[實用新型]樣品倉、光譜檢測系統

有效

• 申請號: 201921664345.1
• 申請日: 2019-09-30
• 公開（公告）號: CN211783325U
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 黃培雄;張前成
• 申請（專利權）人: 深圳市太赫茲科技創新研究院有限公司;雄安華訊方舟科技有限公司
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 李娟

1.一種樣品倉，其特征在于，包括相對設置的第一側壁和第二側壁，所述第一側壁和所述第二側壁之間的空間用于放置待測樣品；

所述第一側壁用于反射入射的太赫茲波形成第一反射信號，以及透射所述太赫茲波形成第一透射信號；

所述第二側壁用于全反射第二透射信號，形成第二反射信號；所述第二透射信號由所述第一透射信號透過所述待測樣品形成；

所述待測樣品包括相對的第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面均與所述第一側壁和所述第二側壁平行；

所述第一透射信號傳輸至所述第一表面發生反射形成第三反射信號，以及傳輸至所述第二表面發生反射形成第四反射信號；所述第一側壁與所述第二側壁之間的距離、所述第一反射信號、所述第二反射信號、所述第三反射信號以及所述第四反射信號用于計算所述待測樣品的第一表面與第二表面之間的厚度。

2.如權利要求1所述的樣品倉，其特征在于，還包括位移設備，所述位移設備用于帶動所述待測樣品按垂直于所述第一側壁和所述第二側壁的方向移動。

3.如權利要求1或2所述的樣品倉，其特征在于，所述第一側壁相對所述第二側壁的內表面設置有預設大小的第一薄膜，所述第一薄膜用于使入射的太赫茲波發生反射形成所述第一反射信號以及使所述太赫茲波發生透射形成所述第一透射信號；

所述第二側壁相對所述第一側壁的內表面設置有第二薄膜，所述第二薄膜用于使所述第二透射信號發生全反射形成第二反射信號；所述第二透射信號由所述第一透射信號透過所述待測樣品形成。

4.一種光譜檢測系統，其特征在于，包括：太赫茲發射器、太赫茲波檢測器以及權利要求1-3任一所述的樣品倉；

所述太赫茲發射器用于向所述樣品倉的第一側壁發射太赫茲波；

所述太赫茲波檢測器用于接收所述第一側壁反射的第一反射信號、所述樣品倉的第二側壁反射的第二反射信號、待測樣品的第一表面反射的第三反射信號以及所述待測樣品的第二表面反射的第四反射信號；

所述第一側壁與所述第二側壁之間的距離、所述第一反射信號、所述第二反射信號、所述第三反射信號以及所述第四反射信號用于計算所述待測樣品的第一表面與第二表面之間的厚度。