[實用新型]一種涂源吸盤裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921551672.6
• 申請日: 2019-09-18
• 公開（公告）號: CN210847015U
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王堅紅;徐明成;陳鋒;黃國軍;王鋒
• 申請（專利權(quán)）人: 常山弘遠電子有限公司
• 主分類號: B05C13/02
• 分類號: B05C13/02
• 代理公司: 北京科家知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11427
• 代理人: 陳娟

本實用新型涉及半導(dǎo)體晶圓加工技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種涂源吸盤裝置，解決了在進行液態(tài)源涂覆工藝時，難以使晶圓中心與吸盤中心重合、易導(dǎo)致涂源不均勻的問題，包括吸盤本體、卡座與安裝在吸盤本體、卡座之間的橡膠氣密圈，吸盤本體的吸附面上設(shè)有不等距同心環(huán)形凹氣槽和匯集于吸盤中心的直線凹氣槽，且吸盤本體的外壁上還設(shè)置有定位爪，定位爪位于吸盤本體吸附面上直線凹氣槽的延伸處，吸盤本體中心吸附面至背面開有貫通的通孔，且吸盤本體底面中心還設(shè)有與之一體的固定圓卡環(huán)，固定圓卡環(huán)末端兩側(cè)均開設(shè)有快拆銷孔，通過在吸盤本體吸附面上的外側(cè)設(shè)有定位爪，使晶圓中心與吸盤中心重合，吸盤帶動晶圓旋轉(zhuǎn)時是同心旋轉(zhuǎn)，使涂源均勻。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及半導(dǎo)體晶圓加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種涂源吸盤裝置。

背景技術(shù)

晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片，由于其形狀為圓形，故稱為晶圓；在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu)，而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。晶圓的原始材料是硅，而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經(jīng)由電弧爐提煉，鹽酸氯化，并經(jīng)蒸餾后，制成了高純度的多晶硅，其純度高達99.999999999％。半導(dǎo)體晶圓在加工時，需要對其表面進行液態(tài)源涂覆工藝，而現(xiàn)有的涂覆工藝普遍采用毛筆涂源或甩涂法，但現(xiàn)有技術(shù)下在進行液態(tài)源涂覆工藝時，難以使晶圓中心與吸盤中心重合、易導(dǎo)致涂源不均勻，因此，我們提出了一種涂源吸盤裝置來解決上述問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的在進行液態(tài)源涂覆工藝時，難以使晶圓中心與吸盤中心重合、易導(dǎo)致涂源不均勻的缺點，而提出的一種涂源吸盤裝置。

為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用了如下技術(shù)方案：

一種涂源吸盤裝置，包括吸盤本體、卡座與安裝在吸盤本體、卡座之間的橡膠氣密圈，所述吸盤本體的吸附面上設(shè)有不等距同心環(huán)形凹氣槽和匯集于吸盤中心的直線凹氣槽，且吸盤本體的外壁上還設(shè)置有定位爪，所述定位爪位于吸盤本體吸附面上直線凹氣槽的延伸處，所述吸盤本體中心吸附面至背面開有貫通的通孔，且吸盤本體底面中心還設(shè)有與之一體的固定圓卡環(huán)，所述固定圓卡環(huán)末端兩側(cè)均開設(shè)有快拆銷孔，所述快拆銷孔的下端兩側(cè)內(nèi)壁上均設(shè)置有凸點；

所述卡座為空心圓柱體，且卡座兩側(cè)外壁上均設(shè)置有卡柱。

優(yōu)選的，所述直線凹氣槽的數(shù)量為三個到九個，且直線凹氣槽均勻的分布在吸盤本體的吸附面上，并且直線凹氣槽與環(huán)形凹氣槽連通。

優(yōu)選的，所述定位爪和吸盤本體之間設(shè)置有凹槽。

優(yōu)選的，所述卡座插設(shè)在所述固定圓卡環(huán)中，且所述卡柱插設(shè)在所述快拆銷孔中。

優(yōu)選的，所述通孔、固定圓卡環(huán)以及卡座氣路連通，且卡座與外部負壓機氣路連通。

優(yōu)選的，所述直線凹氣槽的數(shù)量與所述定位爪的數(shù)量相同。

本實用新型的有益效果是：

1、通過在吸盤本體吸附面上的外側(cè)設(shè)有定位爪，定位爪所構(gòu)成圓的內(nèi)徑被設(shè)計成比晶圓直徑大0.5～2毫米，使晶圓中心與吸盤中心重合，晶圓涂覆擴散源后，吸盤帶動晶圓旋轉(zhuǎn)時是同心旋轉(zhuǎn)，使涂源均勻。

2、通過在定位爪和吸盤本體之間設(shè)有凹槽，可使擴散涂源液不至于污染晶圓背面，從而減少反型。

3、通過在固定圓卡環(huán)末端兩側(cè)設(shè)有快拆銷孔，且與卡座兩側(cè)的卡柱契合，從而方便拆卸安裝。

附圖說明

圖1為本實用新型提出的一種涂源吸盤裝置俯視的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實用新型提出的一種涂源吸盤裝置主視爆炸結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實用新型提出的一種涂源吸盤裝置中卡座側(cè)視的結(jié)構(gòu)示意圖；