[實用新型]一種掩膜版及其蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201921560310.3
• 申請日: 2019-09-18
• 公開（公告）號: CN211057217U
• 公開（公告）日: 2020-07-21
• 發明（設計）人: 史凱興;薛文濤;劉宏俊
• 申請（專利權）人: 昆山維信諾科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 李亞南

本實用新型涉及OLED顯示器技術領域，具體涉及一種掩膜版及其蒸鍍裝置。本實用新型提供的掩膜版，包括掩膜版本體，還包括，若干蒸鍍孔，設置于所述掩膜版本體上且貫穿所述掩膜版本體上下表面，用于蒸鍍材料通過所述蒸鍍孔進行蒸鍍以形成蒸鍍圖案；至少一層保護層，設置于所述掩膜版本體一側上，所述保護層與所述蒸鍍孔相對應區域設置開孔，所述開孔與所述蒸鍍孔一一對應且所述開孔的尺寸不小于所述蒸鍍孔的尺寸。本實用新型提供的掩膜版，可有效降低陰極蒸鍍材料與保護層之間的附著能力，從而使得粘結在掩膜版上的陰極蒸鍍材料可以很容易的被清洗掉，達到快速清洗的效果。

技術領域

本實用新型涉及OLED顯示器技術領域，具體涉及一種掩膜版及其蒸鍍裝置。

背景技術

OLED(英文全稱為Organic Light Emitting Device，簡稱為OLED)以廣視角、高對比、低耗電、響應速度快、工作溫度范圍廣等優點，在顯示領域引起人們的廣泛關注。隨之人們對OLED器件的制備投入了大量的研發精力，在OLED器件的制備過程中，有機蒸鍍過程是至關重要的環節。有機蒸鍍過程是將蒸鍍材料熱蒸發形成有機蒸汽，蒸鍍材料以有機蒸汽的形式通過掩膜版上的圖形孔，在基底上沉積與圖形孔形狀一致的有機膜層，同時有機熱蒸汽也會沉積在掩膜版上，沉積在掩膜版上的蒸鍍材料會嚴重影響后續的蒸鍍品質，因而，需要對掩膜版進行清洗。

以PMOLED(主動矩陣有機發光二極管)為例，PMOLED陰極蒸鍍材料多為金屬 AL或金屬Mg和金屬Ag，在經過多次蒸鍍后，陰極蒸鍍材料容易附著在Open Mask(開放式掩膜版)上。現有PMOLED蒸鍍陰極使用的開放式掩膜版常用清洗流程為：對掩膜版依次進行純水噴淋、N-甲基吡咯烷酮沖洗、N-甲基吡咯烷酮沖洗二次沖洗、異丙醇沖洗、純水噴淋、異丙醇再次沖洗和丙酮沖洗。然而上述清洗工藝不能完全將陰極蒸鍍材料從掩膜版上去除，其仍有部分材料粘結在掩膜版上，為后續的蒸鍍品質造成不良影響。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有PMOLED陰極蒸鍍過程中，陰極蒸鍍材料容易附著在掩膜版上，且經過多次清洗仍有部分材料會粘結在掩膜版上，進而導致后續蒸鍍品質變差的問題。

為達到上述目的，本實用新型采用如下技術方案：

一種掩膜版，包括掩膜版本體，還包括，

若干蒸鍍孔，設置于所述掩膜版本體上且貫穿所述掩膜版本體上下表面，用于蒸鍍材料通過所述蒸鍍孔進行蒸鍍以形成蒸鍍圖案；

至少一層保護層，設置于所述掩膜版本體一側上，所述保護層與所述蒸鍍孔相對應區域設置開孔，所述開孔與所述蒸鍍孔一一對應且所述開孔的尺寸不小于所述蒸鍍孔的尺寸。

進一步的，所述保護層的厚度為10-50nm。

進一步的，所述保護層包括依次層疊設置于所述掩膜版本體一側上的易與掩膜版本體分離的第一保護層和易與蒸鍍材料分離的第二保護層。

進一步的，所述第一保護層的厚度為10-30nm，所述第二保護層的厚度為10-30nm。

進一步的，所述第一保護層為耐高溫有機薄膜層、無機非納米材料層或無機納米材料層；

所述第二保護層為耐高溫有機薄膜層、無機非納米材料層或無機納米材料層。

進一步的，所述第一保護層為耐高溫有機薄膜層，所述第二保護層為無機非納米材料層或無機納米材料層。

進一步的，還包括易與蒸鍍材料分離的第三保護層，所述第三保護層設置于所述第二保護層遠離所述第一保護層的一側上。

進一步的，所述第三保護層的厚度為10-30nm；

所述第三保護層為耐高溫有機薄膜層、無機非納米材料層或無機納米材料層。