[實用新型]離子注入機、聚焦裝置以及石墨防護環

有效

• 申請號: 201921652801.0
• 申請日: 2019-09-27
• 公開（公告）號: CN210296289U
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發明（設計）人: 黃和平
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: H01J37/21
• 分類號: H01J37/21;H01J37/317
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 龍威壯;孫寶海

本實用新型提出了離子注入機、聚焦裝置以及石墨防護環。該石墨防護環包括：多個石墨塊，其中，多個所述石墨塊拼接成環形。石墨防護環安裝在聚焦裝置中用于阻擋部分離子束，由于離子束對石墨防護環各處的照射通常是不均勻的，石墨防護環累計照射量最大處通常會變得最薄，當此處的厚度薄到需要更換石墨防護環時只需要將該處所在的石墨塊進行更換即可，不必將整塊石墨防護環都進行更換，由此能節約大量的石墨材料，降低了對石墨材料的消耗。

技術領域

本實用新型總體來說涉及一種離子注入防護技術，具體而言，涉及離子注入機、聚焦裝置以及石墨防護環。

背景技術

離子注入機是一種高壓小型加速器。它是由離子源得到所需要的離子，經過加速得到離子束流，用于對半導體材料、大規模集成電路和器件的離子注入，還用于金屬材料表面改性和制膜。

離子注入機中包括聚焦裝置。該聚焦裝置可以是靜電四極透鏡(electrostaticquadrupole lens)。聚焦裝置用于對離子束進行聚焦，使得離子束被約束成直徑較小的線束。在聚焦裝置上通常安裝有石墨板，石墨板安裝在離子束經過的路徑附近，用于阻擋多余的離子，以避免這些離子直接打在聚焦裝置的金屬壁面上而造成腔室內金屬污染。

當多余的離子直接打在石墨板上時，石墨板會慢慢地被打薄，石墨板最薄處的厚度小于閾值時則需要進行更換，以免石墨板最薄處的厚度小于閾值而導致腔室內金屬污染。石墨板實際上是離子注入機的一種耗材，如何降低石墨板的消耗來節省成本是亟待解決的問題。

在所述背景技術部分公開的上述信息僅用于加強對本實用新型的背景的理解，因此它可以包括不構成對本領域普通技術人員已知的現有技術的信息。

實用新型內容

在實用新型內容部分中引入了一系列簡化形式的概念，這將在具體實施方式部分中進一步詳細說明。本實用新型內容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護的技術方案的關鍵特征和必要技術特征，更不意味著試圖確定所要求保護的技術方案的保護范圍。

本實用新型的一個主要目的在于克服上述現有技術的至少一種缺陷，提供一種用于離子注入機的石墨防護環，其包括：多個石墨塊，其中，多個所述石墨塊拼接成環形。

根據本實用新型的一個實施例，所述多個石墨塊中至少具有第一石墨塊和第二石墨塊；

所述第一石墨塊包括第一直條部以及分別從第一直條部兩端向同一方向伸出的兩個第一伸出部；

所述第二石墨塊包括第二直條部以及分別從第二直條部的兩端向同一方向伸出的兩個第二伸出部；

其中，兩個第一伸出部能分別與兩個第二伸出部相互對齊且兩個第一伸出部的端部能分別與兩個第二伸出部的端部相互連接。

根據本實用新型的一個實施例，所述第一伸出部的端部設置有第一連接部，所述第一連接部上設置有第一通孔；

所述第二伸出部的端部設置有第二連接部，所述第二連接部上設置有第二通孔；

在所述第一連接部與所述第二連接部重疊時，所述第一通孔和所述第二通孔能相互對齊以便于通過螺釘或螺栓進行連接。

根據本實用新型的一個實施例，所述第一伸出部包括第一側面以及與所述第一側面相對的第二側面；

所述第二伸出部包括與所述第一側面平齊的第三側面以及與所述第二側面平齊的第四側面；

所述第一連接部的一側面與所述第一側面平齊，所述第二連接部的一側面與所述第四側面平齊；

其中，所述第一連接部和所述第二連接部的厚度之和等于所述第一伸出部的厚度。

根據本實用新型的一個實施例，所述第一連接部的長度等于所述第二連接部的長度。