[實用新型]吸附設備有效
| 申請號: | 201921624234.8 | 申請日: | 2019-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN210786765U | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發明(設計)人: | 趙雪源;盧洪杰;史東軍;陳敏;潘濤;郭行 | 申請(專利權)人: | 北京瀧濤環境科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/04 | 分類號: | B01D53/04 |
| 代理公司: | 北京博訊知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11593 | 代理人: | 柳興坤 |
| 地址: | 100161 北京市豐臺區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸附 設備 | ||
1.一種吸附設備,用于吸附流體中的雜質,所述吸附設備包括罐體(1)和位于所述罐體(1)內的固體吸附部(4),所述罐體(1)為平底結構,所述吸附設備還包括第一分布器(2)和第二分布器(3),所述第二分布器(3)位于所述罐體(1)內,所述第二分布器(3)包括篩板結構(31),所述固體吸附部(4)位于所述篩板結構(31)的上方,所述第一分布器(2)位于所述篩板結構(31)的下方,所述第一分布器(2)包括進氣管(21),在所述罐體(1)上開設有進氣孔,所述進氣管(21)的至少部分結構經所述進氣孔插入所述罐體(1)內,其特征在于,所述進氣管(21)的伸入所述罐體(1)的部分的端部封閉且該部分上開設有朝向所述罐體(1)底部的進氣缺口(211),所述罐體(1)的中心軸線經過所述進氣缺口(211),所述進氣缺口(211)的面積大于進氣管(21)的橫截面積。
2.根據權利要求1所述的吸附設備,其特征在于,在所述進氣管(21)的軸向上,所述進氣缺口(211)包括位于所述罐體(1)的中心軸線的靠近所述進氣孔的一側的第一部分(2111),以及位于所述罐體(1)的中心軸線的遠離所述進氣孔的一側的第二部分(2112),所述第一部分(2111)的沿所述進氣管(21)的軸向的尺寸大于所述第二部分(2112)沿所述進氣管(21)的軸向的尺寸。
3.根據權利要求2所述的吸附設備,其特征在于,所述第一部分(2111)的沿所述進氣管(21)的軸向的尺寸大于所述第二部分(2112)沿所述進氣管(21)的軸向的尺寸的1倍,且小于或等于所述第二部分(2112)沿所述進氣管(21)的軸向的尺寸1.2倍。
4.根據權利要求1所述的吸附設備,其特征在于,所述進氣缺口(211)沿所述進氣管(21)的軸向的尺寸大于或等于所述進氣管(21)的內徑的1.2倍,并且小于或等于所述進氣管(21)的內徑的1.5倍。
5.根據權利要求1所述的吸附設備,其特征在于,所述罐體(1)的內徑大于或等于所述進氣管(21)內徑的3.3倍,且小于或等于所述進氣管(21)內徑的4倍。
6.根據權利要求1所述的吸附設備,其特征在于,所述進氣缺口(211)的面積大于或等于所述進氣管(21)的橫截面積的1.5倍;和/或,
由所述進氣管(21)向所述罐體(1)的底部的方向,所述進氣缺口(211)的開口逐漸變大。
7.根據權利要求1所述的吸附設備,其特征在于,所述進氣缺口(211)包括沿所述進氣管(21)的軸向延伸的第一邊沿(212)和第二邊沿(213),還包括沿所述進氣管(21)的周向延伸的第三邊沿(214)和第四邊沿(215),所述第三邊沿(214)相較于所述第四邊沿(215)靠近所述進氣孔(11)設置,
所述第一邊沿(212)與所述第二邊沿(213)所在的平面與所述罐體(1)的底部所在的平面平行,且,在所述罐體(1)的軸向上,所述第一邊沿(212)與所述第二邊沿(213)所在的平面與所述進氣管(21)的軸線平齊,或者位于所述進氣管(21)的軸線的靠近所述罐體(1)的底部的一側;和/或,
所述第一邊沿(212)與所述第二邊沿(213)所在的平面與所述進氣管(21)的下邊緣的距離大于或等于所述進氣管(21)的內徑的0.4倍,且小于或等于所述進氣管(21)的內徑的0.5倍;和/或,
在所述進氣孔(11)的位置,所述罐體(1)的內壁與所述第三邊沿(214)的距離大于或等于所述罐體(1)內徑的0.4倍,并且小于或等于所述罐體(1)內徑的0.5倍。
8.根據權利要求1所述的吸附設備,其特征在于,
所述進氣管(21)的上邊緣與所述第二分布器的下邊緣的距離大于或等于800mm,且小于或等于1000mm;和/或,
所述進氣管(21)的中心線與所述罐體(1)的底部的距離大于或等于所述罐體(1)的直徑的1倍且小于或等于1.7倍。
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