給廠區(qū)環(huán)境造成較大的污染。為了對生物制藥產(chǎn)生的廢氣進行凈化，常用的技術(shù)主要有干式中和法、復合光催化、離子除臭法、吸收法、吸附法、微生物降解法、復合活性氧法、微量營養(yǎng)元素分解法、燃燒法及冷凝法等等。但是，面對生物制藥發(fā)酵罐產(chǎn)生的尾氣，其成分復雜、濃度較高的廢氣，目前的凈化裝置未能夠有效地對生物制藥發(fā)酵罐產(chǎn)生的廢氣進行凈化。

實用新型內(nèi)容

為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型的目的在于提供用于生物制藥烘干液渣產(chǎn)生廢氣的凈化設(shè)備，其能夠?qū)ι镏扑帍S干燥液渣時產(chǎn)生的廢氣進行有效地凈化。

本實用新型的目的采用如下技術(shù)方案實現(xiàn)：

用于生物制藥烘干液渣產(chǎn)生廢氣的凈化設(shè)備，包括按廢氣排放流向依次連通的用于噴淋臭氧混合液的第一噴淋洗滌機構(gòu)；用于噴淋堿性溶液的第二噴淋洗滌機構(gòu)；用于干燥廢氣的脫水除霧機構(gòu)；用于除去苯系物質(zhì)的低溫等離子機構(gòu)；用于除去苯系物質(zhì)的復合光催化機構(gòu)；用于除去分子量小且易揮發(fā)分子的異味控制器；用于排放凈化后的氣體的煙囪；所述用于生物制藥烘干液渣產(chǎn)生廢氣的凈化設(shè)備還包括離心風機，所述離心風機用于抽吸氣體以使被抽取的氣體通過煙囪排放。

進一步地，所述離心風機設(shè)于所述煙囪內(nèi)；或者，所述離心風機設(shè)于所述異味控制器與所述煙囪之間且所述異味控制器、離心風機、煙囪按廢氣排放流向依次連通。

進一步地，所述第一噴淋洗滌機構(gòu)還包括第一流洗池、第一填料層、第一噴淋頭、第一水泵和第一水箱，所述第一填料層設(shè)于所述第一流洗池內(nèi)，所述第一噴淋頭設(shè)于所述第一填料層的上方，且所述第一流洗池、第一水箱、第一水泵、第一噴淋頭依次連通；所述第一流洗池與所述第二噴淋洗滌機構(gòu)連通。

進一步地，所述第二噴淋洗滌機構(gòu)包括第二流洗池、第二填料層、第二噴淋頭、第二水泵和第二水箱，所述第二填料層設(shè)于所述第二流洗池內(nèi)，所述第二噴淋頭設(shè)于所述第二填料層的上方，且所述第二流洗池、第二水箱、第二水泵、第二噴淋頭依次連通；所述第一流洗池、第二流洗池、脫水除霧機構(gòu)按廢氣排放流向依次連通。

進一步地，所述用于生物制藥烘干液渣產(chǎn)生廢氣的凈化設(shè)備還包括用于噴淋除臭液的第三噴淋洗滌機構(gòu)，所述第二噴淋洗滌機構(gòu)、第三噴淋洗滌機構(gòu)、脫水除霧機構(gòu)按廢氣排放流向依次連通。

進一步地，所述第三噴淋洗滌機構(gòu)包括第三流洗池、第三填料層、第三噴淋頭、第三水泵和第三水箱，所述第三填料層設(shè)于所述第三流洗池內(nèi)，所述第三噴淋頭設(shè)于所述第三填料層的上方，且所述第三流洗池、第三水箱、第三水泵、第三噴淋頭依次連通；所述第二流洗池、所述第三流洗池、脫水除霧機構(gòu)按廢氣排放流向依次連通。

進一步地，所述脫水除霧機構(gòu)為脫水除霧器；所述低溫等離子機構(gòu)為低溫等離子設(shè)備；所述異味控制器為Vaportek異味控制器。

進一步地，所述復合光催化機構(gòu)的紫外線的波長為185nm、254nm或者 365nm。