[實用新型]濺鍍下料裝置及設備

有效

• 申請號: 201921541387.6
• 申請日: 2019-09-17
• 公開（公告）號: CN211254384U
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發明（設計）人: 翟金雙
• 申請（專利權）人: 蘇州威茲泰克自動化科技有限公司
• 主分類號: B65G47/91
• 分類號: B65G47/91;B65G47/04
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司 32293
• 代理人: 王麗

1.一種濺鍍下料裝置，其特征在于：包括吸盤機構和移動機構，所述吸盤機構設置于所述移動機構上，所述吸盤機構包括多個吸盤、真空止回閥和真空發生器，每個所述吸盤均借助一個所述真空止回閥與所述真空發生器連接，所述多個吸盤等距均勻排布于同一平面上。

2.根據權利要求1所述的濺鍍下料裝置，其特征在于：所述吸盤機構包括固定框，所述固定框的下端面上固定設置有套管，所述吸盤與導管連接，所述導管可活動地穿過所述套管，所述導管的上端借助柔性氣管與所述真空止回閥連通。

3.根據權利要求1所述的濺鍍下料裝置，其特征在于：所述移動機構包括升降組件、x向移動組件和y向移動組件，所述吸盤機構與所述升降組件連接，所述升降組件與所述x向移動組件連接，所述x向移動組件與所述y向移動組件連接。

4.根據權利要求3所述的濺鍍下料裝置，其特征在于：還包括旋轉機構，所述吸盤機構與所述旋轉機構連接，所述旋轉機構與所述升降組件連接，所述旋轉機構包括旋轉電機、同步帶、同步帶輪和軸承，所述吸盤機構與所述軸承連接，所述軸承與所述同步帶輪同軸連接，所述同步帶輪借助所述同步帶與所述旋轉電機傳動連接。

5.根據權利要求4所述的濺鍍下料裝置，其特征在于：所述升降組件包括升降電機、升降滑塊、升降滑軌、第一絲桿、第一絲桿支撐座和第一絲桿固定座，所述升降滑塊活動套接于所述升降滑軌上，所述旋轉機構與所述升降滑塊固定連接，所述第一絲桿一端與所述第一絲桿支撐座連接，所述第一絲桿的另一端穿過所述第一絲桿固定座并與所述升降電機連接。

6.根據權利要求3或4所述的濺鍍下料裝置，其特征在于：所述x向移動組件包括第一滑軌、第二滑軌、第一滑塊、第二滑塊、皮帶連接件、x向電機和皮帶，所述第一滑軌和第二滑軌平行設置，所述第一滑塊活動套接于所述第一滑軌上，所述第二滑塊活動套接于所述第二滑軌上，所述第一滑塊、第二滑塊和皮帶連接件固定連接，所述皮帶與所述x向電機傳動連接，所述皮帶穿過所述皮帶連接件并與所述皮帶連接件固定連接。

7.根據權利要求6所述的濺鍍下料裝置，其特征在于：所述升降組件與所述第一滑塊和第二滑塊固定連接。

8.根據權利要求3或4所述的濺鍍下料裝置，其特征在于：所述y向移動組件包括y向電機、第三滑軌、第三滑塊、第四滑軌、第四滑塊、第二絲桿和第二絲桿支撐座，所述x向移動組件與所述第三滑塊和第四滑塊固定連接，所述第三滑塊活動套接于所述第三滑軌上，所述第四滑塊活動套接于所述第四滑軌上，所述第二絲桿的一端與所述第二絲桿支撐座連接，所述第二絲桿的另一端與所述y向電機傳動連接，所述x向移動組件與所述第二絲桿傳動連接。

9.一種濺鍍下料設備，其特征在于：包括機架、輸送帶和權利要求1～8中任一所述的濺鍍下料裝置，所述濺鍍下料裝置與所述機架固定連接，所述濺鍍下料裝置設置于所述輸送帶上方。