[實用新型]低輻射電磁加熱設備有效
| 申請號： | 201921560168.2 | 申請日： | 2019-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN210725396U | 公開（公告）日： | 2020-06-09 |
| 發明（設計）人： | 朱澤春;陳國棟 | 申請（專利權）人： | 九陽股份有限公司 |
| 主分類號： | H05B6/36 | 分類號： | H05B6/36;H05B6/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 250117 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 輻射 電磁 加熱 設備 | ||
1.低輻射電磁加熱設備，包括殼體、內置于所述殼體的電磁線盤和電磁屏蔽裝置，其特征在于，所述電磁屏蔽裝置包括至少兩個屏蔽環，所述電磁線盤包括線盤支架，所述至少兩個屏蔽環設置于所述線盤支架的外周。
2.如權利要求1所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，所述至少兩個屏蔽環在所述電磁線盤徑向方向上依次間隔設置。
3.如權利要求2所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，相鄰屏蔽環徑向間隔5mm～15mm。
4.如權利要求2所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，所述至少兩個屏蔽環直徑遞增，并處于同一高度。
5.如權利要求2所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，所述至少兩個屏蔽環由低到高呈錐狀擴張分布。
6.如權利要求1所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，所述至少兩個屏蔽環直徑相等，并由低到高層疊設置。
7.如權利要求5或6所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，相鄰屏蔽環在高度方向上間隔0.5mm～3mm。
8.如權利要求1至6之一所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，所述電磁線盤還包括設置在所述線盤支架上的感應線圈，所述感應線圈與所述至少兩個屏蔽環在徑向方向對應。
9.如權利要求1至6之一所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，所述電磁線盤包括線盤支架和設置在所述線盤支架外周側的安裝臺，所述至少兩個屏蔽環環繞在所述電磁線盤周圍并且固定于所述安裝臺上，所述安裝臺與所述線盤支架一體成型或由緊固件固定連接。
10.如權利要求1至6之一所述的低輻射電磁加熱設備，其特征在于，所述屏蔽環為截面直徑在2-4mm的鋁線首尾相接而成。
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